特開2015-131792(P2015-131792A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2015-131792ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置
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  • 特開2015131792-ふっ素を含有する配位高分子錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 図000003
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