特開2015-212826(P2015-212826A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2015-212826マスクブランクス、ネガ型レジスト膜付きマスクブランクス、位相シフトマスク、およびそれを用いるパターン形成体の製造方法