【解決手段】本発明は、複数の誘電体層が厚さ方向に積層されたセラミック本体と、上記セラミック本体の両側面に互いに対向配置される一対の第1外部電極と、上記第1外部電極と離隔した位置で上記セラミック本体の両側面に互いに対向配置される一対の第2外部電極と、上記セラミック本体内で、上記誘電体層を挟んで互いに対向配置され、上記一対の第1外部電極と接続された一対の第1リード部を有する複数の第1内部電極、及び上記一対の第2外部電極と接続された一対の第2リード部を有する複数の第2内部電極と、上記セラミック本体の実装面を支持する支持部、及び一対の第1及び第2外部電極にそれぞれ接続された一対の接続部を含む第1及び第2端子電極と、を含む積層セラミックキャパシターを提供する。
前記第1及び第2端子電極は、前記支持部から前記セラミック本体の両端面の一部までそれぞれ延びて形成されたガイド部をさらに含む、請求項1から3の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシター。
前記第1及び第2外部電極の実装面と前記第1及び第2端子電極の支持部との間に配置された第1及び第2導電性接着層または高温半田付け部をさらに含む、請求項1から5の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシター。
前記第1及び第2外部電極は、第1及び第2ニッケル(Ni)めっき層と、前記第1及び第2ニッケルめっき層上にそれぞれ配置された第1及び第2スズ(Sn)めっき層と、を含む、請求項1から6の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシター。
セラミック本体の両側面に互いに対向するように配置され、前記セラミック本体の実装面の一部までそれぞれ延びて形成された一対の第1外部電極、及び前記一対の第1外部電極と離隔した位置で前記セラミック本体の両側面に互いに対向するように配置され、前記セラミック本体の実装面の一部までそれぞれ延びて形成された一対の第2外部電極を含む複数の積層セラミックキャパシターと、
前記セラミック本体の幅方向に並んで配置され、それぞれの積層セラミックキャパシターの実装面を支持する複数の第1支持部、前記複数の第1支持部のそれぞれから前記セラミック本体の両側の幅方向にそれぞれ延びて形成され、前記一対の第1外部電極にそれぞれ接続された一対の第1接続部、及び前記セラミック本体の幅方向に隣接した第1接続部を互いに連結する第1連結部を含む第1端子電極と、
前記セラミック本体の幅方向に並んで配置され、それぞれの積層セラミックキャパシターの実装面を支持する複数の第2支持部、前記複数の第2支持部のそれぞれから前記セラミック本体の両側の幅方向にそれぞれ延びて形成され、前記一対の第2外部電極にそれぞれ接続された一対の第2接続部、及び前記セラミック本体の幅方向に隣接した第2接続部を互いに連結する第2連結部を含む第2端子電極と、を含む積層セラミックキャパシターアセンブリー。
前記第1端子電極は、前記一対の第1接続部のそれぞれが前記セラミック本体の両側面の一部までそれぞれ延びて形成され、前記第2端子電極は、前記一対の第2接続部のそれぞれが前記セラミック本体の両側面の一部までそれぞれ延びて形成される、請求項8に記載の積層セラミックキャパシターアセンブリー。
前記第1端子電極は、前記複数の第1支持部のそれぞれが前記一対の第1接続部のそれぞれに比べ実装面側に突出して形成され、前記2端子電極は、前記複数の第2支持部のそれぞれが前記一対の第2接続部のそれぞれに比べ実装面側に突出して形成される、請求項8または9に記載の積層セラミックキャパシターアセンブリー。
前記第1端子電極は、前記複数の第1支持部のそれぞれから前記セラミック本体の両端面の一部までそれぞれ延びて形成されたガイド部をさらに含み、前記第2端子電極は、前記複数の第2支持部のそれぞれから前記セラミック本体の両端面の一部までそれぞれ延びて形成されたガイド部をさらに含む、請求項8から10の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシターアセンブリー。
前記第1端子電極は、前記ガイド部が前記複数の第1支持部のそれぞれに比べ実装面側に突出して形成され、前記第2端子電極は、前記ガイド部が前記複数の第2支持部のそれぞれに比べ実装面側に突出して形成される、請求項11に記載の積層セラミックキャパシターアセンブリー。
前記第1外部電極の実装面と前記第1端子電極の複数の第1支持部との間にそれぞれ配置された第1導電性接着層または高温半田付け部をさらに含み、前記第2外部電極の実装面と前記第2端子電極の複数の第2支持部との間にそれぞれ配置された第2導電性接着層または高温半田付け部をさらに含む、請求項8から12の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシターアセンブリー。
前記第1及び第2外部電極は、第1及び第2ニッケル(Ni)めっき層と、前記第1及び第2ニッケルめっき層上にそれぞれ配置された第1及び第2スズ(Sn)めっき層と、を含む、請求項8から13の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシターアセンブリー。
前記第1及び第2端子電極は、前記接続部が前記セラミック本体の側面に配置された前記第1及び第2外部電極の全体を覆うように形成される、請求項15に記載の積層セラミックキャパシター。
前記第1及び第2端子電極は、前記支持部から前記セラミック本体の長さ方向の両端面の一部までそれぞれ延びて形成されたガイド部をさらに含む、請求項15または16に記載の積層セラミックキャパシター。
前記第1及び第2端子電極は、前記一対の接続部が前記セラミック本体の両側面の一部までそれぞれ延びて形成される、請求項18に記載の積層セラミックキャパシターの実装基板。
前記第1及び第2端子電極は、前記支持部が前記一対の接続部に比べ実装面側に突出して形成される、請求項18または19に記載の積層セラミックキャパシターの実装基板。
前記第1及び第2端子電極は、前記支持部から前記セラミック本体の両端面の一部までそれぞれ延びて形成されたガイド部をさらに含む、請求項18から20の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシターの実装基板。
前記第1及び第2外部電極の実装面と前記第1及び第2端子電極の支持部との間に配置された第1及び第2導電性接着層または高温半田付け部をさらに含む、請求項18から22の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシターの実装基板。
前記第1及び第2外部電極は、第1及び第2ニッケル(Ni)めっき層と、前記第1及び第2ニッケルめっき層上にそれぞれ配置された第1及び第2スズ(Sn)めっき層と、を含む、請求項18から23の何れか1項に記載の積層セラミックキャパシターの実装基板。
【発明を実施するための形態】
【0016】
以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
【0017】
図1は本発明の第1実施形態による積層セラミックキャパシターを概略的に示した斜視図であり、
図2は本発明の第1実施形態による積層セラミックキャパシターから第1及び第2端子電極を分離して概略的に示した分解斜視図であり、
図3は本発明の実施形態による積層セラミックキャパシターの内部電極の構造を示した分解斜視図である。
【0018】
図1から
図3を参照すると、本実施形態による積層セラミックキャパシター100は、セラミック本体110と、一対の第1外部電極131、132と、一対の第2外部電極133、134と、複数の第1及び第2内部電極121、122と、第1及び第2端子電極161、162と、を含む。
【0019】
セラミック本体110は、複数の誘電体層111を厚さ方向に積層した後、焼成したものである。
【0020】
この際、セラミック本体110の互いに隣接するそれぞれの誘電体層111同士は、境界が確認できないほど一体化されていることができる。
【0021】
セラミック本体110は六面体形状であることができるが、これに本発明が限定されるものではない。
【0022】
本実施形態では、説明の便宜のために、セラミック本体110の誘電体層111が積層される厚さ方向の互いに対向する面を上下面、上記上下面を連結するセラミック本体110の長さ方向の面を両端面、上記両端面と垂直に交差し、互いに対向する幅方向の面を両側面と定義する。
【0023】
また、セラミック本体110は、その寸法が特に制限されるものではないが、例えば、2.0mm(L)×1.2mm(W)などのサイズにして、高容量の積層セラミックキャパシター100を構成することができる。
【0024】
また、セラミック本体110の最外側面である上下面には、必要に応じて、所定厚さのカバー層(不図示)が形成されることができる。
【0025】
誘電体層111は、積層セラミックキャパシター100の容量設計に応じて、一層の厚さを任意に変更することができる。
【0026】
また、誘電体層111は、高誘電率のセラミック材料を含有することができ、例えば、BaTiO
3系セラミック粉末などを含有することができるが、これに本発明が限定されるものではない。
【0027】
上記BaTiO
3系セラミック粉末は、例えば、BaTiO
3にCa、Zrなどが一部固溶された(Ba
1−xCa
x)TiO
3、Ba(Ti
1−yCa
y)O
3、(Ba
1−xCa
x)(Ti
1−yZr
y)O
3、またはBa(Ti
1−yZr
y)O
3などが挙げられるが、これに本発明が限定されるものではない。
【0028】
一方、誘電体層111には、上記セラミック粉末とともに、セラミック添加剤、有機溶剤、可塑剤、結合剤、及び分散剤の少なくとも一つ以上がさらに添加されることができる。
【0029】
上記セラミック添加剤としては、例えば、遷移金属酸化物または炭化物、希土類元素、マグネシウム(Mg)またはアルミニウム(Al)などを用いることができる。
【0030】
一対の第1外部電極131、132は、セラミック本体110の両側面に互いに対向するように形成されるとともに、セラミック本体110の実装面の一部までそれぞれ延びて形成される。
【0031】
一対の第2外部電極133、134は、セラミック本体110の長さ方向に第1外部電極131、132から離隔した位置で、セラミック本体110の両側面に互いに対向するように形成されるとともに、セラミック本体110の実装面の一部までそれぞれ延びて形成される。
【0032】
第1及び第2外部電極131〜134は、良好な電気特性を有し、且つ優れた耐ヒートサイクル性及び耐湿性などの高信頼性を提供するために、銅(Cu)を含有する外部電極用導電性ペーストを焼成することで形成されることができるが、これに本発明が限定されるものではない。
【0033】
また、第1及び第2外部電極131〜134は、必要に応じて、セラミック本体110の実装面の反対面の一部まで延びて形成されることができる。
【0034】
また、必要に応じて、第1及び第2外部電極131〜134の表面をめっき処理して、めっき層を形成することができる。
【0035】
この際、上記めっき層は、第1及び第2外部電極131〜134上にニッケル(Ni)をめっきして形成されたニッケルめっき層と、上記ニッケルめっき層上にスズ(Sn)をめっきして形成されたスズめっき層と、を含むことができる。
【0036】
第1及び第2内部電極121、122は、誘電体層111を構成するセラミックシート上に形成されて積層された後、焼成されることで、一つの誘電体層111を挟んでセラミック本体110の内部に交互に配置される。
【0037】
該第1及び第2内部電極121、122は、互いに異なる極性を有する一対の電極であって、誘電体層111の積層方向に沿って互いに対向するように配置され、中間に配置された誘電体層111によって互いに電気的に絶縁されることができる。
【0038】
第1内部電極121は、セラミック本体110の両側面を介して露出され、一対の第1外部電極131、132とそれぞれ接続された一対の第1リード部121a、121bを有することができる。
【0039】
第2内部電極122は、セラミック本体110の両側面を介して露出され、一対の第2外部電極133、134とそれぞれ接続された一対の第2リード部122a、122bを有することができる。
【0040】
この際、第1及び第2内部電極121、122は導電性金属で形成され、例えば、ニッケル(Ni)またはニッケル(Ni)合金などの材料で形成されることができるが、これに本発明が限定されるものではない。
【0041】
上記の構成により、第1及び第2外部電極131〜134に所定の電圧を印加すると、互いに対向する第1及び第2内部電極121、122の間に電荷が蓄積される。
【0042】
この際、積層セラミックキャパシター100の静電容量は、誘電体層111の積層方向に沿って互いに重なる第1及び第2内部電極121、122の重なった面積に比例する。
【0043】
本実施形態によると、第1リード部121a、121bと第2リード部122a、122bとの距離が短く、それぞれ一対の第1及び第2外部電極がセラミック本体110の側面に構成されるため、電流経路(current path)が短くて、積層セラミックキャパシター100のESR(等価直列抵抗:Equivalent Series Resistance)が低減されることができる。このようにESRが低減されると、リップル電流(ripple current)による自己発熱が減少して、信頼性が向上されるとともに、上記リップル電流の許容値を高めることができる。
【0044】
第1端子電極161は、セラミック本体110の下面が支持される第1支持部161aと、一対の第1接続部161b、161cと、を含むことができる。
【0045】
第1接続部161b、161cは、第1支持部161aからセラミック本体110の両側の幅方向にそれぞれ延びて形成され、一対の第1外部電極131、132とそれぞれ接続されて電気的に連結される。
【0046】
この際、一対の第1接続部161b、161cは、セラミック本体110の両側面の一部までそれぞれ延びて形成されることができる。これにより、第1端子電極161と第1外部電極131、132との電気的連結性が向上されることができる。
【0047】
また、第1端子電極161は、第1支持部161aからセラミック本体110の一端面の方向に延びて形成された第1ガイド部161dを有することができる。
【0048】
この際、第1ガイド部161dは、セラミック本体110の一端面の一部まで延びて形成されることができる。
【0049】
第1ガイド部161dは、第1端子電極161をセラミック本体110に付着する時、第1接続部161b、161cと第1外部電極131、132とがずれることなく互いに対応する位置で結合されるように、第1端子電極161の付着位置をガイドする役割をすることができる。
【0050】
第2端子電極162は、セラミック本体110の下面が支持される第2支持部162aと、一対の第2接続部162b、162cと、を含むことができる。
【0051】
第2接続部162b、162cは、第2支持部162aからセラミック本体110の両側の幅方向にそれぞれ延びて形成され、一対の第2外部電極133、134とそれぞれ接続されて電気的に連結される。
【0052】
この際、一対の第2接続部162b、162cは、セラミック本体110の両側面の一部までそれぞれ延びて形成されることができる。これにより、第2端子電極162と第2外部電極133、134との電気的連結性が向上されることができる。
【0053】
また、第2端子電極162は、第2支持部162aからセラミック本体110の一端面の方向に延びて形成された第2ガイド部162dを有することができる。
【0054】
この際、第2ガイド部162dは、セラミック本体110の一端面の一部まで延びて形成されることができる。
【0055】
第2ガイド部162dは、第2端子電極162をセラミック本体110に付着する時、第2接続部162b、162cと第2外部電極133、134とがずれることなく互いに対応する位置で結合されるように、第2端子電極162の付着位置をガイドする役割をすることができる。
【0056】
一方、第1及び第2外部電極131〜134と第1及び第2端子電極161、162の第1及び第2支持部161a、162aとの間には、必要に応じて、導電性ペーストからなる第1及び第2導電性接着層(不図示)または高温半田付け部(不図示)が形成されることができる。
【0057】
本実施形態によると、第1及び第2外部電極131〜134を介して基板に伝達される積層セラミックキャパシター100の振動量を第1及び第2端子電極161、162が緩和することで、アコースティックノイズが低減されることができる。
【0058】
また、外部から伝達される機械的なストレスを第1及び第2端子電極161、162が吸収することで、積層セラミックキャパシター100の内部にクラックが発生することを防止することができる。
【0059】
また、必要に応じて、第1及び第2端子電極161、162の表面をめっき処理して、めっき層を形成することができる。
【0060】
上記めっき層により、第1及び第2端子電極161、162を基板に実装する時、半田付けがより効率的に行われることができる。
【0061】
この際、上記めっき層は、第1及び第2端子電極161、162上にニッケル(Ni)をめっきして形成されたニッケルめっき層と、上記ニッケルめっき層上にスズ(Sn)をめっきして形成されたスズめっき層と、を含むことができる。
【0062】
図4は本発明の第2実施形態による積層セラミックキャパシターを概略的に示した斜視図であり、
図5は本発明の第2実施形態による積層セラミックキャパシターから第1及び第2端子電極を分離して概略的に示した分解斜視図である。
【0063】
ここで、上述の一実施形態と類似の部分についての具体的な説明は重複を避けるために省略し、上述の実施形態と異なる構造を有する第1及び第2端子電極141、142について具体的に説明する。
【0064】
図4及び
図5を参照すると、第1端子電極141は、セラミック本体110の下面と平行に配置された第1支持部141aと、一対の第1接続部141b、141cと、を含むことができる。
【0065】
第1接続部141b、141cは、セラミック本体110の下面を支持し、一対の第1外部電極131、132とそれぞれ接続されて電気的に連結される。
【0066】
また、第1接続部141b、141cは、必要に応じて、セラミック本体110の両側面の一部までそれぞれ延びて形成されることができる。
【0067】
第1支持部141aは、一対の第1接続部141b、141cに比べ下側に突出して形成されることができる。
【0068】
このようにセラミック本体110の下面と第1支持部141aとの間に備えられた空間部により、第1端子電極141の弾性力が向上されることができる。
【0069】
また、第1端子電極141は、第1支持部141aからセラミック本体110の一端面の方向に延びて形成された第1ガイド部141dを有することができる。
【0070】
この際、第1ガイド部141dは、セラミック本体110の一端面の一部まで延びて形成されることができる。
【0071】
第2端子電極142は、セラミック本体110の下面と平行に配置された第2支持部142aと、一対の第2接続部142b、142cと、を含むことができる。
【0072】
第2接続部142b、142cは、セラミック本体110の下面を支持し、一対の第2外部電極133、134とそれぞれ接続されて電気的に連結される。
【0073】
また、第2接続部142b、142cは、必要に応じて、セラミック本体110の両側面の一部までそれぞれ延びて形成されることができる。
【0074】
第2支持部142aは、一対の第2接続部142b、142cに比べ下側に突出して形成されることができる。
【0075】
このようにセラミック本体110の下面と第2支持部142aとの間に備えられた空間部により、第2端子電極142の弾性力が向上されることができる。
【0076】
また、第2端子電極142は、第2支持部142aからセラミック本体110の一端面の方向に延びて形成された第2ガイド部142dを有することができる。
【0077】
この際、第2ガイド部142dは、セラミック本体110の一端面の一部まで延びて形成されることができる。
【0078】
したがって、第1及び第2端子電極141、142の向上された弾性力により、積層セラミックキャパシター100の圧電性によって発生して第1及び第2外部電極131〜134を介して基板に伝達される積層セラミックキャパシター100の振動量がさらに緩和されて、アコースティックノイズがさらに低減されることができる。
【0079】
図6は本発明の第3実施形態による積層セラミックキャパシターを概略的に示した斜視図であり、
図7は本発明の第3実施形態による積層セラミックキャパシターから第1及び第2端子電極を分離して概略的に示した分解斜視図である。
【0080】
ここで、上述の一実施形態と類似の部分についての具体的な説明は重複を避けるために省略し、上述の実施形態と異なる構造を有する第1及び第2端子電極151、152について具体的に説明する。
【0081】
図6及び
図7を参照すると、第1端子電極151は、第1支持部151aと、一対の第1接続部151b、151cと、を含むことができる。
【0082】
第1支持部151a及び一対の第1接続部151b、151cはセラミック本体110の下面を支持する。
【0083】
また、第1接続部151b、151cは、必要に応じて、セラミック本体110の両側面の一部までそれぞれ延びて形成されることができる。
【0084】
また、第1端子電極151は、第1支持部151aからセラミック本体110の一端面の方向に延びて形成された第1ガイド部151dを有することができる。
【0085】
この際、第1ガイド部151dは、第1支持部151a及び第1接続部151b、151cに比べ下側に突出して形成される。
【0086】
このようにセラミック本体110の下面と第1ガイド部141dとの間に備えられた空間部により、第1端子電極151の弾性力が向上されることができる。
【0087】
この際、第1ガイド部151dは、セラミック本体110の一端面の一部まで延びて形成されることができる。
【0088】
第2端子電極152は、第2支持部152aと、一対の第2接続部152b、152cと、を含むことができる。
【0089】
第2支持部152a及び一対の第2接続部152b、152cはセラミック本体110の下面を支持する。
【0090】
また、第2接続部152b、152cは、必要に応じて、セラミック本体110の両側面の一部までそれぞれ延びて形成されることができる。
【0091】
また、第2端子電極152は、第2支持部152aからセラミック本体110の一端面の方向に延びて形成された第2ガイド部152dを有することができる。
【0092】
この際、第2ガイド部152dは、第2支持部152a及び第2接続部152b、152cに比べ下側に突出して形成される。
【0093】
このようにセラミック本体110の下面と第2ガイド部152dとの間に備えられた空間部により、第2端子電極152の弾性力が向上される。
【0094】
この際、第2ガイド部152dは、セラミック本体110の一端面の一部まで延びて形成されることができる。
【0095】
したがって、第1及び第2端子電極151、152の向上された弾性力により、積層セラミックキャパシター100の圧電性によって発生して第1及び第2外部電極131〜134を介して基板に伝達される積層セラミックキャパシター100の振動量がさらに緩和されて、アコースティックノイズがさらに低減されることができる。
【0096】
図8は本発明の一実施形態による積層セラミックキャパシターアセンブリーを概略的に示した斜視図であり、
図9は
図8の積層セラミックキャパシターアセンブリーの第1及び第2端子電極を示した斜視図である。
【0097】
ここで、上述の一実施形態と類似の部分についての具体的な説明は重複を避けるために省略し、上述の実施形態と異なる構造を有する第1及び第2端子電極2410、2420及び複数の積層セラミックキャパシター100の実装構造について具体的に説明する。
【0098】
本実施形態の積層セラミックキャパシターアセンブリーは、複数個の上記実施形態の積層セラミックキャパシターが一つの第1及び第2端子電極に並列に連結された構造である。
【0099】
上記のように、複数個の積層セラミックキャパシターを一対の外部電極に接続させると、素子の複合化が可能となり、素子の電気的特性及び多機能化の実現、実装面積の減少などにおいて有利である。
【0100】
図8及び
図9を参照すると、第1端子電極2410は、セラミック本体1100、2100の幅方向に並んで配置され、それぞれの積層セラミックキャパシターのセラミック本体1100、2100の下面と平行に配置された複数の第1支持部2411、2413と、それぞれの第1支持部2411、2413からセラミック本体1100、2100の両側の幅方向にそれぞれ延びて形成され、一対の第1外部電極1310、1320、2310、2320にそれぞれ接続された一対の第1接続部2412、2414と、セラミック本体1100、2100の幅方向に隣接した第1接続部を互いに連結する第1連結部2417と、を含む。
【0101】
本実施形態において、それぞれの第1接続部2412、2414はそれぞれのセラミック本体1100、2100の下面を支持することができる。
【0102】
また、それぞれの第1支持部2411、2413は、第1接続部2412、2414に比べ下側に突出して形成されることができる。
【0103】
また、第1端子電極2410は、それぞれの第1支持部2411、2413からセラミック本体1100、2100の一端面の方向に延びて形成された第1ガイド部2415、2416を有することができる。
【0104】
第2端子電極2420は、セラミック本体1100、2100の幅方向に並んで配置され、それぞれの積層セラミックキャパシターのセラミック本体1100、2100の下面と平行に配置された複数の第2支持部2421、2423と、それぞれの第2支持部2421、2423からセラミック本体1100、2100の両側の幅方向にそれぞれ延びて形成され、一対の第2外部電極1330、1340、2330、2340にそれぞれ接続された一対の第2接続部2422、2424と、セラミック本体1100、2100の幅方向に隣接した第2接続部を互いに連結する第2連結部2427と、を含む。
【0105】
本実施形態において、それぞれの第2接続部2422、2424はそれぞれのセラミック本体1100、2100の下面を支持することができる。
【0106】
また、それぞれの第2支持部2421、2423は、第2接続部2422、2424に比べ下側に突出して形成されることができる。
【0107】
また、第2端子電極2420は、それぞれの第2支持部2421、2423からセラミック本体1100、2100の一端面の方向に延びて形成された第2ガイド部2425、2426を有することができる。
【0108】
図11は本発明の第4実施形態による積層セラミックキャパシターを示した斜視図であり、
図12は
図11の分解斜視図であり、
図13は
図11の積層セラミックキャパシターの第1及び第2内部電極の構造を示した分解斜視図である。
【0109】
ここで、上述の一実施形態と類似の部分についての具体的な説明は重複を避けるために省略し、上述の実施形態と異なる構造を有する第1及び第2内部電極21、22及び第1及び第2端子電極61、62について具体的に説明する。
【0110】
図11から
図13を参照すると、誘電体層11に配置される第1及び第2内部電極21、22は、セラミック本体10の同一側面を介して露出される第1及び第2リード部21a、22aを有する。この際、第1及び第2リード部21a、22aは、セラミック本体10の長さ方向に互いに離隔して配置される。
【0111】
また、セラミック本体10の一側面には、第1及び第2外部電極31、32が長さ方向に互いに離隔して配置される。第1及び第2外部電極31、32は、セラミック本体10の実装面の一部まで延びて形成される。
【0112】
本実施形態によると、内部電極がセラミック本体の一側面を介してのみ露出されるように形成され、外部電極もセラミック本体の一側面にのみ形成されるため、積層セラミックキャパシターの圧電性によって発生して外部電極を介して基板に伝達される積層セラミックキャパシターの振動量が減少して、アコースティックノイズがさらに低減されることができる。
【0113】
この際、第1端子電極61は、セラミック本体10の実装面が支持される第1支持部61aと、少なくとも一つの第1接続部61b、61cと、を含むことができる。
【0114】
第1接続部61b、61cは、第1支持部61aからセラミック本体10の幅方向の両側面に沿ってそれぞれ延びて形成され、このうち一つは第1外部電極31と接続されて電気的に連結される。
【0115】
また、第1接続部61b、61cがセラミック本体10の上端部まで長く延びて形成されることで、第1端子電極61と第1外部電極31との電気的連結性が向上されることができる。
【0116】
また、第1端子電極61は、第1支持部61aからセラミック本体10の長さ方向に延びて形成された第1ガイド部61dを有することができる。
【0117】
この際、第1ガイド部61dは、セラミック本体10の一端面の一部まで延びて折り曲げられて形成されることができる。
【0118】
第1ガイド部61dは、第1端子電極61をセラミック本体10に付着する時、第1接続部61bと第1外部電極31とがずれることなく互いに対応する位置で結合されるように、第1端子電極61の付着位置をガイドする役割をすることができる。
【0119】
第2端子電極62は、セラミック本体10の実装面が支持される第2支持部62aと、少なくとも一つの第2接続部62b、62cと、を含むことができる。
【0120】
第2接続部62b、62cは、第2支持部62aからセラミック本体10の幅方向の両側面に沿ってそれぞれ延びて形成され、このうち一つは第2外部電極32と接続されて電気的に連結される。
【0121】
この際、第2接続部62b、62cがセラミック本体10の上端部まで長く延びて形成されることで、第2端子電極62と第2外部電極32との電気的連結性が向上されることができる。
【0122】
また、第2端子電極62は、第2支持部62aからセラミック本体10の長さ方向に延びて形成された第2ガイド部62dを有することができる。
【0123】
この際、第2ガイド部62dは、セラミック本体10の一端面の一部まで延びて折り曲げられて形成されることができる。
【0124】
第2ガイド部62dは、第2端子電極62をセラミック本体10に付着する時、第2接続部62bと第2外部電極32とがずれることなく互いに対応する位置で結合されるように、第2端子電極62の付着位置をガイドする役割をすることができる。
【0125】
図10は本発明の第2実施形態による積層セラミックキャパシターの実装基板を概略的に示した側断面図である。
【0126】
図10を参照すると、本発明の第2実施形態による積層セラミックキャパシター100の実装基板200は、積層セラミックキャパシター100が実装される基板210と、基板210の上面に互いに離隔して形成された第1及び第2電極パッド221、222と、を含む。
【0127】
積層セラミックキャパシター100は、セラミック本体110の実装面である下面に突出して設けられた第1及び第2端子電極141、142の第1及び第2支持部141a、142aが、それぞれ基板210の第1及び第2電極パッド221、222上に接触するように配置された状態で、半田231、232により基板210と電気的に連結されることができる。
【0128】
本実施形態によると、積層セラミックキャパシター100の実装基板200は、第1及び第2端子電極141、142により、半田231、232の高さが最小限に限定されて形成されることができる。
【0129】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。