特開2015-78093(P2015-78093A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2015-78093３Ｃ−ＳｉＣエピタキシャル層の製造方法、３Ｃ−ＳｉＣエピタキシャル基板および半導体装置
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