特開2015-96641薄膜形成装置および薄膜形成方法

発明の名称　薄膜形成装置および薄膜形成方法

出願人　株式会社オプトラン　（識別番号 300075751）

　　　　特許公開件数ランキング 1670 位（12件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1047 位（18件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2015-96641

公報発行日　2015年5月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2015-96641

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