特開2016-118563パターン化構造の光学検査を最適化するための方法およびシステム

発明の名称　パターン化構造の光学検査を最適化するための方法およびシステム

出願人　ノヴァ・メジャーリング・インストゥルメンツ・リミテッド　（識別番号 509335926）

　　　　特許公開件数ランキング 14225 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 12103 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2016-118563

公報発行日　2016年6月30

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-118563

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