特開2016-191784マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法

発明の名称　マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法

出願人　ＨＯＹＡ株式会社　（識別番号 113263）

　　　　特許公開件数ランキング 494 位（57件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 296 位（90件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2016-191784

公報発行日　2016年11月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-191784

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