発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の目的は、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化処理に使用された脱硝触媒を含んで成る触媒層を脱硝装置に設置したままで前記脱硝触媒の性能を回復させる方法を提供することである。
別の観点から、本発明の目的は、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化処理に使用された脱硝触媒を含んで成る触媒層を脱硝装置に設置したままで前記脱硝触媒に吸着したヒ素のオキソ酸を無毒化する方法を提供することである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、脱硝装置内に脱硝触媒を充填したままで脱硝触媒の性能を回復させることができる。本発明によれば、新たな脱硝触媒と交換しなければならない時までの期間を延ばすことができるので、経費の節減または資源の有効利用に資することができる。 石炭燃焼排ガスには、ヒ酸、亜ヒ酸などのヒ素化合物が多く含まれている。酸化チタンを主成分として含有する脱硝触媒で石炭燃焼排ガスの浄化処理を行うと、ヒ素化合物が、脱硝触媒の微細孔の奥にまで入り込んで、例えば、式１で表されるような反応をして強く吸着し、酸化チタン表面の活性点を失活させる。
ＴｉＯ₂＋Ａｓ₂Ｏ₃＋Ｏ₂ → ＴｉＯ₂−Ａｓ₂Ｏ₅（吸着） （１）
従来の脱硝触媒の再生法では、吸着したヒ素化合物を酸洗浄などで酸化チタン表面から除去して、酸化チタン表面の活性点を再生させていた。 本発明にしたがって、酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含む脱硝触媒を用いて石炭燃焼排ガスの浄化処理を行い、その後、ダスト除去、次いで加湿を行うと、酸化チタンに吸着したヒ素化合物が、酸化チタンから脱離し、Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの硫酸塩もしくは酸化物と反応（例えば、式２で表される反応）してヒ酸塩化合物（ＡｌＡｓＯ₄、Ｍｎ₂（ＡｓＯ₄）₃、ＢｉＡｓＯ₄、およびＭｇ₂（ＡｓＯ₄）₃）を生成するので、酸化チタン表面の活性点を再生させることができる。
ＴｉＯ₂−Ａｓ₂Ｏ₅（吸着）＋Ａｌ₂（ＳＯ₄）₃＋３Ｈ₂Ｏ
→ ＴｉＯ₂＋２ＡｌＡｓＯ₄＋３Ｈ₂ＳＯ₄ （２）