技術分野
球体研磨装置及び球体研磨方法に関するものである。
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】切粉の排出性を良好とすることにより球体の真球度を向上することができる球体研磨装置を提供する。 【解決手段】球体研磨装置(1)は、環状に形成される第一研磨溝(23a)を有する第一研磨盤(23)と、第一研磨盤(23)に対して相対的に回転可能に設けられ、第一研磨盤(23)に対向する面に環状に形成される第二研磨溝(33a)を有する第二研磨盤(33)と、環状に形成され、第一研磨盤(23)と第二研磨盤(33)との対向領域に配置される保持器(17)とを備える。保持器(17)は、第一研磨溝(23)と第二研磨溝(33)との間に配置される複数の球体(2)を保持し、且つ、外周面又は内周面に開口する複数のポケット(17a1)を備える。 【選択図】図4
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
特許文献1に記載の球体研磨装置では、球体が移動する環状経路に対して、内周側には第一、第二研磨盤が位置し、外周側には第三研磨盤が位置する。そのため、切粉の排出性が良好ではない。一方、特許文献2に記載の球体研磨装置では、対向する第一回転盤と第二回転盤とにより球体が挟まれるため、切粉は、回転盤の径方向に排出可能となる。しかし、保持器が球体の周方向全周に亘って囲むため、やはり切粉の排出性が良好ではない。
仮に切粉が研磨領域に堆積してしまうと、堆積した切粉が球体の真球度に影響を及ぼすおそれがある。そこで、切粉の排出性を良好にすることが望まれる。
本発明は、切粉の排出性を良好とすることにより球体の真球度を向上することができる球体研磨装置及び球体研磨方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
(1.球体研磨装置)
球体研磨装置は、一方の面に中心軸線回りに環状に形成される第一研磨溝を有する第一研磨盤と、前記第一研磨盤の中心軸線と同軸上の中心軸線回りに前記第一研磨盤に対して相対的に回転可能に設けられ、前記第一研磨盤の前記一方の面に対向する面に、前記中心軸線回りに環状に形成される第二研磨溝を有する第二研磨盤と、環状に形成され、前記第一研磨盤と前記第二研磨盤との対向領域に配置される保・・・ 続きを
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この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】 本実施形態の球体研磨装置の構成を示す図である。
【図2】 図1の球体研磨装置を構成する保持器の拡大軸線方向断面図である。図3のII-II断面図である。
【図3】 図2の保持器のIII方向から見た図である。
【図4】 第一研磨盤、第二研磨盤、保持器及び球体を含む部分の拡大図である。
【図5】 制御装置のブロック構成図である。
【図6】 第一研磨盤と第二研磨盤の回転速度を示す図である。
【図7】 第一研磨盤と第二研磨盤の回転速度を図6に示す態様とした実施例と、第一研磨盤を固定し第二研磨盤を一定回転とした場合の比較例について、球体の真球度比を示す。
【図8】 他の実施形態における球体研磨装置の一部分を示す図であって、第一研磨盤、第二研磨盤、保持器、及び、撮像装置を含む部分の拡大図である。
1:球体研磨装置、 2:球体、 11:基台、 12:コラム、 16:制御装置、 17:保持器、 17a:本体部、 17a1:ポケット、 17b:つば部、 18:流体供給システム、 19:撮像装置、 23:第一研磨盤、 23a:第一研磨溝、 24:第一静圧軸受、 33:第二研磨盤、 33a:第二研磨溝、 34:第二静圧軸受
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