特開 2016-224727 電極の製造方法、電極、タッチパネル及び有機ＥＬ照明素子

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2016-224727(P2016-224727A)

(43)【公開日】2016年12月28日

(54)【発明の名称】電極の製造方法、電極、タッチパネル及び有機ＥＬ照明素子

(51)【国際特許分類】

   G06F 3/041 20060101AFI20161205BHJP

   C09D 11/52 20140101ALI20161205BHJP

   H01B 13/00 20060101ALI20161205BHJP

   H01B 1/22 20060101ALN20161205BHJP

   H01B 1/00 20060101ALN20161205BHJP

【ＦＩ】

   G06F3/041 660

   C09D11/52

   H01B13/00 503B

   H01B13/00 503D

   H01B1/22 A

   H01B1/00 H

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】31

(21)【出願番号】特願2015-110708(P2015-110708)

(22)【出願日】2015年5月29日

(71)【出願人】

【識別番号】000108410

【氏名又は名称】デクセリアルズ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100147485

【弁理士】

【氏名又は名称】杉村 憲司

(74)【代理人】

【識別番号】100136858

【弁理士】

【氏名又は名称】池田 浩

(74)【代理人】

【識別番号】100195556

【弁理士】

【氏名又は名称】柿沼 公二

(72)【発明者】

【氏名】井上 純一

【テーマコード（参考）】

4J039

5G301

5G323

【Ｆターム（参考）】

4J039AB02

4J039AD04

4J039AD05

4J039AD06

4J039AD09

4J039AD21

4J039BA02

4J039BC07

4J039BC10

4J039BC11

4J039BC18

4J039BC20

4J039BD01

4J039BE12

4J039BE22

4J039DA02

4J039EA03

4J039EA06

4J039EA24

4J039FA02

4J039GA09

5G301DA03

5G301DA42

5G301DD01

5G301DE01

5G323BA01

5G323BB06

5G323BC03

5G323CA05

(57)【要約】

【課題】抵抗が低く且つ均一な金属ナノワイヤー層（透明導電膜）が基材の一部に形成された電極を、外観を損ねることなく製造することが可能な、電極の製造方法の提供。
【解決手段】フレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法により、金属ナノワイヤーを含む金属ナノワイヤー分散液を基材の一部の上に塗布し、金属ナノワイヤー分散膜を得る塗布工程と、前記金属ナノワイヤー分散膜を乾燥して、金属ナノワイヤー層を形成する金属ナノワイヤー層形成工程とを含む、電極の製造方法であって、前記フレキソ樹脂版は、前記金属ナノワイヤー分散液を収容するための複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有し、前記塗布工程では、前記フレキソ樹脂版の塗布領域における凹部及び凹部以外の部分の両方により、基材の上に金属ナノワイヤー分散液を塗布する、ことを特徴とする、電極の製造方法。
【選択図】図３（ａ）

【特許請求の範囲】

【請求項1】

フレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法により、金属ナノワイヤーを含む金属ナノワイヤー分散液を基材の一部の上に塗布し、金属ナノワイヤー分散膜を得る塗布工程と、
前記金属ナノワイヤー分散膜を乾燥して、金属ナノワイヤー層を形成する金属ナノワイヤー層形成工程とを含む、電極の製造方法であって、
前記フレキソ樹脂版は、ゴム弾性を有し、且つ、ＪＩＳ Ｋ６２５３によるショアＡ硬度が５０〜９０度であり、
前記フレキソ樹脂版は、前記金属ナノワイヤー分散液を収容するための複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有し、
前記格子形状は、解像度が１００〜２２０線／インチであり、
前記塗布領域における凹部のセル容積が１５〜６０ｃｍ^３／ｍ^２であり、
前記凹部の深さ（μｍ）に対する前記セル容積の比が０．３〜０．４５であり、
前記塗布領域における凹部占有面積率が６５〜８５％であり、
前記塗布工程では、前記フレキソ樹脂版の塗布領域における凹部及び凹部以外の部分の両方により、基材の上に金属ナノワイヤー分散液を塗布する、ことを特徴とする、電極の製造方法。

【請求項2】

前記金属ナノワイヤー分散液の粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓである、請求項１に記載の電極の製造方法。

【請求項3】

基材の上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程を更に含み、
前記塗布工程において、前記金属ナノワイヤー分散液が前記アンカー層の一部の上に塗布される、請求項１又は２に記載の電極の製造方法。

【請求項4】

前記アンカー層形成工程において、前記基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上に前記アンカー層を形成する、請求項３に記載の電極の製造方法。

【請求項5】

前記塗布工程が、前記ポリシラザンの反応率が５０〜９５％であるときに実施される、請求項４に記載の電極の製造方法。

【請求項6】

前記ポリシラザンがパーヒドロポリシラザンである、請求項４又は５に記載の電極の製造方法。

【請求項7】

前記金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーである、請求項１〜６のいずれかに記載の電極の製造方法。

【請求項8】

請求項１〜７のいずれかに記載の電極の製造方法により製造されたことを特徴とする、電極。

【請求項9】

請求項８に記載の電極を備えることを特徴とする、タッチパネル。

【請求項10】

請求項８に記載の電極を備えることを特徴とする、有機ＥＬ照明素子。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、電極の製造方法、電極、タッチパネル及び有機ＥＬ照明素子に関し、特に、透明導電膜としての金属ナノワイヤー層が形成された電極の製造方法、当該電極の製造方法により製造された電極、並びに当該電極を備えるタッチパネル及び有機ＥＬ照明素子に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、タッチパネルや有機ＥＬ照明素子などに使用される透明導電膜として、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の金属酸化物を用いた透明導電膜に代えて、塗布や印刷による成膜が可能で、しかも曲げやたわみに対する耐性も高く、且つ低抵抗を実現可能な金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜が検討されている。金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜は、レアメタルであるインジウムを使わない次世代の透明導電膜として注目されている。

【0003】

この金属ナノワイヤーを用いた透明導電膜を基材上に形成して電極を得る方法としては、例えば、（ｉ）ダイコーター等を用いて金属ナノワイヤー分散液を基材全面に塗布し、その後、露光現像等により回路を形成する方法、（ｉｉ）開口部による所望のパターンを形成したマスクを基材上に配し、その上から、スプレーによって金属ナノワイヤーの吹き付け塗布（スプレー塗布）を行う方法、などが提案されている（例えば、特許文献１参照）。

【0004】

しかしながら、上述した基材全面に塗布する方法では、基材の一部のみに回路を形成したい場合に、余分な場所にまで金属ナノワイヤー分散液を塗布することになり、高価な金属ナノワイヤーが無駄になることのみならず、余分な場所に塗布された金属ナノワイヤー層を除去する手間が掛かるという問題があった。また、スプレーにより吹き付け塗布する方法では、基材の一部のみに回路を形成することは可能であるものの、スプレーノズル又は基材をＸ−Ｙ方向に移動させる必要があるため、時間が掛かるという問題があった。さらに、スプレーによる塗布方法には、（ｉ）ノズル詰まりの問題、（ｉｉ）洗浄に手間が掛かるという問題、（ｉｉｉ）使用後に金属ナノワイヤー分散液が配管に残るため、歩留まりが悪化するという問題、などがあった。

【0005】

これらの問題を解決する手段として、例えば、スクリーン印刷や凸版印刷などの印刷法により、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布し、その後、露光現像等により回路を形成する方法が挙げられる。しかしながら、一般に、金属ナノワイヤー分散液は粘度が低いため、通常のスクリーン印刷や凸版印刷では、塗布が困難となるか、又はスジや印刷ムラ等の外観不良を引き起こす可能性が高い。なお、金属ナノワイヤー分散液の粘度を高くするために、金属ナノワイヤー分散液に増粘剤等の添加量を多くすると、印刷による塗布は可能になるものの、不導体である増粘剤が乾燥後の膜内に残るため、導通性を妨げるという問題が生じる。

【0006】

ここで、低粘度である金属ナノワイヤー分散液でも印刷可能な印刷法として、フレキソ印刷法が挙げられる。フレキソ印刷法は、凸版印刷の一種であるが、弾力のある凸版を用いるため、通常、ある程度低い粘度の液を用いることができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0007】

【特許文献1】特開２０１０−１３７２２０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

しかしながら、従来のフレキソ印刷法は、低粘度の金属ナノワイヤー分散液の塗布を達成し得るものの、その塗布量は十分なものとならない可能性が高い。基材上への金属ナノワイヤー分散液の塗布量が少ない場合、乾燥後に得られる金属ナノワイヤー層（透明導電膜）は、膜厚が薄く、金属ナノワイヤーが十分に分散されずに抵抗値そのもの及び抵抗値の面内分布が大きくなる傾向にある。このような透明導電膜は、タッチパネルや有機ＥＬ照明素子に用いたときに、十分な性能を発揮することができない虞がある。

【0009】

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、抵抗が低く且つ均一な金属ナノワイヤー層（透明導電膜）が基材の一部に形成された電極を、外観を損ねることなく製造することが可能な、電極の製造方法、並びに、抵抗が低く且つ均一であり、外観も良好である電極を備えるタッチパネル及び有機ＥＬ照明素子を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、所定のフレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法により金属ナノワイヤー分散液を塗布することにより、抵抗が低く且つ均一な金属ナノワイヤー層が基材の一部に形成された電極を、外観を損ねることなく製造できることを見出し、本発明の完成に至った。

【0011】

本発明は、本発明者らによる前記知見に基づくものであり、前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞ フレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法により、金属ナノワイヤーを含む金属ナノワイヤー分散液を基材の一部の上に塗布し、金属ナノワイヤー分散膜を得る塗布工程と、
前記金属ナノワイヤー分散膜を乾燥して、金属ナノワイヤー層を形成する金属ナノワイヤー層形成工程とを含む、電極の製造方法であって、
前記フレキソ樹脂版は、ゴム弾性を有し、且つ、ＪＩＳ Ｋ６２５３によるショアＡ硬度が５０〜９０度であり、
前記フレキソ樹脂版は、前記金属ナノワイヤー分散液を収容するための複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有し、
前記格子形状は、解像度が１００〜２２０線／インチであり、
前記塗布領域における凹部のセル容積が１５〜６０ｃｍ^３／ｍ^２であり、
前記凹部の深さ（μｍ）に対する前記セル容積の比が０．３〜０．４５であり、
前記塗布領域における凹部占有面積率が６５〜８５％であり、
前記塗布工程では、前記フレキソ樹脂版の塗布領域における凹部及び凹部以外の部分の両方により、基材の上に金属ナノワイヤー分散液を塗布する、ことを特徴とする、電極の製造方法、である。
該＜１＞に記載の電極の製造方法において、金属ナノワイヤー分散液を用いることにより、低抵抗な金属ナノワイヤー層を形成することができる。
また、フレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法により金属ナノワイヤー分散液を塗布することにより、一般に低粘度である金属ナノワイヤー分散液を塗布することができる。
また、フレキソ樹脂版がゴム弾性を有し且つＪＩＳ Ｋ６２５３によるショアＡ硬度が５０〜９０度であることにより、フレキソ樹脂版の凹部に十分な量の金属ナノワイヤー分散液を充填することができるとともに、基材の上に十分な量の金属ナノワイヤー分散液を塗布することができる。
また、フレキソ樹脂版が、金属ナノワイヤー分散液を収容するための複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有することにより、基材上への金属ナノワイヤー分散液の塗布量を効果的に高めることができるとともに、得られる金属ナノワイヤー層の抵抗の均一化を達成することもできる。
また、格子形状の解像度が１００〜２２０線／インチであることにより、フレキソ樹脂版から基材に金属ナノワイヤー分散液を塗布する際の塗布ムラの発生及び金属ナノワイヤー分散液が凹部中に残留することを抑制することができる。
また、凹部のセル容積が１５〜６０ｃｍ^３／ｍ^２であることにより、フレキソ樹脂版から基材に金属ナノワイヤー分散液を塗布する際の塗布ムラの発生を抑制するとともに、基材への金属ナノワイヤー分散液の塗布量を増加させることができる。
また、凹部の深さ（μｍ）に対する前記セル容積の比が０．３〜０．４５であることにより、十分な量の金属ナノワイヤー分散液を凹部に充填することができる。
また、塗布領域における凹部占有面積率が６５〜８５％であることにより、塗布ムラを発生させることなく、基材への金属ナノワイヤー分散液の塗布量を増大させることができる。
また、塗布工程で、前記フレキソ樹脂版の塗布領域における凹部及び凹部以外の部分の両方により、基材の上に金属ナノワイヤー分散液を塗布することにより、高さ（膜厚）が均一化した金属ナノワイヤー分散膜を得ることができる。
そして、上述したような金属ナノワイヤー分散膜を乾燥することにより、抵抗が低く且つ均一であり、また、外観が良好である金属ナノワイヤー層を形成することができる。
＜２＞ 前記金属ナノワイヤー分散液の粘度が４０〜３００ｍＰａ・ｓである、前記＜１＞に記載の電極の製造方法である。
＜３＞ 基材の上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程を更に含み、
前記塗布工程において、前記金属ナノワイヤー分散液が前記アンカー層の一部の上に塗布される、前記＜１＞又は＜２＞に記載の電極の製造方法である。
＜４＞ 前記アンカー層形成工程において、前記基材の上にポリシラザンを塗布し、該塗布されたポリシラザンを反応させて、前記基材の上に前記アンカー層を形成する、前記＜３＞に記載の電極の製造方法である。
＜５＞ 前記塗布工程が、前記ポリシラザンの反応率が５０〜９５％であるときに実施される、＜４＞に記載の電極の製造方法である。
＜６＞ 前記ポリシラザンがパーヒドロポリシラザンである、前期＜４＞又は＜５＞に記載の電極の製造方法である。
＜７＞ 前記金属ナノワイヤーが銀ナノワイヤーである、前記＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の電極の製造方法である。
＜８＞ 前記＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の電極の製造方法により製造されたことを特徴とする、電極である。
＜９＞ 前記＜８＞に記載の電極を備えることを特徴とする、タッチパネルである。
＜１０＞ 前記＜８＞に記載の電極を備えることを特徴とする、有機ＥＬ照明素子である。

【発明の効果】

【0012】

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、抵抗が低く且つ均一な金属ナノワイヤー層（透明導電膜）が基材の一部に形成された電極を、外観を損ねることなく製造することが可能な、電極の製造方法、並びに、抵抗が低く且つ均一であり、外観も良好である電極を備えるタッチパネル及び有機ＥＬ照明素子を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】図１は、本発明の一実施形態に係る電極の製造方法における塗布工程で用いられるフレキソ印刷装置の模式図である。

【図2】図２は、本発明の一実施形態に係る電極の製造方法で用いられるフレキソ樹脂版の模式図である。

【図3(a)】図３（ａ）は、本発明の一実施形態に係る電極の製造方法で用いられる、フレキソ樹脂版が設置された版胴の模式図である。

【図3(b)】図３（ｂ）は、図３（ａ）におけるフレキソ樹脂版の塗布領域Ａの拡大図である。

【図4】図４は、本発明の一実施形態に係る電極の製造方法によりフレキソ印刷法に従った、フレキソ樹脂版から基材に金属ナノワイヤー分散液を塗布する操作を表す模式図である。

【図5】図５は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルの模式図である。

【図6】図６は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ照明素子の模式図である。

【図7】図７は、従来の方法によりフレキソ印刷法に従った、フレキソ樹脂版から基材にインクを塗布する操作を表す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0014】

（電極の製造方法）
本発明の一実施形態に係る電極の製造方法（以下、単に「本発明の一実施形態に係る方法」と称することがある。）は、少なくとも、塗布工程と、金属ナノワイヤー層形成工程とを含み、更に、必要に応じて適宜選択した、アンカー層形成工程、導電性高分子層形成工程、オーバーコート層形成工程、その他の工程を含む。

【0015】

＜塗布工程＞
前記塗布工程は、基材の一部の上に金属ナノワイヤー分散液を塗布し、金属ナノワイヤー分散膜を得る工程であり、複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有するフレキソ樹脂版を用い、フレキソ印刷法により行われる。
ここで、フレキソ印刷法は、図１に示すようなフレキソ印刷装置１を用い、ドクターブレード２によってインク３をアニロックスロール（金属ロール）４に充填し、版胴５上に設置されたフレキソ樹脂版６にインク３を転写し、このフレキソ樹脂版６から印刷ステージ（厚胴）７上の基材８にインク３を印刷（塗布）する方法である。そして、本発明の一実施形態に係る方法では、インクとして金属ナノワイヤー分散液を用いるとともに、複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有するフレキソ樹脂版を用い、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部の上に塗布するため、塗布ムラを起こすことなく塗布量を増加させることができ、乾燥後の金属ナノワイヤー層（透明導電膜）の厚みを高くすることができる。

【0016】

＜＜基材＞＞
前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、無機材料、プラスチック材料等の可視光に対して透過性を有する材料からなる透明基材が好ましい。
前記透明基材は、透明導電膜を有する電極に必要とされる膜厚を有しており、例えばフレキシブルな屈曲性を実現できる程度に薄膜化されたフィルム状（シート状）、又は適度の屈曲性と剛性を実現できる程度の膜厚を有する平板状とすることができる。
前記無機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、石英、サファイア、ガラス、などが挙げられる。これらの中でも、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚みにムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる点で、ガラスが好ましい。
前記プラスチック材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、などの公知の高分子材料が挙げられる。これらの中でも、基材の変形を抑制して、該変形により塗布厚みにムラが生じて、高抵抗の部分が生じるのを防止することができる点で、ガラス転移温度が１５０℃以上の高分子フィルム（例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ、ガラス転移温度１５５℃）、ポリイミドフィルム（ＰＩ、宇部興産社製ユーピレックスＳ、ガラス転移温度３５９℃））、が好ましい。
斯かるプラスチック材料を用いて透明基材を構成した場合、透明基材の厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、生産性の観点から、５〜５００μｍとすることが好ましい。
なお、透明基材の厚みは、マイクロゲージを用いて、ＭＤ方向（流れ方向）及びＴＤ方向（流れに直角方向）に測定することができる。

【0017】

＜＜金属ナノワイヤー分散液＞＞
前記金属ナノワイヤー分散液は、少なくとも、金属ナノワイヤーを含んでなり、更に必要に応じて、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、溶剤、分散剤、その他の成分、などを含んでなる。

【0018】

前記金属ナノワイヤー分散液の分散手法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、攪拌、超音波分散、ビーズ分散、混錬、ホモジナイザー処理、加圧分散処理、などが好適に挙げられる。

【0019】

前記金属ナノワイヤー分散液の粘度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、４０〜３００ｍＰａ・ｓが好ましい。前記金属ナノワイヤー分散液の粘度が４０ｍＰａ・ｓ以上であることにより、フレキソ樹脂版の塗布領域における凹部以外の部分（非凹部）にも金属ナノワイヤー分散液を十分に付着させて、塗布ムラ、ひいては得られる金属ナノワイヤー層の抵抗の増加及び不均一化を抑制することができる。また、金属ナノワイヤー分散液の粘度が３００ｍＰａ・ｓ以下であることにより、金属ナノワイヤー分散液を容易に凹部に収容することができるとともに、基材への塗布時に凹部中に残留する金属ナノワイヤー分散液の量を低減して、十分な塗布厚みの確保、及び得られる金属ナノワイヤー層の抵抗の増加の抑制をすることができる。同様の観点から、前記金属ナノワイヤー分散液の粘度は、６０ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、また、２００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
なお、金属ナノワイヤー分散液の粘度は、溶剤の種類の変更、金属ナノワイヤーの配合量の変更、透明樹脂材料（バインダー）の配合量の変更、粘度調整剤の配合量及び／又は種類の変更などにより、乾燥後に得られる金属ナノワイヤー層の抵抗値に大きな影響を及ぼさない範囲で、調整することができる。

【0020】

−金属ナノワイヤー−
前記金属ナノワイヤーは、金属を用いて構成されたものであって、ｎｍオーダーの径を有する微細なワイヤーであり、アスペクト比が１：１００以上である。
前記アスペクト比としては、１：１００以上である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、導電膜の良好なネットワーク形成の点で、１：５００以上が好ましい。
本発明の電極の製造方法において、金属ナノワイヤーの代わりに金属ナノ粒子を使用すると、金属ナノワイヤー分散液内での金属ナノ粒子の沈降が大きくなり、塗布時にムラが生じやすい。よって、本発明の電極の製造方法では、金属ナノワイヤーを使用する。
前記金属ナノワイヤーの構成元素としては、金属元素である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｖ、Ｔａ、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、Ａｇが、低抵抗で導電性が高い点で、好ましい。即ち、本発明の電極の製造方法で用いる金属ナノワイヤーは、低抵抗で且つ高い導電性を得る観点から、銀ナノワイヤーであることが好ましい。

【0021】

金属ナノワイヤーの平均短軸径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ超５００ｎｍ以下が好ましい。
金属ナノワイヤーの平均短軸径が、１ｎｍ超であることにより、金属ナノワイヤーの導電率が悪化して、金属ナノワイヤーを含む層、即ち金属ナノワイヤー層が導電膜として機能し難くなることを抑制することができ、５００ｎｍ以下であることにより、金属ナノワイヤー層の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）の劣化を抑制することができる。
同様の観点から、金属ナノワイヤーの平均短軸径は、１０ｎｍ以上がより好ましく、また、１００ｎｍ以下がより好ましい。

【0022】

金属ナノワイヤーの平均長軸長としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１〜１０００μｍが好ましい。
金属ナノワイヤーの平均長軸長が、１μｍ以上であることにより、金属ナノワイヤー同士をつながり易くし、金属ナノワイヤーを含む層、即ち金属ナノワイヤー層を導電膜として良好に機能させることができ、１０００μｍ以下であることにより、金属ナノワイヤー層の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）の劣化や、金属ナノワイヤー分散液における金属ナノワイヤーの分散性の劣化を抑制することができる。
同様の観点から、金属ナノワイヤーの平均長軸長は、１μｍ以上がより好ましく、また、１００μｍ以下がより好ましい。
なお、金属ナノワイヤーの平均短軸径及び平均長軸長は、走査型電子顕微鏡により測定可能な、数平均短軸径及び数平均長軸長である。より具体的には、金属ナノワイヤーを少なくとも１００本以上測定し、電子顕微鏡写真から画像解析装置を用いて、それぞれのナノワイヤーの投影径及び投影面積を算出する。そして、当該投影径を短軸径とすることができるとともに、下記式に基づき、長軸長を算出することができる。
長軸長＝投影面積／投影径
ここで、平均短軸径は、短軸径の算術平均値であり、平均長軸長は、長軸長の算術平均値である。

【0023】

更に、金属ナノワイヤーは、金属ナノ粒子が数珠状に繋がってワイヤー形状を有しているものでもよい。この場合、前記金属ナノワイヤーの長さは限定されない。

【0024】

塗布工程時の金属ナノワイヤーの目付量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１〜１．０００ｇ／ｍ²が好ましい。
金属ナノワイヤーの目付量が、０．００１ｇ／ｍ²以上であることにより、金属ナノワイヤーを十分に金属ナノワイヤー層中に存在させて、金属ナノワイヤー層の導電性を良好にすることができ、また、１．０００ｇ／ｍ²以下であることにより、金属ナノワイヤー層の全光線透過率やヘイズ（Ｈａｚｅ）の劣化を抑制することができる。
同様の観点から、塗布工程時の金属ナノワイヤーの目付量は、０．００３ｇ／ｍ^２以上がより好ましく、また、０．３ｇ／ｍ^２以下がより好ましい。

【0025】

−カーボンナノチューブ−
カーボンナノチューブとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、従来の合成法で合成されるものでもよく、また、市販のものであってもよい。
カーボンナノチューブの合成法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱ＣＶＤ法、などが挙げられる。
前記カーボンナノチューブは、単層カーボンナノチューブ（ＳＷＮＴ）であってもよく、多層カーボンナノチューブ（ＭＷＮＴ）であってもよいが、単層カーボンナノチューブであることが好ましい。
前記カーボンナノチューブとしては、金属性と半導体性のカーボンナノチューブの混合物であってよく、また、また選択的に分離された半導体性カーボンナノチューブであってもよい。

【0026】

−透明樹脂材料（バインダー）−
透明樹脂材料（バインダー）は、上述した金属ナノワイヤー及び任意に使用するカーボンナノチューブを分散させるものである。
透明樹脂材料（バインダー）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、既知の透明な、天然高分子樹脂、合成高分子樹脂、などが挙げられ、熱可塑性樹脂であってもよく、また、熱、光、電子線、放射線で硬化する熱（光）硬化性樹脂であってもよい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記熱可塑性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレート、ニトロセルロース、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、フッ化ビニリデン、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、などが挙げられる。
前記熱（光）硬化性樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メラミンアクリレート、ウレタンアクリレート、イソシアネート、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル変性シリケート等のシリコン樹脂、アジド基やジアジリン基などの感光基を主鎖及び側鎖の少なくともいずれかに導入したポリマー、などが挙げられる。

【0027】

−溶剤−
前記溶剤としては、金属ナノワイヤー及び任意に含まれるカーボンナノチューブが分散するものである限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、フレキソ印刷法により金属ナノワイヤー分散液を基材の一部に塗布することを可能にする観点及び乾燥による塗布ムラを抑制する観点から、沸点が１６０℃以上である溶剤であることが好ましい。沸点が１６０℃以上である溶剤としては、例えば、エチルカルビトール（沸点２０２℃）、ジアセトンアルコール（沸点１６８℃）、ジエチレングリコール（沸点２４４℃）、トリエチレングリコール（沸点２８７℃）、フタル酸ジブチル（沸点３４０℃）、ブチルセロソルブ（沸点１７１℃）、シクロヘキサノール（沸点１６１℃）、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、沸点が２００℃以上３００℃未満であるエチルカルビトール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールが、乾燥による塗布ムラをより抑制することができ、かつ、乾燥後に溶剤が残留して抵抗値が上がってしまうのを防止することができる点で、好ましい。

【0028】

なお、上述した沸点が１６０℃以上である溶剤に加えて、水（沸点１００℃）、エタノール（沸点７８℃）、イソプロパノール（沸点８２℃）、メチルイソブチルケトン（沸点１１６℃）、エチルラクテート（沸点１５５℃）、イソブチルアルコール（沸点１０８℃）、トルエン（沸点１１１℃）等の、沸点が１６０℃未満である溶剤を用いてもよい。

【0029】

−分散剤−
前記分散剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）；ポリエチレンイミン等のアミノ基含有化合物；スルホ基（スルホン酸塩含む）、スルホニル基、スルホンアミド基、カルボン酸基（カルボン酸塩含む）、アミド基、リン酸基（リン酸塩、リン酸エステル含む）、フォスフィノ基、シラノール基、エポキシ基、イソシアネート基、シアノ基、ビニル基、チオール基、カルビノール基等の官能基を有する化合物で金属に吸着可能なもの；などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
前記分散剤は、前記金属ナノワイヤー及び任意に含まれるカーボンナノチューブの表面に吸着させてもよい。これにより、前記金属ナノワイヤー及び任意に含まれるカーボンナノチューブの分散性を向上させることができる。

【0030】

−その他の成分−
その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、レベリング剤、界面活性剤、増粘剤等の粘度調整剤、硬化促進触媒、可塑性、酸化防止剤や硫化防止剤等の安定剤、などが挙げられる。

【0031】

＜＜アニロックスロール＞＞
本発明の一実施形態に係る方法では、任意のアニロックスロールを用い、フレキソ印刷法による塗布を行うことができる。
ここで、アニロックスロールの線数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５０〜４００線／インチが好ましい。
アニロックスロールの線数が、１５０線／インチ以上であることにより、アニロックスロールからフレキソ樹脂版に転写されるインク（金属ナノワイヤー分散液）の量が不均一となるのを抑制することができ、また、４００線／インチ以下であることにより、アニロックスロールからフレキソ樹脂版に転写されるインクの量を十分なものとすることができる。また、アニロックスロールの線数が、１５０〜４００線／インチであることにより、アニロックスロールに供給される金属ナノワイヤー分散液を、均質に定量で受け取った後にフレキソ樹脂版に受け渡すことができ、基材に対する適切な塗布効果が得られる。
同様の観点から、アニロックスロールの線数は、２００線／インチ以上がより好ましく、また、３５０線／インチ以下がより好ましい。

【0032】

＜＜フレキソ樹脂版＞＞
本発明の一実施形態に係る方法で用いるフレキソ樹脂版は、金属ナノワイヤー分散液を収容するための複数の凹部が格子状に形成された塗布領域を有する。具体的には、図２に示すように、フレキソ樹脂版６の塗布領域（図中ではフレキソ樹脂版６の表面全域）に、例えば矩形（略正方形）の形状である複数の凹部９が形成されている。これら複数の凹部９は、アニロックスロールからフレキソ樹脂版６にインクとしての金属ナノワイヤー分散液が転写される際、多量の金属ナノワイヤー分散液を収容することができる。従って、当該フレキソ樹脂版から基材上への金属ナノワイヤー分散液の塗布量を効果的に高めることができ、得られる金属ナノワイヤー層（透明導電膜）の低抵抗化を達成することができる。ここで、フレキソ樹脂版６の非凹部１０は、塗布領域における凹部９以外の部分である。更に、フレキソ樹脂版６の塗布領域における複数の凹部９は、向きを揃え、辺方向に等間隔に整列されていることにより、格子形状をなしている。そして、このような、塗布領域において複数の凹部が格子形状に形成されたフレキソ樹脂版を用いれば、得られる金属ナノワイヤー層の抵抗の均一化を達成することができる。
なお、複数の凹部は、少なくともフレキソ樹脂版の表面において格子形状に形成されていればよく、表面よりも低い部分における断面形状は、特に制限されない。

【0033】

また、本発明で用いるフレキソ樹脂版は、ゴム弾性を有し、且つ、ＪＩＳＫ６２５３によるショアＡ硬度が５０〜９０度であることを要する。フレキソ樹脂版がゴム弾性を有しなければ、低粘度の金属ナノワイヤー分散液を塗布することができない虞があり、また、十分な塗布量を確保することができない虞がある。また、フレキソ樹脂版のＪＩＳＫ６２５３によるショアＡ硬度が５０度未満であると、アニロックスロールからフレキソ樹脂版に金属ナノワイヤー分散液を転写する際に、当該フレキソ樹脂版の凹部に十分な量の金属ナノワイヤー分散液を充填することができない虞がある。更に、フレキソ樹脂版のＪＩＳＫ６２５３によるショアＡ硬度が９０度超であると、基材の上に十分な量の金属ナノワイヤー分散液を塗布することができず、塗布厚みの低下、及び得られる金属ナノワイヤー層の抵抗が増加する虞がある。同様の観点から、フレキソ樹脂版のＪＩＳ Ｋ６２５３によるショアＡ硬度は、５０度以上が好ましく、また、８０度以下が好ましい。
なお、フレキソ樹脂版の硬度は、材料を適切に選択することにより調整することができる。また、例えば、フレキソ樹脂版への凹部の形成を、紫外線硬化性樹脂を用いて紫外線照射による硬化及び現像を含む方法により実施する場合、上述したフレキソ樹脂版の硬度は、当該紫外線硬化性樹脂の反応率や架橋度を適宜設計することにより調整することができる。

【0034】

図３（ａ）に示されるように、複数の凹部が塗布領域に形成されたフレキソ樹脂版６は、版胴５の少なくとも一部の表面に設置されて使用される。なお、図３（ｂ）は、図３（ａ）におけるフレキソ樹脂版６の塗布領域Ａの拡大図である。
ここで、凹部の一辺の長さ（図３（ｂ）に示される（Ｓ））としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、塗布ムラを抑制しつつ塗布量を増大させる観点から、８０〜３００μｍが好ましく、１５０〜２５０μｍがより好ましい。
また、隣接する凹部の間隔、即ち、ライン１３の幅（図３（ｂ）に示される（Ｌ））としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、塗布ムラを抑制しつつ塗布量を増大させる観点から、５〜５０μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。
そして、隣接する凹部の間隔（Ｌ）と凹部の一辺の長さ（Ｓ）との比（Ｌ／Ｓ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、塗布ムラを抑制しつつ塗布量を増大させる観点から、０．０６〜０．１８が好ましく、０．０８〜０．１６がより好ましい。

【0035】

フレキソ樹脂版の塗布領域において複数の凹部がなす格子形状は、解像度が１００〜２２０線／インチであることを要する。ここで、本発明において「解像度」とは、フレキソ樹脂版を版胴の上に設置した際の、版胴の回転方向１インチ当たりのフレキソ樹脂版におけるラインの線数を指し、ラインは既述した通りである。格子形状の解像度が１００線／インチ未満であると、フレキソ樹脂版から基材に金属ナノワイヤー分散液を塗布する際に、塗布ムラが生じることがある。また、格子形状の解像度が２２０線／インチ超であると、アニロックスロールからフレキソ樹脂版に金属ナノワイヤー分散液を転写する際に、十分な量の金属ナノワイヤー分散液を凹部に収容することができない虞があり、また、ある程度の量の金属ナノワイヤー分散液を凹部に収容できたとしても、基材への塗布時に金属ナノワイヤー分散液の多くが凹部中に残留し、十分な塗布厚みが確保できずに金属ナノワイヤー層の抵抗値が増加することがある。同様の観点から、格子形状の解像度は、１２０線／インチ以上が好ましく、また、１６０線／インチ以下が好ましい。

【0036】

フレキソ樹脂版の平面方向から見た凹部の輪郭形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、十分な塗布量を確保する観点から、矩形の形状である（即ち、凹部自体が、直方体状にくりぬいた形状である）ことが好ましい。
なお、フレキソ樹脂版への凹部の形成を、紫外線硬化性樹脂を用いて紫外線照射による硬化及び現像を含む方法により実施する場合、上述したフレキソ樹脂版の平面方向から見た凹部の輪郭形状は、紫外線発生装置とフレキソ樹脂版との距離を調節したり、紫外線照射の時間を調節することにより、調整することができる。

【0037】

フレキソ樹脂版の塗布領域における凹部は、セル容積が１５〜６０ｃｍ^３／ｍ^２であることを要する。ここで、本発明において「セル容積」とは、フレキソ樹脂版の塗布領域１ｍ^２当たりの、凹部の容積の総和を指す。塗布領域における凹部のセル容積が１５ｃｍ^３／ｍ^２未満であると、基材への金属ナノワイヤー分散液の塗布量を増大させて金属ナノワイヤー層の抵抗値及びその面内分布を低減する効果が十分に得られない。また、塗布領域における凹部のセル容積が６０ｃｍ^３／ｍ^２超であると、塗布ムラが発生し、低膜厚部分における抵抗性の悪化が生じる虞がある。同様の観点から、塗布領域における凹部のセル容積は、２０ｃｍ^３／ｍ^２以上が好ましく、また、５０ｃｍ^３／ｍ^２以下が好ましい。
なお、凹部のセル容積は、例えば、共焦点レーザー顕微鏡を用い、観察される各凹部の容積を求める方法により、測定することができる。また、凹部のセル容積は、フレキソ樹脂版に凹部を形成させる際の設計条件（例えば、紫外線照射による硬化及び現像を含む方法によりフレキソ樹脂版に凹部を形成させる場合には、紫外線照射の時間、紫外線発生装置とフレキソ樹脂版との距離など）を厳密に設定してフレキソ樹脂版に凹部を形成させ、当該設計条件と、それとは異なる設計条件にてフレキソ樹脂版に形成させた凹部のセル容積の実測値とに基づいて、経験的な方法により推算してもよい。

【0038】

フレキソ樹脂版の塗布領域では、凹部の深さに対するセル容積の比（凹部のセル容積（ｃｍ^３／ｍ^２）／凹部の深さ（μｍ）、無次元数）が０．３〜０．４５であることを要する。ここで、本発明において「凹部の深さ」とは、塗布領域の凹部の最も深い部分における、塗布領域の非凹部の表面からの深さを指す。凹部の深さに対するセル容積の比が０．３未満であると、アニロックスロールからフレキソ樹脂版に金属ナノワイヤー分散液を転写する際に、当該フレキソ樹脂版の凹部に十分な量の金属ナノワイヤー分散液を充填することができない虞がある。また、凹部の深さに対するセル容積の比が０．４５超であると、アニロックスロールからフレキソ樹脂版に金属ナノワイヤー分散液を転写する際に、十分な量の金属ナノワイヤー分散液を凹部に充填することができない虞があり、また、ある程度の量の金属ナノワイヤー分散液を凹部に充填できたとしても、基材への塗布時に金属ナノワイヤー分散液の多くが凹部中に残留し、十分な塗布厚みが確保できずに金属ナノワイヤー層の抵抗値が増加することがある。そして、凹部の深さに対するセル容積の比を０．３〜０．４５とすることにより、塗布後に得られる金属ナノワイヤー分散膜の厚み（金属ナノワイヤー層のｗｅｔ膜厚）を大きくする（例えば、８〜１２μｍ）ことができる。同様の観点から、凹部の深さに対するセル容積の比は、０．３２以上が好ましく、また、０．４３以下が好ましい。

【0039】

塗布領域は、凹部占有面積率が６５〜８５％であることを要する。塗布領域における凹部占有面積率が６５％未満であると、基材への金属ナノワイヤー分散液の塗布量を増大させて金属ナノワイヤー層の抵抗値及びその面内分布を低減する効果が十分に得られない。また、塗布領域における凹部占有面積率が８５％超であると、塗布ムラが発生し、低膜厚部分における抵抗性の悪化が生じる虞がある。同様の観点から、塗布領域における凹部占有面積率は、７０％以上が好ましく、また、８０％以下が好ましい。

【0040】

ここで、上述したような、複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有するフレキソ樹脂板は、例えば、以下の工程（１−１）〜（１−５）を含む方法、又は以下の工程（２−１）〜（２−４）を含む方法などにより作製することができる。或いは、上述したような、複数の凹部が格子形状に形成された塗布領域を有するフレキソ樹脂板は、切削法等の常法に従って作製してもよい。

【0041】

（１−１）板状で紫外線硬化性の樹脂を用意し、当該樹脂の表面をブラックマスク層で被覆する。
（１−２）レーザーを用い、凹部を形成させる樹脂部分の上のブラックマスク層は残すようにして、所望の格子形状に対応するパターンをブラックマスク層に描画する。
（１−３）紫外線照射により、樹脂に対して、描画されたブラックマスク層の上から露光する。
（１−４）ブラックマスク層を除去し、樹脂の非露光部（未硬化部）をブラシ等の処理器具又は溶剤で洗浄する。
（１−５）温風により樹脂を乾燥させる。

【0042】

（２−１）板状で紫外線硬化性の樹脂（紫外線硬化性樹脂層）を用意し、その層上に、赤外線に反応する層（赤外線感受層）を形成する。
（２−２）赤外線レーザーを用い、赤外線感受層に所望の格子形状をなす複数の凹部を直接描画する。
（２−３）赤外線感受層が形成されていない側の紫外線硬化性樹脂層の表面に紫外線を照射することにより、紫外線硬化性樹脂層を硬化する。
（２−４）温風により各層を乾燥させる。
なお、上記の工程（２−１）〜（２−４）を含む方法では、赤外線感受層を形成した後に紫外線硬化性樹脂層を硬化しているが、紫外線硬化性樹脂層をあらかじめ硬化しておき、その後、赤外線感受層を形成してもよい。

【0043】

＜＜基材上への金属ナノワイヤー分散液の塗布＞＞
そして、塗布工程では、上述したようなフレキソ樹脂版を用い、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部の上に塗布する。このとき、フレキソ樹脂版の塗布領域における凹部及び凹部以外の部分（非凹部）の両方により、基材の上に金属ナノワイヤー分散液を塗布することを要する。以下、その理由を図面を参照しながら説明する。
図７（ａ）及び（ｂ）は、従来の方法によりフレキソ印刷法に従った、インク１０３が転写されたフレキソ樹脂版１０６と、当該フレキソ樹脂版１０６によりインク１０３が塗布された基材１０８と、塗布から所定時間経過した後の基材１０８とを示す模式図である。図７（ａ）では、フレキソ樹脂版１０６の凸部１１１の表面のみにインク１０３が転写され、この凸部１１１により、基材１０８の上にインク１０３を塗布している。そのため、基材１０８に塗布されるインク１０３の膜厚は小さく、塗布されたインクが流動しても、依然として未塗布部分１１２が存在し得る。また、図７（ｂ）では、フレキソ樹脂版１０６の凸部１１１の表面に加え、凸部１１１以外の部分（非凸部）１１３にもインク１０３が転写されている。なお、非凸部１１３は、相対的に一定の深さを有することから、凸部１１１よりも多量のインクが収容されている。そして、非凸部１１３に収容されているインク１０３を基材１０８に塗布するべく、比較的高い圧力でフレキソ樹脂版１０６を基材１０８に押し付けるため、フレキソ樹脂版１０６の非凸部１１３と対面する基材１０８上にのみ、インク１０３が塗布される。そのため、塗布されたインクが流動しても、基材１０８には依然として未塗布部分１１２が存在し得る。これらの未塗布部分１１２は、インクの粘度が高い場合や、インク及び基材の表面張力が大きい場合には、より顕在化し、塗布ムラや外観の悪化の一因となる。
これに対して、本発明の一実施形態に係る方法では、図４に示すように、フレキソ樹脂版６の塗布領域における凹部９及び凹部以外の部分（非凹部）１０の両方に金属ナノワイヤー分散液１１が転写され、この両方によって基材８の上に金属ナノワイヤー分散液１１を塗布するため、塗布直後の塗布領域に対面する基材８上において、未塗布部分は存在しない。そして、基材８の上に得られた金属ナノワイヤー分散膜１２は、流動し、高さ（膜厚）が均一化する。特に、本発明で用いるフレキソ樹脂版は、複数の凹部が格子形状に形成された特定の塗布領域を有するため、塗布量自体を増加させることもできる。そして、この金属ナノワイヤー分散膜１２を乾燥させることで、抵抗が低く且つ均一で、外観も良好な、金属ナノワイヤー層を得ることができる。

【0044】

なお、凹部及び非凹部の両方により基材の上に金属ナノワイヤー分散液を塗布するために、基材へのフレキソ樹脂版の押し込み量を調整してもよい。ここで、基材へのフレキソ樹脂版の押し込み量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０〜２０μｍが好ましい。基材へのフレキソ樹脂版の押し込み量が１０μｍ以上であることにより、凹部に収容された金属ナノワイヤー分散液が基材への塗布時に凹部中に残留することを効果的に抑制し、十分な塗布厚み、ひいては得られる金属ナノワイヤー層の低抵抗化を達成することができる。また、基材へのフレキソ樹脂版の押し込み量が２０μｍ以下であることにより、非凹部と対面する基材上に金属ナノワイヤー分散液が塗布されずに未塗布部分が生じるのを十分に防止することができる。
ここで、基材へのフレキソ樹脂版の押し込み量は、例えば、フレキソ印刷装置に搭載された測定装置により測定することができる。

【0045】

フレキソ印刷法における印刷速度（基材の送り速度）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５〜３０ｍ／ｍｉｎが好ましい。
印刷速度が、５ｍ／ｍｉｎ以上であることにより、印刷ムラに起因した得られる金属ナノワイヤーの外観不良を抑制することができ、３０ｍ／ｍｉｎ以下であることにより、基材への金属ナノワイヤー分散液の塗布量を十分なものとし、均一な膜厚を得ることができる。
同様の観点から、印刷速度は、１０ｍ／ｍｉｎ以上がより好ましく、また、２０ｍ／ｍｉｎ以下がより好ましい。

【0046】

＜＜金属ナノワイヤー分散膜＞＞
金属ナノワイヤー分散膜は、フレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法により、金属ナノワイヤー分散液を基材の一部の上に塗布することで得られるものである。また、この金属ナノワイヤー分散膜は、後述する金属ナノワイヤー層形成工程において乾燥することにより、金属ナノワイヤー層となる。

【0047】

金属ナノワイヤー分散膜の厚み（即ち、金属ナノワイヤー層のｗｅｔ膜厚）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、３〜２０μｍが好ましい。
金属ナノワイヤー分散膜の厚みが、３μｍ以上であることにより、より容易に金属ナノワイヤー層を形成することができ、２０μｍ以下であることにより、得られる金属ナノワイヤー層の表面抵抗の分布の不均一化を抑制することができる。
同様の観点から、金属ナノワイヤー分散膜の厚みは、５μｍ以上がより好ましく、８μｍ以上が更に好ましく、また、１５μｍ以下がより好ましく、１２μｍ以下が更に好ましい。
＜金属ナノワイヤー層形成工程＞
金属ナノワイヤー層形成工程は、塗布工程において金属ナノワイヤー分散液を基材等の上に塗布して得られた金属ナノワイヤー分散膜を乾燥して、基材等の上に金属ナノワイヤー層を形成する工程である。この金属ナノワイヤー層形成工程で形成される金属ナノワイヤー層は、高い厚みを有し、抵抗が低く且つ均一であり、また、外観が良好である。

【0048】

＜＜乾燥＞＞
乾燥時の加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１００〜２００℃が好ましい。
乾燥時の加熱温度が、１００℃以上であることにより、乾燥に要する時間が長くなって作業性が悪化するのを抑制することができ、２００℃以下であることにより、基材のガラス転移温度（Ｔｇ）との兼ね合いで基材が歪曲するのを抑制することができる。また、乾燥時の加熱温度が１００〜２００℃であることにより、金属ナノワイヤーのネットワーク形成及びそれによる金属ナノワイヤー層の低抵抗化の点で有利である。
同様の観点から、乾燥時の加熱温度は、１２０℃以上がより好ましく、１８０℃以下がより好ましく、また、約１５０℃が特に好ましい。

【0049】

乾燥時の加熱時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１〜３０分間が好ましい。
乾燥時の加熱時間が、１分間以上であることにより、溶媒を十分に除去することができ、３０分間以下であることにより、作業性及び電極の生産性の悪化を防ぐことができる。また、乾燥時の加熱時間が１〜３０分間であることにより、金属ナノワイヤーのネットワーク形成及びそれによる金属ナノワイヤー層の低抵抗化の点で有利である。
同様の観点から、乾燥時の加熱時間は、２分間以上がより好ましく、１０分間以下がより好ましく、また、約５分間が特に好ましい。

【0050】

＜＜金属ナノワイヤー層＞＞
金属ナノワイヤー層は、金属ナノワイヤー分散液を基材等の上に塗布し、乾燥することにより形成される。金属ナノワイヤー分散液、並びに、当該金属ナノワイヤー分散液に含まれ得る金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、透明樹脂材料（バインダー）、溶剤、分散剤、その他の成分は、いずれも、金属ナノワイヤー分散液の説明で既述した通りである。

【0051】

金属ナノワイヤー層の抵抗値の標準偏差σとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０Ω／ｓｑ以下が好ましく、１５Ω／ｓｑ以下がより好ましく、１０Ω／ｓｑ以下が特に好ましい。
金属ナノワイヤー層の抵抗値の標準偏差σが２０Ω／ｓｑを超えると、抵抗値の均一性が低いため、電気回路として問題が生じることがある。例えば、抵抗値の標準偏差σが２０Ω／ｓｑ超である金属ナノワイヤー層を有する電極を備えるタッチパネルは、パネルの場所によってタッチ部位の検出精度に差が生じ、消費電力が増大するという問題があり、また、前記金属ナノワイヤー層を有する電極を備える有機ＥＬ照明素子は、輝度ムラ、発光ムラや発熱が生じる。
ここで、金属ナノワイヤー層の抵抗値は、非破壊抵抗測定器を用いて、測定プローブを金属ナノワイヤー層の表面に接触させて、任意の方向及び当該任意の方向に垂直な方向に２０ｍｍ毎に抵抗値を測定することができる。なお、金属ナノワイヤー層の抵抗値の標準偏差σを求める場合には、通常２０点以上測定する。

【0052】

＜アンカー層形成工程＞
本発明の一実施形態に係る方法が含み得るアンカー層形成工程は、基材の上にアンカー層を形成する工程であり、通常は基材と金属ナノワイヤー層との接着性を高めることを目的するものである。
本発明の一実施形態に係る製造方法がアンカー層形成工程を更に含む場合、アンカー層形成工程は塗布工程の前に行われるとともに、塗布工程では、アンカー層の一部の上に金属ナノワイヤー分散液が塗布されて、金属ナノワイヤー層が形成される。
本発明の一実施形態に係る方法がアンカー層形成工程を含むことにより、基材と金属ナノワイヤー層の基材と金属ナノワイヤー層との密着性が良好となり、耐久性に優れた電極を製造することができる。

【0053】

＜＜アンカー層＞＞
アンカー層形成工程で基材の上に形成されるアンカー層は、いわゆるプライマー層となり、最終的に得られる電極では、基材と金属ナノワイヤー層の中間層となって密着性を改善することができる。
アンカー層は、基材及び金属ナノワイヤー層の両方との密着性に優れることが好ましく、例えば、分子中にＳｉ原子と有機物とを同時に含む化合物等を用いて形成することができる。
アンカー層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１〜５μｍが好ましい。
アンカー層の厚みが、０．００１μｍ以上であることにより、基材と金属ナノワイヤー層との密着不良が生じるのを抑制することができ、５μｍ以下であることにより、電極の色度や全光線透過率などの光学特性が不良となるのを抑制することができる。
同様の観点から、アンカー層の厚みは、０．０１μｍ以上がより好ましく、また、１μｍ以下がより好ましい。
ここで、アンカー層は、基材の上にポリシラザンを塗布し、このポリシラザンを反応させて、基材の上に形成することが好ましい。ポリシラザンは、特にガラス及び有機物に対する密着性に優れているため、ポリシラザンをアンカー層の形成に用いれば、アンカー層としてのポリシラザンの膜がバリア膜として機能し、電極の経時劣化を軽減することができる。

【0054】

＜＜ポリシラザン＞＞
ポリシラザンは、特に、ガラスや有機物に対する密着性に優れているため、アンカー層の成分として好適に使用される。
ポリシラザンの重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５００〜５０００が好ましい。
また、ポリシラザンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パーヒドロポリシラザン、などが挙げられる。ここで、パーヒドロポリシラザンは、下記式（１）（式中、ｎは任意の整数を示す）によって表され、大気中の水分と反応してシリカガラスに転化する（下記反応式（２）参照）。

【0055】

【化1】

【0056】

−（ＳｉＨ₂ＮＨ）−＋２Ｈ₂Ｏ→ＳｉＯ₂＋ＮＨ₃＋２Ｈ₂ ・・・（２）

【0057】

＜＜アンカー層におけるポリシラザンの反応率＞＞
アンカー層の上に金属ナノワイヤー分散液が塗布される（即ち、塗布工程が実施される）時点でのアンカー層におけるポリシラザンの反応率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０〜９５％が好ましい。
前記反応率が、５０％以上であることにより、耐溶剤性を十分に高め、基材と金属ナノワイヤー層との密着性を強固なものとすることができ、９５％以下であることにより、アンカー層がほぼガラスとなる前に塗布工程が実施されるので、アンカー層形成工程を実施する必要性がもたらされる。
同様の観点から、前記反応率は、７０％以上がより好ましく、８２．５％以上が特に好ましく、また、８７．５％以下が特に好ましい。
なお、アンカー層におけるポリシラザンの反応率は、測定対象となるサンプルの赤外分光法（ＩＲ）スペクトルを用いて算出することができ、例えば、ポリシラザンとしてパーヒドロポリシラザンを用い、上記反応式（２）の反応前のパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さを１００％とした場合の、上記反応式（２）の反応後のパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さの割合（％）として算出することができる。なお、上記反応率の算出には、事前に作成した検量線（縦軸が「Ｓｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さ」、横軸が「反応時間」のグラフ）を用いてもよい。

【0058】

前記基材の上にアンカー層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、凸版印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、スリットダイ塗布、スプレー塗布、浸漬法、などの既存の塗布方法が挙げられる。斯かる印刷法を用いることにより、短時間で、基材の一部のみにアンカー層を形成することができる。

【0059】

＜導電性高分子層形成工程＞
本発明の一実施形態に係る方法が含み得る導電性高分子層形成工程は、金属ナノワイヤー層形成工程で形成した金属ナノワイヤー層の上に、導電性高分子を用いて導電性高分子層を形成する工程であり、金属ナノワイヤー層の表面の平滑性を抵抗性を悪化させることなく向上させることを目的とするものである。
本発明の一実施形態に係る製造方法が導電性高分子層形成工程を更に含む場合、導電性高分子層形成工程は、金属ナノワイヤー層形成工程の後に行われる。
導電性高分子層を金属ナノワイヤー層の上に有する電極は、電極に対して高い表面平滑性が求められる用途、例えば有機ＥＬ照明素子用の電極として、特に有用である。

【0060】

＜＜導電性高分子層＞＞
導電性高分子層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリチオフェン等を溶剤で希釈した導電性高分子インクを調製し、スピンコート法などにより、金属ナノワイヤー層の上に当該導電性高分子インクを塗布し、乾燥する方法が挙げられる。

【0061】

＜オーバーコート層形成工程＞
本発明の一実施形態に係る方法が含み得るオーバーコート層形成工程は、金属ナノワイヤー層形成工程で形成した金属ナノワイヤー層の上に、既存の物質によりオーバーコート層を形成する工程であり、金属ナノワイヤー層を保護することを目的とするものである。
本発明の一実施形態に係る製造方法がオーバーコート層形成工程を更に含む場合、オーバーコート層形成工程は、金属ナノワイヤー層形成工程の後に行われる。

【0062】

＜＜オーバーコート層＞＞
オーバーコート層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属ナノワイヤー層の上に、アクリレートモノマーと重合開始剤とを含有する液状物質を塗布し、該塗布した液状物を、熱や光により硬化させる方法が挙げられる。
ここで、前記オーバーコート層を、架橋構造を形成し得る硬化系材料で形成すると、耐溶剤性及び耐環境試験性をより高めることができる。前記硬化系材料としては、架橋構造を形成し得る材料である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、透明性、速硬化性、耐溶剤性、耐環境試験性の観点から、アクリル重合系材料が好ましく、特に、耐溶剤性、耐環境試験性を向上する観点から、多官能アクリレートモノマー含有材料がより好ましい。また、前記硬化系材料の硬化反応系としては、熱硬化及び光硬化のいずれでもよいが、電極への熱ダメージが少ない点で、光硬化系が好ましい。
このほか、オーバーコート層を形成する方法としては、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のポリマーを溶剤に溶解させて溶液を得、次いで、この溶液を金属ナノワイヤー層の上に塗布し、乾燥する方法、も挙げられる。

【0063】

（電極）
本発明の電極は、本発明の電極の製造方法により製造された電極であって、少なくとも、基材と、金属ナノワイヤー層とを有し、必要に応じて、その他の部材を有する。その他の部材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アンカー層、オーバーコート層、などが挙げられる。本発明の電極は、本発明の電極の製造方法により製造されたものであるため、抵抗が低く且つ均一な金属ナノワイヤー層が基材の一部に形成されており、外観も良好である。
なお、前記基材及び金属ナノワイヤー層、アンカー層、及びオーバーコート層は、電極の製造方法の説明で既述した通りである。

【0064】

（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、少なくとも、本発明の電極を備え、必要に応じて、その他の部材を有する。本発明のタッチパネルは、本発明の電極を備えるため、タッチ部位の場所による検出精度の差が十分に小さく、また、使用による消費電力量を、従来よりも低減することができる。
なお、図５は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルの模式図である。図５において、タッチパネル２０は、本発明の電極を有する画像表示部材２１と、画像表示部材２１上に形成された光透過性硬化樹脂層２２と、光透過性硬化樹脂層２２上に形成された光透過性カバー部材２４と、光透過性硬化樹脂層２２と光透過性カバー部材２４との間に介装された遮光層２３とを備える。

【0065】

（有機ＥＬ照明素子）
本発明の有機ＥＬ照明素子は、少なくとも、本発明の電極を備え、必要に応じて、その他の部材を有する。本発明の有機ＥＬ照明素子は、本発明の電極を備えるため、輝度ムラ、発光ムラや発熱の発生が十分に抑制されている。ここで、本発明の有機ＥＬ照明素子は、金属ナノワイヤー層の上に、上述した導電性高分子層が形成されていることが好ましい。
なお、図６は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ照明素子の模式図である。図６において、本発明の有機ＥＬ照明素子３０は、ガラス等からなる基材３１と、この基材３１の表面に成膜された陽極３２、陽極３２の表面に成膜された有機発光層３３と、有機発光層３３の表面に成膜された陰極３４と、これらの表面を封止するガラス製の封止材３５と、封止材３５の内側面に形成された乾燥剤膜３６と、基材３１と封止材３５の周囲とを接着する接着剤３７とを備える。この有機ＥＬ照明素子３０においては、基材３１及び陽極３２の組み合わせが、本発明の電極に相当する。

【実施例】

【0066】

次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。

【0067】

（比較例１）
＜金属ナノワイヤー分散液の調製＞
下記成分を混合し、常法に従って分散させて、金属ナノワイヤー分散液としての銀ナノワイヤーインクを調製した。
（１）金属ナノワイヤー：銀ナノワイヤー（Ｂｌｕｅ Ｎａｎｏ社製、ＳＬＶ−ＮＷ−３５、平均短軸径１５ｎｍ（メーカー値）、平均長軸長３５μｍ（メーカー値））：配合量０．２０質量部
（２）透明樹脂材料（バインダー）：ヒドロキシプロピルメチルセルロース（アルドリッチ株式会社製、２％水溶液の２０℃における粘度２６００〜５６００ｃＰ（文献値））：配合量０．２５質量部
（３）増粘剤：Ａ−７１８５（東亞合成株式会社製）：配合量０．１５質量部
（４）溶剤：エチルカルビト―ル：配合量９９．４０質量部

【0068】

＜金属ナノワイヤー分散液の粘度の測定＞
粘度計（東機産業株式会社製、ＴＶＢ１０）を用い、調製した金属ナノワイヤー分散液の粘度を測定したところ、１５０ｍＰａ・ｓ（１５０ｃＰ）であった。

【0069】

＜金属ナノワイヤー層の形成＞
調製した金属ナノワイヤー分散液を、図１に示すようなフレキソ印刷装置を用いて、フレキソ印刷法により、透明基材としてのＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）の一部の上に塗布し、金属ナノワイヤー分散膜を得た。そして、塗布直後の金属ナノワイヤー分散膜の厚み（金属ナノワイヤー層のｗｅｔ膜厚）（μｍ）を、反射型レーザー変位計（株式会社キーエンス製、「ＦＵ−６７ＴＺ」）を用いて測定した。
その後、得られた金属ナノワイヤー分散膜を、クリーンオーブンにて１５０℃／１０分間で乾燥して金属ナノワイヤー層（透明導電膜）を形成し、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極を製造した。
ここで、フレキソ印刷装置による塗布の条件として、アニロックスロールの線数を１８０線／インチとし、印刷速度を１５ｍ／ｍｉｎとし、フレキソ樹脂版の押し込み量を１０μｍとした。
また、フレキソ印刷装置に装着したフレキソ樹脂版は、ショアＡ硬度が６８である板状感光性樹脂（旭化成株式会社製、「ＡＷＰ（登録商標）−ＤＥＦ」）を用いて作製した。なお、フレキソ樹脂版としては、塗布領域が平板状であるものを用いた（即ち、塗布領域には、金属ナノワイヤー分散液を収容するための凹部を設けなかった）。

【0070】

＜金属ナノワイヤー層の抵抗値の測定＞
金属ナノワイヤー層の表面に、手動式非破壊抵抗測定器（ナプソン株式会社製、「ＥＣ−８０Ｐ」）の測定プローブを接触させて、任意の方向及び当該任意の方向に垂直な方向に２０ｍｍ毎に抵抗値を測定した。そして、２０点の測定値の平均値を求め、対象とする金属ナノワイヤー層の抵抗値（Ω／ｓｑ）とした。結果を表１に示す。

【0071】

＜金属ナノワイヤー層の抵抗分布の評価＞
前記金属ナノワイヤー層の抵抗値の測定で測定した全ての測定値を用いて、その標準偏差σを、抵抗分布（Ω／ｓｑ）として算出した。そして、算出した抵抗分布を、以下の４段階で評価した。結果を表１に示す。
◎：５Ω／ｓｑ未満
○：５Ω／ｓｑ以上、１０Ω／ｓｑ未満
△：１０Ω／ｓｑ以上、２０Ω／ｓｑ未満
×：２０Ω／ｓｑ以上

【0072】

＜金属ナノワイヤー層の外観の評価＞
表面検査ランプ（フナテック株式会社製、「ＦＹ−１００Ｒ」）を用い、金属ナノワイヤー層の外観を、以下の３段階で評価した。結果を表１に示す。
○：塗布に起因した欠陥（スジ等の外観不良）なし
△：塗布に起因した欠陥（スジ等の外観不良）あり
×：塗布できていない（基材の下地が見えている）

【0073】

＜導電性高分子インクの調製＞
一方で、下記成分を混合し、常法に従って分散させて、導電性高分子インクを調製した。
（１）透明導電性ポリマー：Ｈｅｒａｅｕｓ社製、「Ｃｌｅｖｉｏｕｓ（登録商標） ＰＨ７５０」：配合量８０質量部
（２）溶剤１：エチレングリコールモノブチルエーテル：配合量１０質量部
（３）溶剤２：ジメチルスルホキシド：配合量１０質量部

【0074】

＜有機ＥＬ照明素子の製造及び発光ムラの評価＞
調製した導電性高分子インクを、上述の電極の金属ナノワイヤー層の上に、スピンコート法により塗布した。なお、塗布厚さは５０ｎｍとした。その後、クリーンオーブンにて１５０℃／１０分間で焼成（乾燥）し、金属ナノワイヤー層の上に導電性高分子層が形成された電極を得た。
得られた電極を用い、常法に従って有機ＥＬ照明素子を製造した。そして、ＫＥＩＴＨＬＥＹ社製のソースメジャーユニット２４００型を用い、製造した有機ＥＬ照明素子を発光させた。２００ｃｄ／ｍ^２の輝度で発光させた有機ＥＬ照明素子について、点灯時の発光面全体の発光ムラを、目視にて観察し、以下の３段階で評価した。結果を表１に示す。
○：発光面全体の７０％以上が均一に発光している
△：発光面全体の５０％以上７０％未満が均一に発光している
×：発光面全体の５０％未満しか発光していない

【0075】

（比較例２）
比較例１において、フレキソ印刷装置に装着したフレキソ樹脂版の塗布領域を、平板状の塗布領域とする代わりに、金属ナノワイヤー分散液を収容するための複数の凹部を格子形状に形成させた塗布領域であって、格子形状の解像度を１００線／インチ、格子形状における隣接する凹部の間隔（Ｌ）を３０μｍ、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２４９μｍとして凹部占有面積率を８０％とし、凹部のセル容積が５１ｃｍ^３／ｍ^２であり、凹部の深さが１８８μｍである塗布領域としたこと以外は、比較例１と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。
なお、上述の塗布領域を有するフレキソ樹脂版は、（１）板状感光性樹脂の表面をブラックマスク層で被覆する、（２）レーザーにより、ブラックマスク層に格子状のパターンを描画し、樹脂に露出部を形成する、（３）紫外線照射により、ブラックマスク層の上から露光を行う、（４）ブラックマスク層を樹脂表面から除去し、樹脂の非露光部（未硬化部）をブラシで洗浄する、（５）乾燥させる、（６）紫外線照射により後露光を行う、ことにより作製した。
凹部のセル容積及び深さは、共焦点レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス製、「ＶＫ−８５００」）を用いて測定した。

【0076】

（比較例３）
比較例２における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１００線／インチから９０線／インチに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２４９μｍから２７４μｍに変えて、凹部占有面積率を８１％とし、また、フレキソ樹脂版の作製の際に紫外線照射の時間を短くしたこと以外は、比較例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。
なお、比較例３では、フレキソ樹脂版の作製の際に紫外線時間を比較例２よりも短くしたため、凹部のセル容積及び凹部の深さの値が比較例２よりも小さくなっていることが分かる。

【0077】

（実施例１）
比較例３における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を９０線／インチから１００線／インチに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２７４μｍから２４９μｍに変えて、凹部占有面積率を８０％としたこと以外は、比較例３と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。
なお、実施例１では、格子形状の解像度を比較例３よりも大きくし、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を比較例３よりも小さくしたため、凹部の深さの値が比較例３よりも小さくなっていることが分かる。

【0078】

（実施例２）
実施例１における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１００線／インチから１２０線／インチに変え、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を３０μｍから２５μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２４９μｍから２１２μｍに変えて、凹部占有面積率を８０％としたこと以外は、実施例１と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。
なお、実施例２では、格子形状の解像度を実施例１よりも大きくし、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を実施例１よりも小さくしたため、凹部のセル容積及び凹部の深さの値が実施例１よりも小さくなっていることが分かる。

【0079】

（実施例３）
実施例２における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１２０線／インチから１４０線／インチに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１８１μｍに変えて、凹部占有面積率を７７％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。

【0080】

（実施例４）
実施例２における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１２０線／インチから１６０線／インチに変え、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから２０μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１５９μｍに変えて、凹部占有面積率を７９％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。

【0081】

（実施例５）
実施例２における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１２０線／インチから１８０線／インチに変え、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから１５μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１４６μｍに変えて、凹部占有面積率を８２％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。

【0082】

（実施例６）
実施例２における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１２０線／インチから２００線／インチに変え、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから１５μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１２３μｍに変えて、凹部占有面積率を７９％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。

【0083】

（実施例７）
実施例２における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１２０線／インチから２２０線／インチに変え、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから１５μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１１５μｍに変えて、凹部占有面積率を７８％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。

【0084】

（比較例４）
実施例２における塗布領域の形成において、格子形状の解像度を１２０線／インチから２４０線／インチに変え、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから１５μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１０６μｍに変えて、凹部占有面積率を７７％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。

【0085】

（比較例５）
実施例７において、フレキソ樹脂版の作製の際に紫外線照射の時間を短くしたこと以外は、実施例７と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表１に示す。

【0086】

（比較例６）
実施例２における塗布領域の形成において、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから５２μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１８５μｍに変えて、凹部占有面積率を６１％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。
なお、比較例６では、凹部の一辺の長さ及び凹部占有面積率を実施例２よりも小さくしたため、凹部のセル容積及び凹部の深さの値が実施例２よりも小さくなっていることが分かる。

【0087】

（実施例８）
実施例２における塗布領域の形成において、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから４６μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから１９１μｍに変えて、凹部占有面積率を６５％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0088】

（実施例９）
実施例２における塗布領域の形成において、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから３６μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから２０１μｍに変えて、凹部占有面積率を７２％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0089】

（実施例１０）
実施例２における塗布領域の形成において、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから１９μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから２１８μｍに変えて、凹部占有面積率を８５％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0090】

（比較例７）
実施例２における塗布領域の形成において、隣接する凹部の間隔（Ｌ）を２５μｍから１１μｍに変え、凹部の一辺の長さ（Ｓ）を２１２μｍから２２６μｍに変えて、凹部占有面積率を９１％としたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0091】

（比較例８）
実施例２において、フレキソ樹脂版の原材料として、ショアＡ硬度が６８である板状感光性樹脂に代えて、ショアＡ硬度が４０である樹脂（材料メーカーによる試作品）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0092】

（実施例１１）
実施例２において、フレキソ樹脂版の原材料として、ショアＡ硬度が６８である板状感光性樹脂に代えて、ショアＡ硬度が５１である感光性樹脂（旭化成株式会社製、「ＡＰＲ（登録商標） ＮＳ６０」）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0093】

（実施例１２）
実施例２において、フレキソ樹脂版の原材料として、ショアＡ硬度が６８である板状感光性樹脂に代えて、ショアＡ硬度が７６である樹脂（東洋紡株式会社製、「コスモライト（登録商標） ＱＨ」、測定厚み：１．７ｍｍ）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0094】

（比較例９）
実施例２において、フレキソ樹脂版の原材料として、ショアＡ硬度が６８である板状感光性樹脂に代えて、ショアＡ硬度が９８である樹脂（材料メーカーによる試作品）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表２に示す。

【0095】

（比較例１０、実施例１３〜１５、比較例１１）
実施例２において、フレキソ樹脂版の作製の際に紫外線照射の時間を適宜変更したこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表３に示す。

【0096】

（実施例１６）
実施例２において、透明樹脂材料（バインダー）の配合量を０．２５質量部から０．１０質量部に変え、且つ、金属ナノワイヤー分散液における増粘剤の配合量を０．１５質量部から０．０５質量部に変え、金属ナノワイヤー分散液の粘度を１５０ｍＰａ・ｓから４１ｍＰａ・ｓに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表３に示す。

【0097】

（実施例１７）
実施例２において、透明樹脂材料（バインダー）の配合量を０．２５質量部から０．５０質量部に変え、且つ、金属ナノワイヤー分散液における増粘剤の配合量を０．１５質量部から０．２０質量部に変え、金属ナノワイヤー分散液の粘度を１５０ｍＰａ・ｓから２９５ｍＰａ・ｓに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表３に示す。

【0098】

（実施例１８）
実施例２において、金属ナノワイヤー分散液を、基材の一部の上に塗布する代わりに、下記方法により、基材の上にアンカー層を形成し、当該アンカー層の一部の上に塗布したこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表３に示す。
＜アンカー層の形成＞
基材としてのＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：「Ｑ６５ＨＡ」、厚み１２５ｕｍ）の上に、パーヒドロポリシラザン（ＡＺエレクトロニック マテリアルズ社製、「ＮＮ１２０Ａ）を、スピンコート法（１，０００ｒｐｍ／２０秒間）にて塗布した後に、１００℃／３０秒間焼成して、パーヒドロポリシラザン膜（アンカー層）を形成した。パーヒドロポリシラザンの反応率（アンカー層反応率）が６０％のときに、実施例２と同様にして調製した金属ナノワイヤー分散液を、実施例２と同様のフレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法によりアンカー層の上に塗布し、次いで１２０℃で２分間焼成して、アンカー層上に金属ナノワイヤー層を形成した。
＜パーヒドロポリシラザンの反応率＞
パーヒドロポリシラザンの反応率を、測定対象となるサンプルの赤外分光法（ＩＲ）スペクトルを用いて算出した。具体的には、反応前のアンカー層におけるパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さを１００％とした場合の、反応後のアンカー層におけるパーヒドロポリシラザンのＳｉ−Ｎ基の吸収ピークの高さの割合（％）を求め、パーヒドロポリシラザンの反応率とした。

【0099】

（実施例１９）
実施例１８において、パーヒドロポリシラザンの反応率が６０％のときに金属ナノワイヤー分散液を塗布する代わりに、パーヒドロポリシラザンの反応率が８５％のときに金属ナノワイヤー分散液を塗布したこと以外は、実施例１８と同様にして、アンカー層上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表３に示す。

【0100】

（実施例２０）
実施例１８において、パーヒドロポリシラザンの反応率が６０％のときに金属ナノワイヤー分散液を塗布する代わりに、パーヒドロポリシラザンの反応率が９５％のときに金属ナノワイヤー分散液を塗布したこと以外は、実施例１８と同様にして、アンカー層上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表３に示す。

【0101】

（比較例１２）
実施例２において、フレキソ印刷装置による塗布の条件として、フレキソ樹脂版の押し込み量を１０μｍから３０μｍに変えたこと以外は、実施例２と同様にして、基材上に金属ナノワイヤー層が形成された電極、及び有機ＥＬ照明素子を製造し、同様の測定及び評価を行った。諸条件及び結果を表３に示す。
なお、比較例１２では、フレキソ樹脂版の押し出し量が大きい（基材へのフレキソ樹脂版の押圧が高い）ため、フレキソ樹脂版の非凹部と接触する基材の表面には、金属ナノワイヤー分散液が塗布されなかった。

【0102】

【表1】

【0103】

【表2】

【0104】

【表3】

【0105】

表１〜３から、実施例１〜２０のように、基材又は基材上に形成されたアンカー層の一部の上に対し、所定のフレキソ樹脂版を用いたフレキソ印刷法により金属ナノワイヤー分散液を塗布することにより、高い膜厚を有する金属ナノワイヤー分散膜が得られ、また、この金属ナノワイヤー分散膜を乾燥して形成される金属ナノワイヤー層は、抵抗が低い上、抵抗分布が小さく、更には外観が良好であることが分かる。また、上述の金属ナノワイヤー層が形成された電極を用いて製造される有機ＥＬ照明素子は、発光ムラの発生が十分に抑えられていることが分かる。

【産業上の利用可能性】

【0106】

本発明の電極の製造方法により製造される電極は、ノートパソコン、スマートフォン、タッチパネル、ＬＥＤ、液晶パネル、有機ＥＬ照明素子等の電子機器に用いられているインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の金属酸化物を用いた導電膜が形成された電極の代替物として、多岐に渡って適用可能であるが、特に、タッチパネル、有機ＥＬ照明素子に好適に用いることができる。

【符号の説明】

【0107】

１ フレキソ印刷装置
２ ドクターブレード
３ インク
４ アニロックスロール
５ 版胴
６ フレキソ樹脂版
７ 印刷ステージ（厚胴）
８ 基材
９ 凹部
１０ 非凹部
１１ 金属ナノワイヤー分散液
１２ 金属ナノワイヤー分散膜
１３ ライン
２０ タッチパネル
２１ 画像表示部材
２２ 光透過性硬化樹脂層
２３ 遮光層
２４ 光透過性カバー部材
３０ 有機ＥＬ照明素子
３１ 基材
３２ 陽極
３３ 有機発光層
３４ 陰極
３５ 封止材
３６ 乾燥剤膜
３７ 接着剤
１０３ インク
１０６ フレキソ樹脂版
１０８ 基材
１１１ 凸部
１１２ 未塗布部分
１１３ 非凸部

【図1】

【図2】

【図3(a)】

【図3(b)】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】