有機電子デバイス及び有機電子デバイス用基板

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】素子短絡の発生が抑制されることで製造歩留りに優れる有機電子デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、基板及びこの基板の一方の面に積層される有機電子素子を備える有機電子デバイスであって、基板が、金属層と、この金属層の少なくとも一方の面側に積層される絶縁層とを有し、基板の一方の面に下記式（１）で算出されるＫ値が−０．０７以下となる凹凸のピークがないことを特徴とする。下記式（１）中、ｘは基板の一方の面の１０μｍ四方の範囲に対し２．４５ｎｍ間隔で線粗さ分析を行った時の凹凸のピーク位置であり、ｆ（ｘ）はｘにおける表面凹凸高さ［ｎｍ］である。また、ｄｘはｘの微小変化量である。絶縁層が合成樹脂を主成分とするとよい。絶縁層が顔料を含有するとよい。顔料が無機顔料であるとよい。
Ｋ＝［ｆ（ｘ＋ｄｘ）−２ｆ（ｘ）＋ｆ（ｘ−ｄｘ）］／ｄｘ^２ ・・・（１）
【選択図】図１

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