特開2016-33656マスク基板上へマスクレイアウトを転写する際のプロセスによる誤差の補正

発明の名称　マスク基板上へマスクレイアウトを転写する際のプロセスによる誤差の補正

出願人　ジェニシス　ゲーエムベーハー　（識別番号 515205820）

　　　　特許公開件数ランキング 12172 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 10138 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2016-33656

公報発行日　2016年3月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-33656

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