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特開2016-69720薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子
発明の名称 薄膜の形成方法、多孔性薄膜及び光学素子
出願人 吉田 國雄 （識別番号 503109020）
特許公開件数ランキング 7753 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 6351 位（0件）（共同出願を含む）
出願人 有限会社岡本光学加工所 （識別番号 591108455）
特許公開件数ランキング 7753 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 6351 位（0件）（共同出願を含む）
公報番号 特開-2016-69720
公報発行日 2016年5月9
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-69720
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