技術分野
化学的かつ機械的平面研磨(Chemical Mechanical Planarization、以下CMPと略す)の工程で、研磨布を研削するために使用されるドレッサー及びその製造方法
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】優れたパッド研削レイト及びパット平坦性を備えた研磨布用ドレッサーを提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂層に複数個の砥粒が固着され、個々の砥粒が前記樹脂層から突出した研磨布用ドレッサーであって、前記樹脂層のドレッサー基準面には砥粒の突出方向に向かって突出した複数の固着面が形成されており、個々の砥粒は個々の前記固着面に一部が埋没した状態で固着されていることを特徴とする。前記ドレッサー基準面を基準とした前記固着面の高さをH、前記突出方向に対して直交する水平方向における砥粒の端部と、この砥粒が固着された前記固着面の前記水平方向における端部との幅をL、互いに隣接する砥粒の間隔をL0、前記ドレッサー基準面を基準とした砥粒の前記突出方向における高さをH0としたときに、0.2≦L/L0≦0.4、0.4≦H/H0≦0.7なる条件を満足するとよい。
【選択図】図1
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
前述したように、従来金属溶出を抑制するために、ドレッサーを構成する部材に金属以外のセラミックス焼結体、あるいは、樹脂を使用したドレッサーが開示されている。しかし、セラミックス焼結体にダイヤモンド砥粒を固着すると、ダイヤモンド砥粒と焼結粉末との反応によって、ダイヤモンド砥粒が劣化してしまう問題がある。
一方、樹脂支持材にダイヤモンド砥粒が固着されたドレッサーでは、パット研削レイトを維持した状態でパット平坦性を高い状態に維持することには限界がある。パット平坦性を高くする場合には、パッド研削レイトを低下させなければならず、CMP工程におけるドレッシング時間を短縮し、生産性を上げるまでには至っていない。
本発明は、優れたパッド研削レイト及びパット平坦性を備えた研磨布用ドレッサーを提供することを第1の目的とする。本発明は更に研磨布用ドレッサーの金属溶出を抑制することを第2の目的とする。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の要旨は、以下の通りである。(1)樹脂層に複数個の砥粒が固着され、個々の砥粒が前記樹脂層から突出した研磨布用ドレッサーであって、前記樹脂層のドレッサー基準面には砥粒の突出方向に向かって突出した複数の固着面が形成されており、個々の砥粒は個々の前記固着面に一部が埋没した状態で固着されていることを特徴とする。
【発明の効果】
本発明によれば、樹脂層のドレッサー基準面から突出した固着面に砥粒の一部が埋没した状態で固着されているため、優れたパッド研削レイト及びパット平坦性を備えた研磨布用ドレッサーを提供することができる。CMP研磨のパッドコンディショナーに本発明のドレッサーを適用すれば、製品基板の品質向上が達成されると共に、ドレッシング時間の短縮が可能になることから高い生産性も維持できる。さらに、砥粒が樹脂層に固着されているため、CMP用スラリー中に金属が溶出することを抑制できる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】本発明の一実施形態である研磨布用ドレッサーの断面模式図である。
【図2】平坦性と研削レイトの効果を示した図である。
【図3】従来の方法で樹脂に砥粒が固定されたドレッサーの断面摸式図である。
【図4】ドレッサーの製造方法を模式的に示した模式図である。
1 砥粒
2 樹脂層
2a 基準面
2b 固着面
3 支持材
20 溝部
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