特開 2017-151168 偏光子ユニット、偏光光照射装置及び偏光子ユニットのガス充填方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2017-151168(P2017-151168A)

(43)【公開日】2017年8月31日

(54)【発明の名称】偏光子ユニット、偏光光照射装置及び偏光子ユニットのガス充填方法

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/30 20060101AFI20170804BHJP

【ＦＩ】

   G02B5/30

【審査請求】未請求

【請求項の数】7

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2016-31356(P2016-31356)

(22)【出願日】2016年2月22日

(71)【出願人】

【識別番号】500171707

【氏名又は名称】株式会社ブイ・テクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】100170070

【弁理士】

【氏名又は名称】坂田 ゆかり

(72)【発明者】

【氏名】橋本 和重

(72)【発明者】

【氏名】松本 峰征

(72)【発明者】

【氏名】新井 敏成

【テーマコード（参考）】

2H149

【Ｆターム（参考）】

2H149AB14

2H149BA02

2H149BA23

2H149FC08

(57)【要約】      （修正有）

【課題】少量のガスでワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。
【解決手段】厚さ方向に貫通する貫通孔１５ａを有する厚板状の偏光子保持枠１５に、貫通孔１５ａを覆うように偏光子１４及びガラスが設けられることにより、偏光子保持枠１５の内部に内部空間が形成され、偏光子の導電体グリッドは内部空間に露出する。内部空間に不活性ガスを注入する注入管１７ａは、偏光子保持枠１５の第１の面及び前記第２の面と直交する第３の面に設けられ、第３の面には、不活性ガスを内部空間から排出する貫通孔である排出孔１５ｇが注入管１７ａに隣接して形成される。
【選択図】図５

【特許請求の範囲】

【請求項1】

光を偏光する導電体グリッドが表面に形成された板状のワイヤーグリッド型の偏光子と、
板状のガラスと、
厚さ方向に貫通する貫通孔を有する厚板状の偏光子保持枠であって、前記貫通孔を覆うように前記偏光子及び前記ガラスが設けられた偏光子保持枠と、
前記偏光子及び前記ガラスが前記貫通孔を覆うことにより前記偏光子保持枠の内部に形成された内部空間に不活性ガスを供給するガス供給部であって、前記内部空間と連通する注入管を有するガス供給部と、
を備え、
前記偏光子は、前記導電体グリッドが前記内部空間に露出するように、前記偏光子保持枠の最も大きな面である第１の面に設けられ、
前記ガラスは、前記第１の面と平行な前記第２の面に設けられ、
前記偏光子保持枠の前記第１の面及び前記第２の面と直交する第３の面には、前記第３の面を貫通し、前記内部空間と連通する排出孔が形成され、
前記排出孔に隣接して前記注入管が設けられることを特徴とする偏光子ユニット。

【請求項2】

前記注入管は、前記第３の面の長手方向の中央部に設けられることを特徴とする請求項１に記載の偏光子ユニット。

【請求項3】

前記注入管の外径は、前記排出孔の内径より小さく、
前記注入管が前記排出孔の内部に挿入されることで、前記注入管と前記排出孔が隣接することを特徴とする請求項１又は２に記載の偏光子ユニット。

【請求項4】

前記注入管は、直径が略０．５ｍｍであり、
前記ガス供給部は、前記注入管から流出するときの流速が毎秒略２５ｍ以上となるように前記不活性ガスを供給することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の偏光子ユニット。

【請求項5】

光源と、
前記光源からの光を偏光する偏光子ユニットであって、請求項１から３のいずれか一項に記載の偏光子ユニットと、
を備えたことを特徴とする偏光光照射装置。

【請求項6】

光を偏光する導電体グリッドが表面に形成された板状の偏光子と、板状のガラスとが偏光子保持枠に形成された貫通孔を覆うことにより、前記偏光子保持枠の内部に形成された内部空間であって、前記導電体グリッドが露出する内部空間に、前記内部空間内で不活性ガスが攪拌するように、前記偏光子保持枠の側面から前記不活性ガスを連続して注入し、
前記不活性ガスを前記側面から前記内部空間の外へ排出することを特徴とする偏光子ユニットのガス充填方法。

【請求項7】

前記不活性ガスの流速は、毎秒略２５ｍ以上であり、
前記不活性ガスの１分あたりの流量は、前記内部空間の体積の略５倍以上であることを特徴とする請求項６に記載の偏光子ユニットのガス充填方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、偏光子ユニット、偏光光照射装置及び偏光子ユニットのガス充填方法に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、透明基板上に設けられた網状のグリッドが、窒化チタンや酸窒化チタンで形成された主たる層を有する非反射型グリッド偏光素子が開示されている。

【0003】

特許文献２には、複数の偏光板を並べて配置した偏光素子ユニットを用いた偏光光照射装置において、ランプハウス内のミラーと偏光素子ユニットとの間の空間にガス（クリーンドライエアー、窒素等の不活性ガス等）を供給して、この空間を陽圧にすることが開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１５−１２５２８０号公報

【特許文献2】特開２０１３−１６１０８２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

液晶素子の配向膜や紫外線硬化型液晶を用いた光学フィルムの配向層等（以下、配向膜という）の形成に、感光性樹脂膜に特定の波長（例えば紫外光）の偏光光を照射する光配向処理が用いられている。偏光光は、例えば、光源から照射された短波長紫外光（例えば、２５４ｎｍ波長光）を、偏光子を用いて偏光させることにより得られる。

【0006】

偏光子には、石英ガラスなどの透明基板に導電体グリッドの格子状パターンを形成し、導電体グリッドのピッチを入射する光の波長以下にすることで、グリッドの長手方向に平行な偏光成分を反射し、それと直交する偏光成分を通過させるワイヤーグリッド型偏光子が用いられる。

【0007】

しかしながら、導電体グリッドはアルミニウムなどの金属によって形成されるため、導電体グリッドが酸素と触れている場合には、導電体グリッドが紫外光を受けて酸化等を起こし、ワイヤーグリッド偏光子の性能が劣化する（消光比が低下する）という問題がある。

【0008】

特許文献１に記載の発明では、ワイヤーグリッド偏光子の性能が劣化するのを防止するため、グリッドに窒化チタンや酸窒化チタンを用いるものである。しかしながら、窒化チタンや酸窒化チタンを用いたグリッドは、アルミニウム等の通常のグリッドと比べて製造工程が多いうえ、高価であるという問題がある。

【0009】

特許文献２に記載の発明は、ランプハウス内からガスが流出する構造となっている。そして、特許文献２に記載の発明では、ランプハウス内の広い空間に大量のガスを供給するため、大量のガスがランプハウスから流出するおそれがあり、安全性が問題となる。

【0010】

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、少量のガスでワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる偏光子ユニット、偏光光照射装置及び偏光子ユニットのガス充填方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

上記課題を解決するために、本発明に係る偏光子ユニットは、例えば、光を偏光する導電体グリッドが表面に形成された板状のワイヤーグリッド型の偏光子と、板状のガラスと、厚さ方向に貫通する貫通孔を有する厚板状の偏光子保持枠であって、前記貫通孔を覆うように前記偏光子及び前記ガラスが設けられた偏光子保持枠と、前記偏光子及び前記ガラスが前記貫通孔を覆うことにより前記偏光子保持枠の内部に形成された内部空間に不活性ガスを供給するガス供給部であって、前記内部空間と連通する注入管を有するガス供給部と、を備え、前記偏光子は、前記導電体グリッドが前記内部空間に露出するように、前記偏光子保持枠の最も大きな面である第１の面に設けられ、前記ガラスは、前記第１の面と平行な前記第２の面に設けられ、前記偏光子保持枠の前記第１の面及び前記第２の面と直交する第３の面には、前記第３の面を貫通し、前記内部空間と連通する排出孔が形成され、前記排出孔に隣接して前記注入管が設けられることを特徴とする。

【0012】

本発明に係る偏光子ユニットによれば、厚さ方向に貫通する貫通孔を有する厚板状の偏光子保持枠に、貫通孔を覆うように偏光子及びガラスが設けられることで、偏光子保持枠の内部に内部空間が形成され、内部空間には偏光子の導電体グリッドが露出している。不活性ガスは、注入管から内部空間の内部に注入され、注入管に隣接する排出孔から内部空間の外部へ排出される。これにより、予め内部空間Ｓを真空にすることなく、少量の不活性ガスで内部空間内を不活性ガス雰囲気にすることができる。そのため、導電体グリッドが酸素等と触れなくなり、ワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。

【0013】

ここで、前記注入管は、前記第３の面の長手方向の中央部に設けられてもよい。これにより、不活性ガスを内部空間内で効率的に拡散させ、内部空間内を確実に不活性ガス雰囲気とすることができる。

【0014】

ここで、前記注入管の外径は、前記排出孔の内径より小さく、前記注入管が前記排出孔の内部に挿入されることで、前記注入管と前記排出孔が隣接してもよい。これにより、不活性ガスを内部空間内で効率的に拡散させ、内部空間内を確実に不活性ガス雰囲気とすることができる。

【0015】

ここで、前記注入管は、直径が略０．５ｍｍであり、前記ガス供給部は、前記注入管から流出するときの流速が毎秒略２５ｍ以上となるように前記不活性ガスを供給してもよい。これにより、不活性ガスが内部空間内で攪拌され、不活性ガスを供給する前に内部空間を真空にすることなく、内部空間が不活性ガスで満たされる。

【0016】

ここで、本発明に係る偏光光照射装置は、例えば、光源と、これらの偏光子ユニットと、を備えてもよい。これにより、少量のガスでワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。

【0017】

上記課題を解決するために、本発明に係る偏光子ユニットのガス充填方法は、例えば、光を偏光する導電体グリッドが表面に形成された板状の偏光子と、板状のガラスとが偏光子保持枠に形成された貫通孔を覆うことにより、前記偏光子保持枠の内部に形成された内部空間であって、前記導電体グリッドが露出する内部空間に、前記内部空間内で不活性ガスが攪拌するように、前記偏光子保持枠の側面から前記不活性ガスを連続して注入し、前記不活性ガスを前記側面から前記内部空間の外へ排出することを特徴とする。これにより、少量の不活性ガスで内部空間内を不活性ガス雰囲気にすることができる。そのため、導電体グリッドが酸素等と触れなくなり、ワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。

【0018】

ここで、前記不活性ガスの流速は、毎秒略２５ｍ以上であり、前記不活性ガスの１分あたりの流量は、前記内部空間の体積の略５倍以上であってもよい。これにより、不活性ガスが内部空間内で攪拌され、不活性ガスを供給する前に内部空間を真空にすることなく、不活性ガスが内部空間内で満たされる。また、内部空間から不活性ガスが流出したとしても、内部空間内を常時不活性ガスで満たすことができる。

【発明の効果】

【0019】

本発明によれば、少量のガスでワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【0020】

【図1】第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す正面図である。

【図2】偏光照射部１０の概略を示す平面図である。

【図3】偏光照射部１０の概略を示す側面図である。

【図4】偏光子ユニット１２の一例を示す斜視図であり、偏光子ユニット１２を斜め上方から見た図である。

【図5】偏光子ユニット１２の一例を示す斜視図であり、偏光子ユニット１２を斜め下方から見た図である。

【図6】偏光子保持枠１５の平面図である。

【図7】偏光子保持枠１５の側面図である。

【図8】図４のＡ−Ａ断面図である。

【図9】面１５ｄの部分拡大図である。

【図10】比較例（偏光子ユニット１２’）において、注入管１７ａから注入された不活性ガスが内部空間Ｓ内でどのような挙動をするかを示す図である。

【図11】比較例（偏光子ユニット１２’’）において、注入管１７ａから注入された不活性ガスが内部空間Ｓ内でどのような挙動をするかを示す図である。

【図12】第１の実施の形態にかかる偏光子ユニット１２において、注入管１７ａから注入された不活性ガスが内部空間Ｓ内でどのような挙動をするかを示す図である。

【図13】第２の実施の形態の偏光光照射装置２における偏光子ユニット１２Ａの概略を示す側面図であり、偏光子保持枠１５Ａの面１５ｄの部分拡大図である。

【発明を実施するための形態】

【0021】

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。

【0022】

＜第１の実施の形態＞
図１は、第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す正面図である。偏光光照射装置１は、例えば、光源からの光を偏光膜を通過させて偏光を得、この偏光をガラス基板等の被露光面に照射して、液晶パネル用の配向膜等を生成するものである。

【0023】

以下、被露光対象物Ｗの搬送方向をｙ方向とし、搬送方向に直交する方向をｘ方向とし、鉛直方向をｚ方向とする。

【0024】

偏光光照射装置１は、主として、偏光照射部１０と、駆動部２０と、撮像部３０と、を有する。

【0025】

偏光照射部１０は、被露光対象物Ｗに偏光を照射する。図２は、偏光照射部１０の概略を示す平面図である。図３は、偏光照射部１０の概略を示す側面図である。なお、図３の２点鎖線は、光が照射される範囲を示すものである。

【0026】

偏光照射部１０は、主として、光源１１と、偏光子ユニット１２と、を有する。

【0027】

光源１１は、棒状のランプであり、偏光していない光（例えば、紫外光）を出射する。光源は、長手方向がｙ方向に沿うように、かつｘ方向に複数並べて配置される。光源１１として、光配向処理に必要な短波長紫外光（例えば、２５４ｎｍ波長光）を効率よく発光するロングアークランプを用いることができる。なお、光源１１の形態はこれに限られず、例えばｘ方向に沿って長い１本のランプであっても良い。

【0028】

偏光子ユニット１２は、光源１１から出射された無偏光の光を偏光するものであり、光源１１の下側（−ｚ側）に設けられる。偏光子ユニット１２は、主として、特定波長透過フィルタ１３と、偏光子１４と、を有する（図３参照）。

【0029】

偏光子ユニット１２は、光源１１毎に１つずつ設けられてもよいし、光源１１毎に２つ以上設けられてもよい。偏光子ユニット１２については、後に詳述する。

【0030】

図１の説明に戻る。駆動部２０は、主として、ステージ２１と、ステージガイドレール２２と、を有する。

【0031】

ステージ２１は、図示しない駆動手段により、ステージガイドレール２２に沿って移動可能に設けられる（図１の太矢印参照）。ステージ２１の上面には、被露光対象物Ｗが載置される。

【0032】

撮像部３０は、ステージ２１上に載置された被露光対象物Ｗのアライメントに使用するカメラである。

【0033】

このように構成された偏光光照射装置１の作用について説明する。偏光光照射装置１は、被露光対象物Ｗを走査方向であるｙ方向に移動させながら、偏光照射部１０から照射された光を被露光対象物Ｗの被露光面に照射して配向膜等を生成する。この偏光光照射装置１の作用は、すでに公知であるため、詳細な説明を省略する。なお、走査は、偏光照射部１０を移動させてもよいし、被露光対象物Ｗ（ステージ２１）を移動させてもよいし、それらの両方を相対的に移動させてもよい。

【0034】

露光時には、光源１１からの光が照射されることにより偏光子１４が劣化する。本発明は、偏光子１４の劣化を防止する点に特徴がある。以下、偏光子ユニット１２について詳細に説明する。

【0035】

図４、５は、偏光子ユニット１２の一例を示す斜視図である。図４は偏光子ユニット１２を斜め上方から見た図であり、図５は偏光子ユニット１２を斜め下方から見た図である。図４、５においては、１つの光源１１に対して２つの偏光子ユニット１２が設けられている。

【0036】

偏光子ユニット１２は、特定波長透過フィルタ１３と、偏光子１４と、特定波長透過フィルタ１３及び偏光子１４を保持する偏光子保持枠１５と、押さえ板１６と、ガス供給部１７と、を有する。

【0037】

特定波長透過フィルタ１３は、特定の波長範囲の光だけを透過し、他の波長の光を吸収するようにつくられたフィルタである。特定波長透過フィルタ１３は、板状のガラス（石英ガラス等）である透明基板上に、特定の波長範囲の光だけ透過させるバンドパスフィルタのフィルタ層が形成されている。ただし、透明基板上に形成されるフィルタはバンドパスフィルタに限られず、例えばローカットフィルタや反射フィルタであってもよい。

【0038】

偏光子１４は、入射角度依存性の少ないワイヤーグリッド型偏光子であり、特定波長透過フィルタ１３の下側（−ｚ側）に設けられる。ワイヤーグリッド偏光子は、透明基板１４ａ（図８参照）に導電体グリッド１４ｂ（図８参照）の格子状パターンを形成し、導電体グリッドのピッチを入射する光の波長以下にすることで、グリッドの長手方向に平行な偏光成分を反射し、それと直交する偏光成分を通過させるものである。導電体グリッドは、アルミニウムなどの金属によって形成される。

【0039】

偏光子保持枠１５は、厚板状の部材であり、例えば金属で形成される。偏光子保持枠１５は、厚さ方向（ｚ方向）に貫通する貫通孔１５ａを有する。

【0040】

貫通孔１５ａは、特定波長透過フィルタ１３及び偏光子１４により覆われる。特定波長透過フィルタ１３は、偏光子保持枠１５の上側（＋ｚ側）の面１５ｂに設けられる。偏光子１４は、偏光子保持枠１５の下側（−ｚ側）の面１５ｃに設けられる。

【0041】

図６は、偏光子保持枠１５の平面図である。図７は、偏光子保持枠１５の側面図であり、内部の構造を点線で示す。

【0042】

偏光子保持枠１５には、厚さ方向に貫通する貫通孔１５ａが形成される。貫通孔１５ａは、偏光子保持枠１５の最も大きな面である面１５ｂ、１５ｃに開口する。

【0043】

面１５ｂ、１５ｃには、それぞれ、貫通孔１５ａの周囲に凹部１５ｅ、１５ｆが形成される。凹部１５ｅ、１５ｆの周囲には、押さえ板１６が載置される凹部１５ｈが形成される。

【0044】

面１５ｂ、１５ｃに直交する面１５ｄ（偏光子保持枠１５の側面に相当）には、面１５ｄを貫通する貫通孔である排出孔１５ｇが形成される。排出孔１５ｇは、偏光子保持枠１５の外側と、偏光子保持枠１５の内側である内部空間Ｓ（後に詳述）とを連通する。排出孔１５ｇは、面１５ｄの長手方向の中央部に設けられる。

【0045】

図４、５の説明に戻る。特定波長透過フィルタ１３及び偏光子１４は、貫通孔１５ａを覆うように偏光子保持枠１５に設けられる。凹部１５ｅ（図６、７、８参照）の底面に特定波長透過フィルタ１３を載置し、凹部１５ｆ（図７、８参照）の底面に偏光子１４を載置し、特定波長透過フィルタ１３及び偏光子１４を覆うように凹部１５ｈの底面に押さえ板１６を載置して、押さえ板１６を偏光子保持枠１５に固定することにより、特定波長透過フィルタ１３が面１５ｂに設けられ、偏光子１４が面１５ｃに設けられる。その結果、貫通孔１５ａの両端が覆われ、偏光子保持枠１５の内部に内部空間Ｓが形成される。なお、偏光子１４は、導電体グリッド１４ｂが内部空間Ｓに露出するように（図８参照）、面１５ｃに設けられる。

【0046】

ガス供給部１７は、内部空間Ｓに不活性ガスを供給する。不活性ガスは、例えば、窒素、アルゴン等であり、本実施の形態では窒素を用いる。ガス供給部１７は、内部空間Ｓと連通する注入管１７ａを有する。

【0047】

図８は、図４のＡ−Ａ断面図である。図９は、面１５ｄの部分拡大図であり、注入管１７ａのみ面１５ｄの位置で切断している。

【0048】

偏光子保持枠１５の面１５ｄには、注入管１７ａが設けられる。注入管１７ａは、円筒管であり、排出孔１５ｇの内部に挿入される。これにより、排出孔１５ｇと注入管１７ａとが隣接する。

【0049】

注入管１７ａは内径が略０．５ｍｍであり、排出孔１５ｇは内径が略３．０ｍｍである。そのため、面１５ｄと略平行な断面において、排出孔１５ｇの内側かつ注入管１７ａの外側の面積（内部空間Ｓから不活性ガス等が排出される部分の面積）は、注入管１７ａの内側の面積（内部空間Ｓへ不活性ガス等が注入する部分の面積）より大きい。

【0050】

注入管１７ａは、注入管１７ａの先端が排出孔１５ｇの内部に位置するように設けられる。ただし、注入管１７ａの先端位置はこれに限られず、注入管１７ａの先端が内部空間Ｓに多少突出してもよい。

【0051】

ガス供給部１７は、内部空間Ｓに連続して不活性ガスを供給する。言い換えると、注入管１７ａからは、内部空間Ｓに不活性ガスが連続して注入される。注入管１７ａから内部空間Ｓに注入されるときの不活性ガスの流速は、毎秒略２５ｍである。したがって、不活性ガスは、内部空間Ｓ内で攪拌される。内部空間Ｓ内で攪拌された不活性ガスは、内部空間Ｓと連通する排出孔１５ｇから排出される。

【0052】

注入管１７ａからは、毎分３００ミリリットル（ｍＬ）の不活性ガスが供給される。３００ｍＬとは、内部空間Ｓの容量（略５０ｍＬ）の略５倍である。そのため、内部空間Ｓから不活性ガスが流出したとしても、内部空間Ｓ内は、常時、不活性ガスにより充填される。したがって、導電体グリッド１４ｂには、常時不活性ガスが接触し、酸化等による劣化が防止される。

【0053】

図１０〜１２は、注入管１７ａから注入された不活性ガスが内部空間Ｓ内でどのような挙動をするかを示す図である。図１０は、比較例にかかる偏光子ユニット１２’であり、注入管１７ａと排出孔１５ｇとが異なる位置にある場合である。図１１は、比較例にかかる偏光子ユニット１２’’であり、排出孔１５ｇを形成しない場合である。図１２は、本実施の形態にかかる偏光子ユニット１２である。図１０〜１２において、不活性ガスの流れを２点鎖線で示す。なお、図１０〜図１２において、注入管１７ａ、排出孔１５ｇの位置等以外の条件（流速、流量等）は同じである。

【0054】

図１０に示すように、注入管１７ａと排出孔１５ｇとが異なる位置にある場合は、不活性ガスが注入管１７ａから排出孔１５ｇに向かって流れ、不活性ガスが内部空間Ｓ内で拡散しない。

【0055】

また、図１１に示すように、排出孔１５ｇを形成しない場合にも、不活性ガスが注入管１７ａから直線的に流れ、不活性ガスが内部空間Ｓ内で拡散しない。

【0056】

それに対し、図１２に示すように、排出孔１５ｇが注入管１７ａに隣接する場合には、不活性ガスの流路（注入管１７ａの先端から排出孔１５ｇまでの距離）が長くなるため、注入管１７ａから注入された不活性ガスが内部空間Ｓ内全体に拡散する。したがって、内部空間Ｓ内が確実に不活性ガス雰囲気となり、内部空間Ｓの残留酸素濃度が低くなる。

【0057】

本実施の形態によれば、排出孔１５ｇと注入管１７ａとを隣接して設けることで、予め内部空間Ｓを真空にすることなく、少量の不活性ガスで内部空間Ｓ内を不活性ガス雰囲気にすることができる。そして、導電体グリッド１４ｂを内部空間Ｓに露出させることにより、導電体グリッドが酸素等と触れなくなる。したがって、少量の不活性ガスでワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。また、導電体グリッド１４ｂに酸化防止膜等を設けることなく、ワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。特に、注入管１７ａを排出孔１５ｇの内部に挿入する場合には、不活性ガスの流路が最も長くなるため、不活性ガスを内部空間Ｓ内で効率よく拡散させることができる。

【0058】

また、本実施の形態では、内部空間Ｓに連続して不活性ガスを供給することで、内部空間Ｓ内を確実に不活性ガス雰囲気にすることができる。偏光光照射装置１においては、使用時に高温となるため、ゴム製や樹脂製のシール材を用いることができない。また、ガスが発生するため、耐熱シリコン製のシール材を用いることもできない。したがって、特定波長透過フィルタ１３及び偏光子１４と偏光子保持枠１５との間に隙間が存在し（内部空間Ｓの密封は不可能）、不活性ガスが漏れ続ける。しかしながら、内部空間Ｓに不活性ガスを連続して供給することで、内部空間Ｓ内を不活性ガス雰囲気に保ち、ワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。ただし、内部空間Ｓに不活性ガスを断続的に供給することも可能である。

【0059】

また、本実施の形態によれば、流速を上げて内部空間Ｓに不活性ガスを注入することで、内部空間Ｓを不活性ガスで充填させることができる。例えば、排出孔１５ｇが注入管１７ａに隣接する場合においても、注入管１７ａの内径を大きくして（例えば略１．０ｍｍ）流速を遅くすると、同じ量の不活性ガスを供給しても不活性ガスが内部空間Ｓ内全体に拡散せず、不活性ガス以外の空気が内部空間Ｓの内部に部分的に残る場合がある。したがって、注入管１７ａから流出するときの不活性ガスの流速を毎秒略２５ｍ以上と早くすることが望ましい。

【0060】

なお、本実施の形態では、排出孔１５ｇ及び注入管１７ａは、面１５ｄの長手方向の中央部に設けられたが、排出孔１５ｇ及び注入管１７ａの位置はこれに限られない。例えば、排出孔１５ｇ及び注入管１７ａは、面１５ｄの端部近傍に設けられてもよい。ただし、不活性ガスを内部空間Ｓで効率的に拡散させるためには、排出孔１５ｇ及び注入管１７ａを面１５ｄの長手方向の中央部に設けることが望ましい。

【0061】

＜第２の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、注入管１７ａを排出孔１５ｇの内部に挿入することで、排出孔１５ｇと注入管１７ａとを隣接させたが、排出孔１５ｇと注入管１７ａとの位置関係はこれに限られない。

【0062】

第２の実施の形態は、注入管１７ａを排出孔１５ｇの内部に挿入しない形態である。以下、第２の実施の形態の偏光光照射装置について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第２の実施の形態の偏光光照射装置２との差異は、偏光子ユニットにおける排出孔の位置のみであるため、以下偏光子ユニットについてのみ説明する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。

【0063】

図１３は、第２の実施の形態の偏光光照射装置２（全体図省略）における偏光子ユニット１２Ａの概略を示す側面図であり、偏光子保持枠１５Ａの面１５ｄの部分拡大図である。図１３においては、注入管１７ａのみ面１５ｄの位置で切断している。

【0064】

注入管１７ａは、面１５ｄの長手方向の中央部に設けられる。ただし、第１の実施の形態と同様、注入管１７ａの位置はこれに限られない。

【0065】

排出孔１５ｇは、注入管１７ａの両側に隣接して設けられる。本実施の形態では、排出孔１５ｇを注入管１７ａの両側に設けたが、排出孔１５ｇを注入管１７ａの片側にのみ設けてもよい。

【0066】

このように、注入管１７ａを排出孔１５ｇの内部に挿入せず、排出孔１５ｇを注入管１７ａに隣接して形成する場合においても、第１の実施の形態と同様に、不活性ガスの流路が長くなるため、注入管１７ａから注入された不活性ガスが内部空間Ｓ内全体に拡散し、少量の不活性ガスで内部空間Ｓ内を不活性ガス雰囲気にすることができる。そして、導電体グリッド１４ｂを内部空間Ｓに露出させることにより、導電体グリッドが酸素等と触れなくなるため、少量の不活性ガスでワイヤーグリッド型の偏光子の劣化を防止することができる。

【0067】

なお、排出孔１５ｇの位置、数及び形状は、図１３に示す場合に限られない。図１３では、排出孔１５ｇを２個設けたが、排出孔１５ｇの数は１個でもよいし、３個以上でもよい。また、排出孔１５ｇの位置は、注入管１７ａに隣接していれば、図１３に示す位置に限られないし、形状も円筒形状に限られない。例えば、排出孔が形成される位置は、注入管１７ａの左又は右に限られず、排出孔の上又は下でもよい。また、排出孔の面１５ｄにおける形状は、円形に限らず、楕円形等としてもよい。ただし、面１５ｄと略平行な断面における、排出孔の内側の面積（内部空間Ｓから不活性ガス等が排出される部分の面積）は、注入管１７ａの内側の面積（内部空間Ｓへ不活性ガス等が注入する部分の面積）より大きくすることが望ましい。

【0068】

以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。

【0069】

また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略中央とは、厳密に中央の場合には限られない。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、例えばＡの近傍であるときに、Ａの近くであって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。

【符号の説明】

【0070】

１ ：偏光光照射装置
２ ：偏光光照射装置
１０ ：偏光照射部
１１ ：光源
１２、１２Ａ：偏光子ユニット
１３ ：特定波長透過フィルタ
１４ ：偏光子
１４ａ ：透明基板
１４ｂ ：導電体グリッド
１５、１５Ａ：偏光子保持枠
１５ａ ：貫通孔
１５ｂ ：面
１５ｃ ：面
１５ｄ ：面
１５ｅ ：凹部
１５ｆ ：凹部
１５ｇ ：排出孔
１５ｈ ：凹部
１６ ：押さえ板
１７ ：ガス供給部
１７ａ ：注入管
２０ ：駆動部
２１ ：ステージ
２２ ：ステージガイドレール
３０ ：撮像部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】