特開 2017-151405 偏光光照射装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2017-151405(P2017-151405A)

(43)【公開日】2017年8月31日

(54)【発明の名称】偏光光照射装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1337 20060101AFI20170804BHJP

【ＦＩ】

   G02F1/1337

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】27

(21)【出願番号】特願2016-103628(P2016-103628)

(22)【出願日】2016年5月24日

(31)【優先権主張番号】特願2016-31357(P2016-31357)

(32)【優先日】2016年2月22日

(33)【優先権主張国】JP

(71)【出願人】

【識別番号】500171707

【氏名又は名称】株式会社ブイ・テクノロジー

(74)【代理人】

【識別番号】100170070

【弁理士】

【氏名又は名称】坂田 ゆかり

(72)【発明者】

【氏名】橋本 和重

(72)【発明者】

【氏名】新井 敏成

【テーマコード（参考）】

2H290

【Ｆターム（参考）】

2H290BF24

2H290BF92

(57)【要約】

【課題】所定の方向である第１方向の偏光成分の光と、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光とを、同一の対象物に対して照射することができる。
【解決手段】対象物の走査方向と略直交する方向に沿って設けられた光源から照射され、偏光子によって偏光された光は、ステージに載置された対象物のうちの、第１方向の偏光成分の光が照射される第１領域、及び第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光が照射される第２領域の少なくとも一方へ照射される。
【選択図】 図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、
前記対象物の走査方向と略直交する方向に沿って設けられた光源と、前記光源と前記ステージとの間に設けられ、前記光源から照射された光を偏光する偏光子と、を有する偏光照射部と、
を備え、
前記偏光照射部は、前記対象物の第１領域であって、前記光源から照射された光のうちの所定の方向である第１方向の偏光成分の光が照射される第１領域、及び、前記対象物の第２領域であって、前記光源から照射された光のうちの前記第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光が照射される第２領域の少なくとも一方へ偏光光を照射することを特徴とする偏光光照射装置。

【請求項2】

前記光源は、前記走査方向に隣接して設けられた第１光源及び第２光源を有し、
前記偏光子は、前記第１光源から照射された光のうちの前記第１方向の偏光成分を透過させる第１偏光子と、前記第２光源から照射された光のうちの前記第２方向の偏光成分を透過させる第２偏光子と、を有することを特徴とする請求項１に記載の偏光光照射装置。

【請求項3】

前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第１遮光部であって、前記第１光源から照射された光の一部を遮光する第１遮光板と、前記第２光源から照射された光の一部を遮光する第２遮光板と、を有する第１遮光部を有することを特徴とする請求項２に記載の偏光光照射装置。

【請求項4】

前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、
前記第１遮光板を前記第１光源に沿って移動させ、前記第２遮光板を前記第２光源に沿って移動させる遮光板駆動部と、
前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第１遮光板及び前記第２遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第１遮光板及び前記第２遮光板を移動させるように前記遮光板駆動部を制御する遮光板制御部と、
を備えたことを特徴とする請求項３に記載の偏光光照射装置。

【請求項5】

前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させるステージ駆動部を備え、
前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、
前記第１光源及び前記第２光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、
前記遮光板制御部は、前記ステージが前記シフト方向に前記シフト量だけ移動されたら、前記第１遮光板及び前記第２遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させる
ことを特徴とする請求項４に記載の偏光光照射装置。

【請求項6】

前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、
前記第１光源及び前記第２光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、
前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、
前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記光源の点灯領域を求め、前記複数のランプのうちの前記点灯領域に位置するランプのみを点灯させる光源制御部と、を備えたことを特徴とする請求項２に記載の偏光光照射装置。

【請求項7】

前記ステージは、第１の位置と第２の位置との間で回転可能に設けられ、
前記偏光子は、前記第１方向の偏光成分を透過させ、
前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第２遮光部であって、前記走査方向に沿った長さが前記光源の前記走査方向に沿った長さ以上である第３遮光板と、前記走査方向と略直交する方向の長さが前記光源の前記走査方向と略直交する方向の長さ以上である第４遮光板と、を有する第２遮光部を有し、
前記ステージが前記第１の向きにあるときには、前記第３遮光板は、前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆う位置であって、前記対象物の前記第１領域以外の領域に相当する位置に設けられ、
前記ステージが第２の向きにあるときには、前記第４遮光板は、前記対象物の前記第１領域を覆う位置に設けられる
ことを特徴とする請求項１に記載の偏光光照射装置。

【請求項8】

前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、
前記ステージを前記第１の位置と前記第２の位置との間で回転させ、かつ、前記ステージを前記走査方向に沿って移動させるステージ駆動部と、
前記第３遮光板及び前記第４遮光板を移動させる遮光板駆動部と、
前記ステージ駆動部及び前記遮光板駆動部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第３遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第３遮光板を移動させ、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第４遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第４遮光板を保つように、前記第４遮光板を前記ステージと共に前記走査方向へ移動させる
ことを特徴とする請求項７に記載の偏光光照射装置。

【請求項9】

前記制御部は、
前記ステージを回転させて前記第１の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第３遮光板が前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆い、前記第４遮光板が前記光源を覆わないように前記第３遮光板及び前記第４遮光板を移動させ、前記第１の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させ、
前記ステージを回転させて前記第２の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第３遮光板が前記光源を覆わず、前記第４遮光板が前記第１領域を覆うように前記第３遮光板及び前記第４遮光板を移動させ、前記ステージと前記第４遮光板との位置関係を保ったまま、前記第２の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させつつ、前記第４遮光板を前記走査方向へ移動させる
ことを特徴とする請求項８に記載の偏光光照射装置。

【請求項10】

前記ステージ駆動部は、前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させ、
前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、
前記光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、
前記制御部は、前記ステージを前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させ、かつ前記第３遮光板又は前記第４遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させる
ことを特徴とする請求項８又は９に記載の偏光光照射装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、偏光光照射装置に関する。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、ワイヤ・グリッド偏光子を用いた光配向用偏光光照射装置が開示されている。また、特許文献１には、大きなワイヤ・グリッド偏光子が必要な場合には、複数の偏光子を組み合わせて一つのワイヤ・グリッド偏光子として使用することが開示されている。

【0003】

特許文献２には、基板の上に所定の間隔で遮光膜が設けられており、入射角が＋θの紫外線を入射させて基板のＡ領域についての配向を行い、入射角が−θの紫外線を入射させて基板のＢ領域についての配向を行う（分配配向）光配向装置が開示されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００４−１４４８８４号公報

【特許文献2】特開２００２−３５０８５８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

特許文献１に記載の発明では、複数の偏光子を組み合わせたとしても、対象物には１方向の偏光光しか照射されない。特許文献２に記載の発明では、分配配向を行うには、照射ヘッドの回転や基板の位置あわせ等を精密に行わなければならないという問題がある。さらに、特許文献２に記載の発明における分配配向は、紫外線の入射角が異なるものであり、偏光光の向きが異なるものではない。

【0006】

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、所定の方向である第１方向の偏光成分の光と、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光とを、同一の対象物に対して照射することができる偏光光照射装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するために、本発明に係る偏光光照射装置は、例えば、偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、前記対象物の走査方向と略直交する方向に沿って設けられた光源と、前記光源と前記ステージとの間に設けられ、前記光源から照射された光を偏光する偏光子と、を有する偏光照射部と、を備え、前記偏光照射部は、前記対象物の第１領域であって、前記光源から照射された光のうちの所定の方向である第１方向の偏光成分の光が照射される第１領域、及び、前記対象物の第２領域であって、前記光源から照射された光のうちの前記第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光が照射される第２領域の少なくとも一方へ偏光光を照射することを特徴とする。

【0008】

本発明に係る偏光光照射装置によれば、対象物の走査方向と略直交する方向に沿って設けられた光源から照射され、偏光子によって偏光された光は、ステージに載置された対象物のうちの、第１方向の偏光成分の光が照射される第１領域、及び第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光が照射される第２領域の少なくとも一方へ照射される。このように、第１方向の偏光成分の光と、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光とを、同一の対象物に対して照射することができる。

【0009】

ここで、前記光源は、前記走査方向に隣接して設けられた第１光源及び第２光源を有し、
前記偏光子は、前記第１光源から照射された光のうちの前記第１方向の偏光成分を透過させる第１偏光子と、前記第２光源から照射された光のうちの前記第２方向の偏光成分を透過させる第２偏光子と、を有してもよい。これにより、対象物に対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。

【0010】

ここで、前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第１遮光部であって、前記第１光源から照射された光の一部を遮光する第１遮光板と、前記第２光源から照射された光の一部を遮光する第２遮光板と、を有する第１遮光部を有してもよい。この場合には、遮光板が設けられていない領域には偏光光が照射され、遮光板が設けられている領域には偏光光が照射されず、これらの境界において露光量は急激に変化する。これにより、対象物において、異なる偏光成分の光を照射させる領域を隣接して設けることができる。

【0011】

ここで、前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、前記第１遮光板を前記第１光源に沿って移動させ、前記第２遮光板を前記第２光源に沿って移動させる遮光板駆動部と、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第１遮光板及び前記第２遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第１遮光板及び前記第２遮光板を移動させるように前記遮光板駆動部を制御する遮光板制御部と、を備えてもよい。これにより、対象物に応じて自動的に遮光を行い、対象物に応じた方向の偏光光を自動的に照射することができる。

【0012】

ここで、前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させるステージ駆動部を備え、前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、前記第１光源及び前記第２光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、前記遮光板制御部は、前記ステージが前記シフト方向に前記シフト量だけ移動されたら、前記第１遮光板及び前記第２遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させてもよい。これにより、遮光板が設けられていない領域に対して、偏光光を安定して照射することができる。また、長手方向が走査方向に沿って設けられたランプを用いることで、ランプからの光の出射角度θを大きくし、遮光板が設けられている領域と設けられていない領域との境界における露光量の変化をより急峻にすることができる。その結果、異なる偏光成分の光を照射させる領域を対象物内に隣接して設け、より効率的に対象物を活用することができる。

【0013】

ここで、前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、前記第１光源及び前記第２光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記光源の点灯領域を求め、前記複数のランプのうちの前記点灯領域に位置するランプのみを点灯させる光源制御部と、を備えてもよい。これにより、点灯領域に位置するランプのみを点灯させて、熱が過度に発生することを防止することができる。

【0014】

ここで、前記ステージは、第１の位置と第２の位置との間で回転可能に設けられ、前記偏光子は、前記第１方向の偏光成分を透過させ、前記偏光照射部は、前記偏光子と前記ステージとの間に設けられた第２遮光部であって、前記走査方向に沿った長さが前記光源の前記走査方向に沿った長さ以上である第３遮光板と、前記走査方向と略直交する方向の長さが前記光源の前記走査方向と略直交する方向の長さ以上である第４遮光板と、を有する第２遮光部を有し、前記ステージが前記第１の向きにあるときには、前記第３遮光板は、前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆う位置であって、前記対象物の前記第１領域以外の領域に相当する位置に設けられ、前記ステージが第２の向きにあるときには、前記第４遮光板は、前記対象物の前記第１領域を覆う位置に設けられてもよい。これにより、１種類の偏光子で（第１方向の偏光成分を透過させる第１偏光子と、第２方向の偏光成分を透過させる第２偏光子を用いることなく）、異なる方向の偏光成分の光を同一の対象物Ｗに照射することができる。また、光源が全て常時点灯しているため、第３遮光板、第４遮光板の位置を変えるだけで、複数の種類の基板を連続して露光することができる。

【0015】

ここで、前記対象物に関する情報を取得する情報取得部と、前記ステージを前記第１の位置と前記第２の位置との間で回転させ、かつ、前記ステージを前記走査方向に沿って移動させるステージ駆動部と、前記第３遮光板及び前記第４遮光板を移動させる遮光板駆動部と、前記ステージ駆動部及び前記遮光板駆動部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第３遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第３遮光板を移動させ、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて前記第４遮光板の位置を決定し、当該決定された位置に前記第４遮光板を保つように、前記第４遮光板を前記ステージと共に前記走査方向へ移動させてもよい。これにより、対象物に応じて自動的に不要な光を遮光することができる。

【0016】

ここで、前記制御部は、前記ステージを回転させて前記第１の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第３遮光板が前記光源を前記走査方向に沿って帯状に覆い、前記第４遮光板が前記光源を覆わないように前記第３遮光板及び前記第４遮光板を移動させ、前記第１の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させ、前記ステージを回転させて前記第２の向きにし、かつ、前記情報取得部により取得された情報に基づいて、前記第３遮光板が前記光源を覆わず、前記第４遮光板が前記第１領域を覆うように前記第３遮光板及び前記第４遮光板を移動させ、前記ステージと前記第４遮光板との位置関係を保ったまま、前記第２の向きで前記ステージを前記走査方向へ移動させつつ、前記第４遮光板を前記走査方向へ移動させてもよい。このように、それぞれの露光処理で別々の遮光板を用いて不要な光を遮光することで、全ての光源を点灯させたまま、同一の対象物Ｗに、第１方向の偏光成分の光が照射される第１領域と、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光が照射される第２領域と、順番に形成することができる。

【0017】

ここで、前記ステージ駆動部は、前記ステージを前記走査方向に移動させると共に、前記ステージを前記走査方向と略直交するシフト方向にシフト量だけ移動させ、前記光源は、長手方向が前記走査方向に沿って設けられた複数のランプを有し、前記光源は、前記複数のランプを、前記走査方向と略直交する方向に並べて設けることにより、前記走査方向と略直交する方向に沿って設けられ、前記制御部は、前記ステージを前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させ、かつ前記第３遮光板又は前記第４遮光板を前記シフト方向に前記シフト量だけ移動させてもよい。これにより、遮光板が設けられていない領域に対して、偏光光を安定して照射することができる。

【発明の効果】

【0018】

本発明によれば、所定の方向である第１方向の偏光成分の光と、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光とを、同一の対象物に対して照射することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す正面図である。

【図2】偏光照射部１０の概略を示す平面図である。

【図3】偏光照射部１０を側面から見たときの概略を示す要部透視図である。

【図4】偏光光照射装置１の電気的な構成を示すブロック図である。

【図5】偏光光照射装置１の処理の流れを示すフローチャートである。

【図6】偏光照射部１０の一部を模式的に示す図であり、光源列１１ａに位置するランプ１１ｘ、特定波長透過フィルタ１２、偏光子１３Ａ及び遮光板１４ａを例示したものである。

【図7】露光条件の一例を示す図である。

【図8】図７に示す露光条件で対象物Ｗに偏光光を照射した場合において、対象物Ｗにおける偏光光の照射量を示す図である。

【図9】偏光照射部１０を用いて１方向の偏光光のみを対象物Ｗに照射する場合について説明する図である。

【図10】第２の実施の形態に係る偏光光照射装置の偏光照射部１０Ａについて説明する図である。

【図11】第３の実施の形態に係る偏光光照射装置の偏光照射部１０Ｂについて説明する図である。

【図12】第３の実施の形態の偏光光照射装置の処理の流れを示すフローチャートである。

【図13】第４の実施の形態に係る偏光光照射装置の偏光照射部１０Ｃについて説明する図である。

【図14】第５の実施の形態に係る偏光光照射装置２の概略を示す正面図である。

【図15】偏光照射部１０Ｄの概略を示す平面図である。

【図16】偏光照射部１０Ｄを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。

【図17】偏光光照射装置２の電気的な構成を示すブロック図である。

【図18】偏光光照射装置２の処理の流れを示すフローチャートである。

【図19】偏光光照射装置２が＋ｙ側に位置するステージ２０に載置された対象物Ｗを露光処理するときの流れを説明する図であり、一度目の露光処理の模式図である。

【図20】偏光光照射装置２が＋ｙ側に位置するステージ２０に載置された対象物Ｗを露光処理するときの流れを説明する図であり、二度目の露光処理の模式図である。

【図21】偏光光照射装置２が＋ｙ側に位置するステージ２０に載置された対象物Ｗを露光処理するときの流れを説明する図であり、三度目の露光処理の模式図である。

【図22】偏光光照射装置２が＋ｙ側に位置するステージ２０に載置された対象物Ｗを露光処理するときの流れを説明する図であり、四度目の露光処理の模式図である。

【図23】遮光板１４ｅとステージ２０との位置関係が、ステップＳ３４で決定された位置関係となったときの光源１１Ｂ、遮光板１４ｅ及び対象物Ｗ（ステージ２０）の位置関係を模式する図である。

【図24】遮光板１４ｅを対象物Ｗ（ステージ２０）と共にｙ方向（ここでは−ｙ方向）へ移動させている状態を示す図である。

【図25】遮光板１４ｅ及び対象物Ｗ（ステージ２０）をさらにｙ方向（ここでは−ｙ方向）へ移動させて、遮光板１４ｅが光源１１Ｂの下を通過し終わった状態を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。

【0021】

＜第１の実施の形態＞
図１は、第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す正面図である。偏光光照射装置１は、例えば、光源からの光を偏光膜を通過させて偏光を得、この偏光をガラス基板等（以下、対象物Ｗという）の被露光面に照射して、液晶パネル用の配向膜等を生成するものである。特に、対象物Ｗのダミー領域の活用度を高めるために、１つの対象物Ｗ内に、複数の大きさのセル（例えば、ビッグサイズのセルとスモールサイズのセル）を複数個配置するＭＭＧ（Ｍｕｌｔｉ−Ｍｏｄｅｌ ｏｎ Ｇｌａｓｓ）方式の露光をする場合に有用である。

【0022】

以下、対象物Ｗの搬送方向をｙ方向とし、搬送方向に直交する方向をｘ方向とし、鉛直方向をｚ方向とする。

【0023】

偏光光照射装置１は、主として、偏光照射部１０と、ステージ２０と、ステージ駆動部３０と、を有する。

【0024】

偏光照射部１０は、対象物Ｗに偏光を照射する。偏光照射部１０については後に詳述する。

【0025】

ステージ２０は、ｘ方向（対象物Ｗの走査方向と略直交する方向）及びｙ方向（対象物Ｗの走査方向）に移動可能に設けられる。ステージ２０の上面には、対象物Ｗが載置される。

【0026】

ステージ駆動部３０は、ｙ方向に延設されたステージガイドレール３１と、アクチュエータ等を有する駆動部３２と、を有する。駆動部３２は、ステージガイドレール３１（すなわち、走査方向）に沿ってステージ２０を移動させる（図１の太矢印参照）。また、駆動部３２は、ステージ２０を走査方向（ｙ方向）と略直交するシフト方向（ｘ方向）にシフト量（後に詳述）だけ移動させる。ステージ駆動部３０がステージ２０を移動させる構成は、すでに公知であるため、説明を省略する。

【0027】

次に、偏光照射部１０について詳細に説明する。図２は、偏光照射部１０の概略を示す平面図である。図３は、偏光照射部１０を側面から見たときの概略を示す要部透視図である。

【0028】

偏光照射部１０は、主として、光源１１と、特定波長透過フィルタ１２と、偏光子１３と、遮光部１４と、リフレクタ１５と、を有する。なお、図２では、特定波長透過フィルタ１２及びリフレクタ１５の図示を省略している。

【0029】

光源１１は、複数のランプ１１ｘを含む。ランプ１１ｘは、棒状であり、偏光していない光（例えば、紫外光）を照射する。ランプ１１ｘとして、光配向処理に必要な短波長紫外光（例えば、２５４ｎｍ波長光）を効率よく発光するロングアークランプを用いることができる。

【0030】

ランプ１１ｘは、長手方向がｙ方向に沿うように設けられる。複数のランプ１１ｘをｘ方向に並べて設けることで、ｘ方向に沿って延びる光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄが配置される。光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄは、ｙ方向に隣接して設けられる。なお、光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄのそれぞれに含まれるランプ１１ｘの数は図２に示す形態に限られない。また、図２では、光源１１は４つの光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄを有するが、光源１１が有する光源列の数も４つに限られない。

【0031】

ランプ１１ｘから照射された光は、リフレクタ１５で反射され、特定波長透過フィルタ１２と、偏光子１３を通過して、対象物Ｗに照射される（図３参照）。

【0032】

光源１１の下側（−ｚ側）、すなわち光源１１とステージ２０との間には、特定波長透過フィルタ１２、偏光子１３及び遮光部１４が設けられる（図３参照）。特定波長透過フィルタ１２及び偏光子１３は、１つのランプ１１ｘに対して１個ずつ設けられ、遮光部１４は、光源列１１ａ、１１ｄ毎に設けられる。

【0033】

特定波長透過フィルタ１２は、特定の波長範囲の光だけを透過し、他の波長の光を吸収するようにつくられたフィルタである。特定波長透過フィルタ１２は、板状のガラス（石英ガラス等）である透明基板上に、特定の波長範囲の光だけを透過させるバンドパスフィルタのフィルタ層が形成されている。ただし、透明基板上に形成されるフィルタはバンドパスフィルタに限られず、例えばローカットフィルタや反射フィルタであってもよい。

【0034】

偏光子１３は、無偏光の光を偏光するものであり、特定波長透過フィルタ１２の下側（−ｚ側）に設けられる。偏光子１３は、ランプ１１ｘ毎に１つずつ設けられてもよいし、ランプ１１ｘ毎に２つ以上設けられてもよい。

【0035】

偏光子１３としては、入射角度依存性の少ないワイヤーグリッド偏光子が用いられる。ワイヤーグリッド偏光子とは、透明基板１３ａ（図３参照）の表面に金属線１３ｂ（図３参照）が形成されたものである。金属線１３ｂのピッチを入射する光の波長以下にすることで、金属線１３ｂの長手方向に略平行な偏光成分を反射し、金属線１３ｂの長手方向と略直交する偏光成分を通過させる。金属線１３ｂは、例えばアルミニウムで形成される。図３においては、金属線１３ｂの長手方向を図示している。

【0036】

偏光子１３は、偏光方向が異なる２種類の偏光子１３Ａ、１３Ｂを有する。図３に示すように、偏光子１３Ａは、金属線１３ｂの長手方向がｙ方向に沿っており、ｘ方向の偏光成分を通過させる。偏光子１３Ｂは、金属線１３ｂの長手方向がｘ方向に沿っており、ｙ方向の偏光成分を通過させる。このように、偏光子１３Ａ、１３Ｂとは、通過させる偏光成分の方向が異なる。

【0037】

光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃに位置するランプ１１ｘの下には、偏光子１３Ａが設けられる。光源列１１ｄに位置するランプ１１ｘの下には、偏光子１３Ｂが設けられる。図中、偏光光の向きを白抜き矢印で模式的に示す。

【0038】

図２に示すように、異なる偏光子１３Ａ、１３Ｂが設けられた光源列１１ａ、１１ｄについては、光源列１１ａ、１１ｄに位置するランプ１１ｘのｘ方向の位置は同じである。それに対し、同じ偏光子１３Ａが設けられた光源列である光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃについては、光源列１１ａに位置するランプ１１ｘと、光源列１１ｂに位置するランプ１１ｘと、光源列１１ｃに位置するランプ１１ｘとは、それぞれ所定量（以下、ずれ量Ｓという）だけｘ方向にずれている。そして、この所定量に基づいてシフト量が定められる（後に詳述）。

【0039】

なお、偏光子１３は、ワイヤーグリッド偏光子に限られず、任意の方向の光のみを透過させる様々な種類の偏光子を用いることができる。

【0040】

遮光部１４は、偏光子１３を通過した偏光光を遮光して、対象物Ｗに偏光光が照射されないようにする。

【0041】

遮光部１４は、遮光板１４ａを有する。図３に示すように、遮光板１４ａは、偏光子１３の下側、すなわち偏光子１３とステージ２０との間に設けられる。本実施の形態では、２枚の遮光板１４ａを有し、光源列１１ａ、１１ｄのそれぞれに遮光板１４ａが１枚ずつ設けられる。図２に示すように、光源列１１ａに設けられた遮光板１４ａは、光源列１１ａに位置するランプ１１ｘから照射された光の一部を遮光し、光源列１１ｄに設けられた遮光板１４ａは、光源列１１ｄに位置するランプ１１ｘから照射された光の一部を遮光する。

【0042】

偏光光を効率的に遮光するため、遮光板１４ａは、対象物Ｗにできるだけ近い位置に設けられる。本実施の形態では、ランプ１１ｘと対象物Ｗとの距離が１３０〜１４０ｍｍ程度であり、遮光板１４ａと対象物Ｗとの距離が２ｍｍ程度である（図３参照）。

【0043】

また、遮光部１４は、主として、ｘ方向に沿った軸１４ｂ（図２参照）と、遮光板１４ａを軸１４ｂに沿って移動させるアクチュエータ等の遮光板駆動部１４ｃ（図４参照）と、を有する。したがって、遮光板１４ａは、光源列１１ａ、１１ｄに沿って（ｘ方向に）移動可能である。

【0044】

図４は、偏光光照射装置１の電気的な構成を示すブロック図である。偏光光照射装置１は、主として、制御部１０１、記憶部１０２、入力部１０３、出力部１０４を含んで構成される。

【0045】

制御部１０１は、演算装置であるＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等のプログラム制御デバイスであり、記憶部１０２に格納されたプログラムにしたがって動作する。本実施の形態では、この制御部１０１は、点灯領域（後に詳述）に位置するランプ１１ｘのみを点灯させる光源制御部１０１ａ、遮光板駆動部１４ｃを制御する遮光板制御部１０１ｂ、及び駆動部３２を制御するステージ制御部１０１ｃとして機能する。制御部１０１の詳しい動作の内容については、後に詳述する。

【0046】

記憶部１０２は、不揮発性メモリ、揮発性メモリ等であり、制御部１０１によって実行されるプログラム等を保持するとともに、制御部１０１のワークメモリとして動作する。

【0047】

入力部１０３は、キーボードやマウス等の入力デバイスを含む。本実施の形態では、入力部１０３から、対象物Ｗに関する情報が入力される。出力部１０４は、ディスプレイ等である。

【0048】

このように構成された偏光光照射装置１の作用について説明する。図５は、偏光光照射装置１の処理の流れを示すフローチャートである。処理を行う前には、ステージ２０は図１に示す初期位置にある。

【0049】

入力部１０３から対象物Ｗに関する情報が入力されると、まず、光源制御部１０１ａは、点灯領域を決定し、遮光板制御部１０１ｂは、遮光板１４ａの位置を決定する（ステップＳ１０）。以下、ステップＳ１０の処理について詳細に説明する。

【0050】

対象物Ｗに関する情報とは、例えば、対象物Ｗは領域Ｗａと領域Ｗｂとを有し、領域Ｗａ（図２参照）はｙ方向に沿った偏光光を照射させる領域であり、領域Ｗｂ（図２参照）はｘ方向に沿った偏光光を照射させる領域であることを示す情報である。

【0051】

点灯領域は、ｘ方向の位置で表される。光源制御部１０１ａは、光源列１１ｄ（ｙ方向の偏光成分が透過）について、露光前に対象物Ｗがステージ２０に載置されたときにおける領域Ｗａのｘ方向の位置を点灯領域と決定する。また、光源制御部１０１ａは、光源列１１ａ（ｘ方向の偏光成分が透過）について、露光前に対象物Ｗがステージ２０に載置されたときにおける領域Ｗｂのｘ方向の位置を点灯領域と決定する。

【0052】

記憶部１０２には、ランプ１１ｘのそれぞれついて番号と位置とを関連付けた情報（ランプ１１ｘについての情報）が記憶されている。光源制御部１０１ａは、ランプ１１ｘについての情報に基づいて、点灯領域に位置するランプ１１ｘがどれであるかを判定することができる。

【0053】

また、遮光板制御部１０１ｂは、遮光板１４ａの端部が点灯領域の境界と略一致し、遮光板１４ａが点灯領域と重ならない位置を、遮光板１４ａの位置として決定する。

【0054】

次に、光源制御部１０１ａは、ステップＳ１０で決定された点灯領域に位置するランプ１１ｘを点灯させる（ステップＳ１２）。図２においては、点灯領域に位置するランプ１１ｘに対して網掛け表示をしている。それと共に、遮光板制御部１０１ｂは、遮光板駆動部１４ｃを介して遮光板１４ａを軸１４ｂに沿って移動させて、ステップＳ１０で決定された位置に遮光板１４ａを移動させる（ステップＳ１２）。図２においては、遮光板１４ａを網掛け表示している。

【0055】

図５の説明に戻る。ステージ制御部１０１ｃは、駆動部３２を介してステージ２０（すなわち、対象物Ｗ）を走査方向であるｙ方向に移動（一往復）させて、偏光照射部１０から照射された光を対象物Ｗの被露光面に照射して配向膜等を生成する露光処理を行う（ステップＳ１４）。

【0056】

図６は、偏光照射部１０の一部を模式的に示す図であり、光源列１１ａに位置するランプ１１ｘ、特定波長透過フィルタ１２、偏光子１３Ａ及び遮光板１４ａを例示したものである。図６において、ランプ１１ｘから照射される光を細い２点鎖線で示す。

【0057】

遮光板１４ａが配置されていない部分については、ランプ１１ｘから照射された光は、特定波長透過フィルタ１２及び偏光子１３を通過して対象物Ｗに照射される。それに対し、遮光板１４ａが配置されている部分については、ランプ１１ｘから照射された光は、特定波長透過フィルタ１２及び偏光子１３を通過するが、遮光板１４ａでさえぎられて対象物Ｗに照射されない。

【0058】

遮光板１４ａは、端部が点灯領域の境界と略一致し、かつ点灯領域と重ならない位置に設けられているため、点灯領域以外の領域については、対象物Ｗに偏光光が照射されない。

【0059】

このように、ステップＳ１４では、遮光板１４ａで遮光されなかった光のみが対象物Ｗの被露光面に照射される。本実施の形態では、領域Ｗａには、光源列１１ｄから照射された光のうちのｙ方向の偏光光のみが照射され、それと同時に、領域Ｗｂには、光源列１１ａから照射された光のうちのｘ方向の偏光光のみが照射される。なお、露光処理自体は一般的な処理であるため、詳細な説明を省略する。

【0060】

図５の説明に戻る。ステージ制御部１０１ｃは、規定の露光回数だけ露光処理（ステップＳ１４）が行われたか否かを判定する（ステップＳ１６）。露光回数は、シフト量等に基づいて予め定められており、記憶部１０２に記憶されている。また、シフト量は、ずれ量Ｓ（図２参照）に基づいて予め定められており、記憶部１０２に記憶されている。例えば、シフト量は、ずれ量Ｓの１／２の値、ずれ量Ｓの１／４の値等である。また、例えば、ずれ量Ｓが１４４ｍｍであり、シフト量が２４ｍｍである場合には、露光回数は６回（＝１４４ｍｍ／２４ｍｍ）である。

【0061】

露光回数だけ露光処理が行われていない場合（ステップＳ１６でＮＯ）には、ステージ制御部１０１ｃは、駆動部３２を介して、ステージ２０をシフト方向にシフト量だけ移動させる（ステップＳ１８）。それと共に、遮光板制御部１０１ｂは、遮光板駆動部１４ｃを介して、遮光板１４ａをシフト方向にシフト量だけ移動させる（ステップＳ１８）。なお、シフト方向は、予め定められており、記憶部１０２に記憶されている。

【0062】

そして、ステージ制御部１０１ｃは、ステージ２０及び遮光板１４ａをシフト方向にシフト量だけ移動させた状態において、露光処理を行う（ステップＳ１４）。

【0063】

露光回数だけ露光処理が行われた場合（ステップＳ１６でＹＥＳ）には、ステージ制御部１０１ｃは、１枚の対象物Ｗに対する処理を終了する。

【0064】

ここで、遮光板１４ａを設け、点灯領域のランプ１１ｘのみ点灯させた場合において、図５に示す処理により対象物Ｗがどのように露光されるかについて説明する。図７は、露光条件（点灯領域、シフト量、シフト方向等）の一例を示す図であり、図８は、図７に示す露光条件で対象物Ｗに偏光光を照射した場合において、対象物Ｗにおける偏光光の照射量を示す図である。

【0065】

図７においては、ｘ方向が４８ｍｍ、１９２ｍｍ、３３６ｍｍ及び４８０ｍｍの位置にランプ１１ｘが設けられている。また、図７においては、点灯領域はｘ≧１９２ｍｍであり、ｘ方向＝１９２ｍｍ、３３６ｍｍ及び４８０ｍｍに位置するランプ１１ｘが点灯されている。図７では、点灯領域に位置するランプ１１ｘを網掛け表示している。

【0066】

また、遮光板１４ａは、１回目の露光時（シフト方向に対象物Ｗが移動されていない場合）において、端部のｘ方向の位置が１９２ｍｍとなり、かつ点灯領域と重ならないように（すなわち、遮光板１４ａのｘ方向の位置が１９２ｍｍ以下となるように）設けられる。また、図７は、シフト方向が−ｘ方向、シフト量が２４ｍｍで６回露光処理が行われたことを示す。

【0067】

図８の横軸の数字は１回目の露光時における対象物Ｗのｘ方向の位置を示す。図８に示すように、シフト方向に対象物Ｗが移動されていない状態における点灯領域（ｘが１９２ｍｍ以上）に相当する領域においては、対象物Ｗに偏光光が安定して照射されている。それに対し、遮光板１４ａが設けられている領域に対しては、対象物Ｗに偏光光が照射されていない。また、遮光板１４ａが設けられているため、シフト方向に対象物Ｗが移動されていない状態における点灯領域の端部近傍において、露光量は急激に変化しており、露光量が安定しない領域は狭くなっている。

【0068】

本実施の形態によれば、同一の対象物に対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。例えば、ある光源列（例えば、光源列１１ａ）から照射された光を、走査方向と略直交する又は略平行な第１方向の偏光成分を透過させる偏光子（例えば、偏光子１３Ａ）を透過させて、対象物Ｗのある領域（例えば、領域Ｗａ）に照射させることができる。そして、それと同時に、別の光源列（例えば、光源列１１ｄ）から照射された光を、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分を透過させる偏光子（例えば、偏光子１３Ｂ）を透過させて、対象物Ｗの領域Ｗａとは異なる領域（例えば、領域Ｗｂ）に照射させることができる。これにより、所定の方向である第１方向の偏光成分の光と、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光とを同時に対象物Ｗに照射し、領域Ｗａ、Ｗｂにおいてそれぞれ向きの異なる配向膜等を同時に生成することができる。例えば、領域Ｗａにスモールサイズのセルを形成し、領域Ｗｂにビッグサイズのセルを形成することで、ＭＭＧに対応可能であり、対象物Ｗのダミー領域の活用度を高めることができる。

【0069】

また、本実施の形態によれば、点灯領域に隣接する位置に遮光板１４ａを設けることで、１枚の対象物Ｗに対して異なる方向の偏光光を同時に照射する場合に、異なる偏光成分の光を照射させる領域（例えば、領域Ｗａ、Ｗｂ）を隣接して設けることができる。

【0070】

また、本実施の形態によれば、点灯領域に位置するランプ１１ｘのみを点灯するため、熱が過度に発生することを防止することができる。これは、長手方向が走査方向に沿って設けられたランプ１１ｘを用いる場合にのみ可能である。

【0071】

また、本実施の形態によれば、長手方向が走査方向に沿って設けられたランプを用いることで、ランプからの光の出射角度θ（図６参照）を大きし、遮光板が設けられている領域と設けられていない領域との境界における露光量の変化をより急峻にすることができる。その結果、例えば、領域Ｗａに形成するスモールサイズのセルと、領域Ｗｂに形成するビッグサイズのセルとの距離を近くし、より効率的に対象物Ｗを活用することができる。

【0072】

また、本実施の形態によれば、制御部１０１が自動的に点灯領域や遮光板１４ａの位置を決定するため、対象物Ｗに応じて自動的に露光を行うことができる。

【0073】

なお、本実施の形態では、偏光子１３Ａが透過させる偏光成分の向きと、偏光子１３Ｂが透過させる偏光成分の向きとは略直交するが、それぞれの偏光子が透過させる偏光の成分はこれに限られない。例えば、光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃの下側に設けられる偏光子は、走査方向と略直交する方向（又は、略平行な方向）の偏光成分を通過させ、光源列１１ｄの下側に設けられる偏光子は、走査方向と略直交する方向（又は、略平行な方向）から５度〜１０度程度傾いた方向の偏光成分を通過させてもよい。また、光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃの下側に設けられる偏光子は、走査方向と略直交する方向又は略平行な方向でもよいし、走査方向と関係のない所定の方向でもよい。そして、この所定の方向は、対象物Ｗに形成するパネル（セル）の仕様に基づいて定めることができる。

【0074】

また、本実施の形態では、制御部１０１が対象物Ｗに関する情報に基づいて点灯領域及び遮光板１４ａの位置を決定したが、点灯領域や遮光板１４ａの位置を作業者が決定し、記憶部１０２に記憶させても良い。また、本実施の形態では、制御部１０１が点灯領域にあるランプ１１ｘを自動的に点灯し、遮光板１４ａを自動的に移動させたが、作業者が手動で点灯領域のランプ１１ｘを点灯させたり、作業者が手動で遮光板１４ａを配置したりしてもよい。

【0075】

＜第１の実施の形態の変形例１＞
すでに説明したように、偏光光照射装置１は、対象物Ｗに同時に異なる方向の偏光光を照射することで、領域Ｗａ、Ｗｂにおいてそれぞれ向きの異なる配向膜等を同時に生成したが、１方向の偏光光のみを対象物Ｗに照射することもできる。

【0076】

図９は、偏光照射部１０を用いて１方向の偏光光のみを対象物Ｗに照射する場合について説明する図である。

【0077】

遮光板１４ａを光源列１１ａ、１１ｄのランプ１１ｘと重ならない位置まで移動させ、光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃのランプ１１ｘを点灯させる（図９網掛け表示参照）。これにより、偏光子１３Ａを通過したｘ方向の偏光光のみを対象物Ｗに照射させることができる。

【0078】

このように、偏光光照射装置１は、異なる方向の偏光光を同時に照射することもできるし、１方向の偏光光のみを照射させることもできる。なお、１方向の偏光光のみを照射させる場合についても、処理の流れは図５に示す場合と同様であるため、説明を省略する。

【0079】

＜第２の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、各光源列１１ａ、１１ｄにそれぞれ遮光板１４ａを１枚ずつ用いたが、遮光板１４ａの数はこれに限られない。

【0080】

第２の実施の形態は、各光源列１１ａ、１１ｄにそれぞれ複数の遮光板１４ａを用いる形態である。以下、第２の実施の形態の偏光光照射装置について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第２の実施の形態の偏光光照射装置との差異は、遮光板１４ａの数のみであるため、以下、第２の実施の形態の偏光光照射装置における偏光照射部１０Ａについてのみ説明する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。

【0081】

図１０は、偏光照射部１０Ａについて説明する図である。偏光照射部１０Ａは、主として、光源１１と、特定波長透過フィルタ１２（図示省略）と、偏光子１３と、遮光部１４Ａと、リフレクタ１５（図示省略）と、を有する。遮光部１４Ａは、各光源列１１ａ、１１ｄにそれぞれ３枚ずつ設けられた遮光板１４ａを有する。

【0082】

光源制御部１０１ａは、光源列１１ｄについて、露光前に対象物Ｗがステージ２０に載置されたときにおける領域Ｗｃのｘ方向の位置を点灯領域と決定する。また、光源制御部１０１ａは、光源列１１ａについて、露光前に対象物Ｗがステージ２０に載置されたときにおける領域Ｗｄのｘ方向の位置を点灯領域と決定する。図１０においては、点灯領域に位置するランプ１１ｘを網掛け表示している。

【0083】

また、遮光板制御部１０１ｂは、光源列１１ａに設けられた遮光板１４ａ及び光源列１１ｄに設けられた遮光板１４ａの端部が点灯領域の境界と略一致し、遮光板１４ａが点灯領域と重ならない位置を、遮光板１４ａの位置として決定する。図１０においては、遮光板１４ａを網掛け表示している。

【0084】

本実施の形態においても、対象物Ｗに対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。なお、処理の流れは、図５に示す場合と同様であるため、説明を省略する。

【0085】

なお、遮光板１４ａの枚数を多くすることで、図１０における点灯領域以外の領域を全て覆うように遮光板１４ａを配置することができる。したがって、点灯領域以外の領域を全て遮光板１４ａで覆う場合には、光源列１１ａ、１１ｄのランプ１１ｘを全て点灯したとしても、点灯領域に位置するランプ１１ｘのみを点灯した場合と同様の効果を得ることができる。

【0086】

＜第３の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、遮光板１４ａを用いて遮光を行ったが、遮光板は必須ではない。

【0087】

第３の実施の形態は、遮光板１４ａを用いない形態である。以下、第３の実施の形態の偏光光照射装置について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第３の実施の形態の偏光光照射装置との差異は、遮光部１４の有無のみであるため、以下、第３の実施の形態の偏光光照射装置における偏光照射部１０Ｂについてのみ説明する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。

【0088】

図１１は、偏光照射部１０Ｂについて説明する図である。偏光照射部１０Ｂは、主として、光源１１と、特定波長透過フィルタ１２（図示省略）と、偏光子１３と、リフレクタ１５（図示省略）と、を有する（遮光部１４は設けられていない）。

【0089】

図１２は、第３の実施の形態の偏光光照射装置の処理の流れを示すフローチャートである。

【0090】

入力部１０３から対象物Ｗに関する情報が入力されると、まず、光源制御部１０１ａは、点灯領域を決定する（ステップＳ１１）。例えば、光源制御部１０１ａは、光源列１１ｄについて、露光前に対象物Ｗがステージ２０に載置されたときにおける領域Ｗｅのｘ方向の位置を点灯領域と決定する。また、光源制御部１０１ａは、光源列１１ａについて、露光前に対象物Ｗがステージ２０に載置されたときにおける領域Ｗｆのｘ方向の位置を点灯領域と決定する。

【0091】

次に、光源制御部１０１ａは、ステップＳ１０で決定された点灯領域に位置するランプ１１ｘを点灯させる（ステップＳ１３）。図１２においては、点灯領域に位置するランプ１１ｘを網掛け表示している。

【0092】

ステージ制御部１０１ｃは露光処理を行い（ステップＳ１４）、規定の露光回数だけ露光処理が行われたか否かを判定する（ステップＳ１６）。露光回数だけ露光処理が行われていない場合（ステップＳ１６でＮＯ）には、ステージ制御部１０１ｃは、駆動部３２を介して、ステージ２０をシフト方向にシフト量だけ移動させる（ステップＳ１９）。そして、ステージ制御部１０１ｃは、ステージ２０をシフト方向にシフト量だけ移動させた状態において、露光処理を行う（ステップＳ１４）。

【0093】

露光回数だけ露光処理が行われた場合（ステップＳ１６でＹＥＳ）には、ステージ制御部１０１ｃは、１枚の対象物Ｗに対する処理を終了する。

【0094】

本実施の形態においても、対象物Ｗに対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。ただし、本実施の形態においては、遮光板１４ａを設けないため、異なる方向の偏光光を照射させる領域Ｗｅ、Ｗｆを隣接させることができない。したがって、効率的に配向膜等を生成するためには、遮光板１４ａを設けることが望ましい。また、領域Ｗｅ、Ｗｆをできるだけ近くするためには、ランプ１１ｘからの出射角度θ（図６参照）をできるだけ大きく（例えば、略４５度以下）することが望ましい。そして、ランプ１１ｘからの出射角度θをできるだけ大きくするためには、長手方向がｙ方向に沿うように設けた棒状のランプ１１ｘを、ｘ方向に複数並べてｘ方向に沿って延びる光源列１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄとした光源１１を用いることが望ましい。

【0095】

＜第４の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、長手方向がｙ方向に沿うように設けられたランプ１１ｘをｘ方向に複数並べて光源列を形成したが、光源の形態はこれに限られない。

【0096】

第４の実施の形態は、ｘ方向に沿った長いランプを用いる形態である。以下、第４の実施の形態の偏光光照射装置について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第４の実施の形態の偏光光照射装置との差異は、光源の形態のみであるため、以下、第４の実施の形態の偏光光照射装置における偏光照射部１０Ｃについてのみ説明する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。

【0097】

図１３は、偏光照射部１０Ｃについて説明する図である。偏光照射部１０Ｃは、主として、光源１１Ａと、特定波長透過フィルタ１２（図示省略）と、偏光子１３と、遮光部１４Ｂと、リフレクタ１５（図示省略）と、を有する。

【0098】

光源１１Ａは、ｘ方向に沿って設けられたランプ１１ｙを２本有する。２本のランプ１１ｙは、ｙ方向に隣接して設けられる。なお、ランプ１１ｙの本数は２本に限られない。

【0099】

ランプ１１ｙの下側には、複数の偏光子１３Ａ、１３Ｂが隣接して設けられる。遮光部１４Ｂは、２本のランプ１１ｙに対してそれぞれ設けられた複数の遮光板１４ａと、軸１４ｂと、を有する。

【0100】

第３の実施の形態の偏光光照射装置においては、入力部１０３から対象物Ｗに関する情報が入力されると、遮光板制御部１０１ｂは、対象物Ｗに関する情報に基づいて遮光板１４ａの位置を決定し、決定された位置へと遮光板１４ａを移動させる。なお、図１３においては、遮光板１４ａに対して網掛け表示をしている。

【0101】

次に、光源制御部１０１ａはランプ１１ｙを点灯し、ステージ制御部１０１ｃは露光処理を行う。

【0102】

本実施の形態においても、対象物Ｗに対して、異なる方向の偏光光を同時に照射することができる。なお、本実施の形態では、光源制御部１０１ａは無くてもよい。また、ランプ１１ｙから照射された光を遮光するため、遮光板１４ａを多数設けることが望ましい。

【0103】

また、本実施の形態においても、遮光板１４ａをランプ１１ｙと重ならない位置まで移動させ、一方のランプ１１ｙのみを点灯させることにより、偏光子１３Ａ又は偏光子１３Ｂを通過した１方向の偏光光のみを対象物Ｗに照射させることができる。

【0104】

＜第５の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、所定の方向である第１方向の偏光成分の光と、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光とを同時に対象物Ｗに照射して、対象物Ｗに領域Ｗａ、Ｗｂを同時に生成したが、第１方向の偏光成分の光と第２方向の偏光成分の光とを同時に対象物Ｗに照射しなくても、第１方向の偏光成分の光が照射される領域と、第２方向の偏光成分の光が照射される領域とを対象物Ｗに生成することができる。

【0105】

第５の実施の形態は、第１方向の偏光成分の光が照射された領域と、第２方向の偏光成分の光が照射された領域とを、別個の露光動作により対象物Ｗに生成する形態である。以下、第５の実施の形態の偏光光照射装置２について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第５の実施の形態の偏光光照射装置２とで同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。

【0106】

図１４は、偏光光照射装置２の概略を示す正面図である。偏光光照射装置２は、主として、偏光照射部１０Ｄと、ステージ２０と、ステージ駆動部３０Ａと、を有する。偏光光照射装置２は、偏光照射部１０Ｄの両側に２個のステージ２０が設けられている。

【0107】

偏光照射部１０Ｄは、対象物Ｗに偏光を照射する。偏光照射部１０Ｄについては後に詳述する。ステージ２０は、第１の位置と第２の位置との間で回転可能に設けられる。ステージ駆動部３０Ａは、ステージガイドレール３１と、駆動部３２と、ステージ２０をｘｙ平面に沿って回転させる回転駆動部３３と、を有する。回転駆動部３３は、図示しない回動軸とアクチュエータ等を有し、ステージ２０を第１の位置と第２の位置との間で略９０度回転させる。なお、ステージ２０を回転させる構成は、すでに公知であるため、説明を省略する。また、ステージ２０を回転させる角度は略９０度に限定されない。

【0108】

次に、偏光照射部１０Ｄについて詳細に説明する。図１５は、偏光照射部１０Ｄの概略を示す平面図である。図１６は、偏光照射部１０Ｄを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。

【0109】

偏光照射部１０は、主として、光源１１Ｂと、特定波長透過フィルタ１２と、偏光子１３Ａと、遮光部１４Ｃと、リフレクタ１５と、を有する。なお、図１５では、特定波長透過フィルタ１２、偏光子１３Ａ及びリフレクタ１５の図示を省略している。

【0110】

光源１１Ｂは、長手方向がｙ方向に沿うように設けられた複数のランプ１１ｘを含む。複数のランプ１１ｘをｘ方向に並べて設けることで、ｘ方向に沿って延びる光源列１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈが配置される。光源列１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈは、ｙ方向に隣接して設けられる。積算照射量を均一化するため、４列の光源列１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈの間のずれ量Ｓは、各光源列１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈにおけるランプ１１ｘ間の距離Ｌの４分の１である。例えば、距離Ｌが１４４ｍｍの場合は、ずれ量Ｓは３６ｍｍ（１４４ｍｍ／４＝３６ｍｍ）である。

【0111】

なお、本実施の形態では、光源１１Ｂは、４列の光源列１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈを有するが、光源１１Ｂの形態はこれに限られず、３列の光源列を有していてもよい。３列の光源列を有する場合には、距離Ｌが１４４ｍｍとすると、ずれ量Ｓは４８ｍｍ（１４４ｍｍ／３＝４８ｍｍ）である。

【0112】

光源列１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈに位置するランプ１１ｘの下には、ｘ方向の偏光成分を通過させる偏光子１３Ａが設けられる。なお、偏光子１３Ａは、１つのランプ１１ｘに対して１個ずつ設けられてもよいし、１つのランプ１１ｘに対して２つ以上設けられてもよい。

【0113】

遮光部１４Ｃは、偏光子１３Ａの下側、すなわち偏光子１３Ａとステージ２０との間に設けられ、偏光子１３Ａを通過した偏光光を遮光して、対象物Ｗの光照射が不要な箇所に偏光光が照射されないようにする。遮光部１４Ｃは、ｘ方向に移動する遮光板１４ｄと、ｙ方向に移動する遮光板１４ｅと、を有する。遮光板１４ｄ、１４ｅは、遮光板１４ａと同様に、対象物Ｗにできるだけ近い位置に設けられる。

【0114】

遮光板１４ｄは、ｙ方向に沿った長さが、光源１１Ｂのｙ方向の長さ以上である。遮光板１４ｄは、ｘ方向に沿って延設された軸（図示せず）に設けられており、アクチュエータ等の遮光板駆動部１４ｆ（図１７参照）によりｘ方向に沿って移動可能である。

【0115】

遮光板１４ｅは、ｘ方向の長さが、光源１１Ｂのｘ方向の長さ以上である。遮光板１４ｅは、ｙ方向に沿って延設された軸（図示せず）に設けられており、アクチュエータ等の遮光板駆動部１４ｇ（図１７参照）によりｙ方向に沿って移動可能である。遮光板１４ｅは、ステージ２０との位置関係を保ったまま、ステージ２０とともにｙ方向に移動する（後に詳述する）。

【0116】

遮光板１４ｄ、１４ｅは、側面（ｘ方向又はｙ方向）から見たときに、周縁が斜めに切断されている。図１６に示すように、切断された部分の辺は、鉛直方向（ｚ方向）に対してランプ１１ｘからの出射角度θ（図６参照）だけ傾いている。本実施の形態では、θ＝略６０度である。

【0117】

図１７は、偏光光照射装置２の電気的な構成を示すブロック図である。偏光光照射装置２は、主として、制御部１０１Ａ、記憶部１０２、入力部１０３、出力部１０４を含んで構成される。

【0118】

制御部１０１Ａは、制御部１０１と同様、演算装置であるＣＰＵ等のプログラム制御デバイスであり、記憶部１０２に格納されたプログラムにしたがって動作する。本実施の形態では、この制御部１０１Ａは、遮光板駆動部１４ｆ、１４ｇを制御する遮光板制御部１０１ｄ、及び駆動部３２及び回転駆動部３３を制御するステージ制御部１０１ｅとして機能する。制御部１０１Ａの詳しい動作の内容については、後に詳述する。

【0119】

このように構成された偏光光照射装置２の作用について説明する。図１８は、偏光光照射装置２の処理の流れを示すフローチャートである。図１９〜２２は、偏光光照射装置２が＋ｙ側に位置するステージ２０に載置された対象物Ｗを露光処理するときの流れを説明する図である。図１９は、一度目の露光処理の模式図であり、図２０は、二度目の露光処理の模式図であり、図２１は、三度目の露光処理の模式図であり、図２２は、四度目の露光処理の模式図である。図１９〜２２において、偏光光が照射される領域に網掛け表示をしている。

【0120】

処理に先立ち、制御部１０１Ａは、まず全てのランプ１１ｘを点灯させる。また、制御部１０１Ａは、処理に先立ち、ステージ２０を第１の向き（図１９参照）にする（ステージ２０が第２の向きになっている場合には、ステージ２０を回転させる）。そして、制御部１０１Ａは、ステージ２０に対象物Ｗが載置された後に、図１８に示す処理を開始する。

【0121】

さらに、制御部１０１Ａは、処理に先立ち、対象物Ｗに関する情報を入力部１０３を介して取得する。本実施の形態において、対象物Ｗに関する情報とは、例えば、対象物Ｗは領域Ｗｃと領域Ｗｄ（図１９、２１等参照）とを有し、領域Ｗｃはステージ２０が第１の向きにあるときにｘ方向に沿った偏光光を照射させる領域であり、領域Ｗｄはステージ２０が第２の向きにあるときにｘ方向に沿った偏光光を照射させる領域であることを示す情報である。なお、本実施の形態では、領域Ｗｃ、Ｗｄは、走査方向に沿った又は走査方向と略直交する方向に沿った帯状の領域であり、隣接して設けられる。領域Ｗｃ、Ｗｄは、ステージ２０が第１の向きにあるとき（図１９、２０参照）には走査方向に沿った帯状の領域であり、ステージ２０が第２の向きにあるとき（図２１、２２参照）に走査方向と略直交する方向に沿った帯状の領域である。

【0122】

また、対象物Ｗは、領域Ｗｃ、Ｗｄの間にグレーゾーンＷｅ（図２３〜２５参照）を有する。グレーゾーンＷｅとは、領域Ｗｃに照射される偏光成分の光と、領域Ｗｄに照射される偏光成分の光と、が照射される領域である。グレーゾーンＷｅには、セルが形成されない。

【0123】

遮光板制御部１０１ｄは、対象物Ｗに関する情報に基づいて、露光時に遮光板１４ｄを配置する位置を決定する（ステップＳ２０）。露光時に遮光板１４ｄを配置する位置は、光源１１Ｂを走査方向に沿って帯状に覆う位置であり、露光前に対象物Ｗがステージ２０に載置されたときにおける領域Ｗｃ以外の領域に相当する位置である。遮光板１４ｄのｙ方向に沿った長さは、光源１１Ｂのｙ方向の長さ以上であるため、遮光板１４ｄは、光源１１Ｂの走査方向に沿った全域を覆う。

【0124】

そして、遮光板制御部１０１ｄは、遮光板駆動部１４ｆを介して、ステップＳ２０で決定された位置へ遮光板１４ｄを移動させる（ステップＳ２２）。図１９、２０においては、光源１１Ｂにおける、領域Ｗｄ及びグレーゾーンＷｅ（つまり、領域Ｗｃ以外の領域）に相当する位置を覆うように、遮光板１４ｄが移動されている。これにより、対象物に応じて自動的に不要な光を遮光することができる。実際には、遮光板１４ｄは光源１１Ｂの下側にあるが、説明のため、図１９、２０では遮光板１４ｄを実線で記載している。また、図１９、２０ではグレーゾーンＷｅの図示を省略している。なお、遮光板１４ｅは、光源１１Ｂを覆わない位置にある。

【0125】

制御部１０１Ａは、１回目の露光処理を行う（ステップＳ２４）。具体的には、光源１１Ｂのランプ１１ｘが全て点灯し、遮光板１４ｄにより光源１１Ｂが一部覆われた状態で、ステージ制御部１０１ｅは、駆動部３２を介してステージ２０（すなわち、対象物Ｗ）を走査方向であるｙ方向に移動させて、光源１１Ｂから照射された光を対象物Ｗの被露光面に照射して配向膜等を生成する。ステップＳ２４では、図１９に示すように、ステージ２０を−ｙ方向に移動させて１回目の露光処理を行う。

【0126】

１回目の露光処理（ステップＳ２４）終了後、ステージ制御部１０１ｅは、図２０に示すように、駆動部３２を介して、ステージ２０をシフト方向にシフト量だけ移動させる（ステップＳ２６）。それと共に、遮光板制御部１０１ｄは、図２０に示すように、遮光板駆動部１４ｆを介して、遮光板１４ｄをシフト方向にシフト量だけ移動させる（ステップＳ２６）。例えば、シフト量は、ずれ量Ｓ（図１５参照）の１／２の値、ずれ量Ｓの１／４の値等であり、記憶部１０２に記憶されている。

【0127】

ステージ２０及び遮光板１４ｄをシフト方向にシフト量だけ移動させた（ステップＳ２６）ら、制御部１０１Ａは、２回目の露光処理を行う（ステップＳ２８）。１、２回目の露光処理（ステップＳ２４、Ｓ２８）により、領域Ｗｃ及びグレーゾーンＷｅに、対象物Ｗの長手方向と略直交する方向の偏光成分（本実施の形態における第１方向）の光が照射される。ステージ２０及び遮光板１４ｄをシフト方向にシフト量だけ移動させて２回目の露光処理を行うため、領域Ｗｃに偏光光を安定して照射することができる。２回目の露光処理では、ステージ２０を＋ｙ方向に移動させる点（図２０参照）以外は、１回目の露光（ステップＳ２４）と同じであるため、説明を省略する。

【0128】

２回目の露光処理（ステップＳ２８）終了後、遮光板制御部１０１ｄは、図２１に示すように、遮光板駆動部１４ｆを介して、遮光板１４ｄを、光源１１Ｂを覆わない位置へと移動させる（ステップＳ３０）。また、ステージ制御部１０１ｅは、図２１に示すように、回転駆動部３３を介してステージ２０（すなわち、対象物Ｗ）を略９０度回転させる（ステップＳ３２）。

【0129】

遮光板制御部１０１ｄは、対象物Ｗに関する情報に基づいて、露光時に遮光板１４ｅを配置する位置を決定する（ステップＳ３４）。露光時に遮光板１４ｅを配置する位置は、ステージ２０が第２の向きにあるときに、直前（１回目及び２回面）に露光された領域である領域Ｗｃを覆う位置であり、対象物Ｗ（すなわち、ステージ２０）との関係で決定される。ステージ２０が略９０度回転されている（第２の向き）ため、領域Ｗｃはｘ方向に沿っている。遮光板１４ｅは、ｘ方向の長さが、光源１１Ｂのｘ方向の長さ以上であるため、領域Ｗｃ全体を覆うことができる。

【0130】

制御部１０１Ａは、３回目の露光処理を行う（ステップＳ３６）。まず、ステージ制御部１０１ｅは、駆動部３２を介して、ステージ２０を第２の向きでｙ方向（図２１では−ｙ方向）に移動させる（ステップＳ３６１）。

【0131】

遮光板制御部１０１ｄは、遮光板１４ｅとステージ２０との位置関係が、ステップＳ３４で決定された位置関係となったか否かを判定する（ステップＳ３６３）。遮光板１４ｅとステージ２０との位置関係が、ステップＳ３４で決定された位置関係となっていない場合（ステップＳ３６３でＮＯ）は、ステップＳ３６１に戻る。

【0132】

遮光板１４ｅとステージ２０との位置関係が、ステップＳ３４で決定された位置関係となった場合（ステップＳ３６３でＹＥＳ）は、制御部１０１Ａは、遮光板１４ｅをステージ２０と同時に同じ速度で（遮光板１４ｅをステージ２０とを同期させて）ｙ方向（図２１では−ｙ方向）へ移動させる（同期スキャン）（ステップＳ３６５）。

【0133】

ステップＳ３６の処理について、図２３、２４、２５を用いて説明する。なお、図２３〜２５ではステージ２０を省略している。また、図中、太矢印は、遮光板１４ｅ及び対象物Ｗの移動の様子を示し、網掛け部は、光源１１Ｂからの光が照射される領域を示す。

【0134】

図２３は、遮光板１４ｅとステージ２０との位置関係が、ステップＳ３４で決定された位置関係となったときの光源１１Ｂ、遮光板１４ｅ及び対象物Ｗ（ステージ２０）の位置関係を模式する図である。このように、遮光板１４ｅにより領域Ｗｃに光が照射されない状態が、ステップＳ３４で決定された位置関係（ステップＳ３６３でＹＥＳ）である。

【0135】

図２４は、遮光板１４ｅを対象物Ｗ（ステージ２０）と共にｙ方向（ここでは−ｙ方向）へ移動させている状態を示す図である。ステージ制御部１０１ｅは、駆動部３２を介してステージ２０（すなわち、対象物Ｗ）を−ｙ方向に移動させ、それと共に、遮光板制御部１０１ｄは、遮光板駆動部１４ｇを介して、遮光板１４ｅを−ｙ方向に移動させる。これにより、ステップＳ３４で決定された位置に遮光板１４ｅを保つように、遮光板１４ｅをステージ２０と共に走査方向へ移動される。

【0136】

図２５は、図２４に示す状態から遮光板１４ｅ及び対象物Ｗ（ステージ２０）をさらにｙ方向（ここでは−ｙ方向）へ移動させて、遮光板１４ｅが光源１１Ｂの下を通過し終わった状態を示す図である。光源１１Ｂからの光は、領域Ｗｄ及びグレーゾーンＷｅに照射され、領域Ｗｃには照射されない。

【0137】

このように、遮光板１４ｅを対象物Ｗ（ステージ２０）と共にｙ方向へ移動させることで、光源１１Ｂからの光が領域Ｗｃに照射されないように、不要光を自動的に遮光することができる。

【0138】

なお、遮光板１４ｅの周縁では、上端面が切断されており、その角度はランプ１１ｘからの出射角度θ（図６参照）と略同じである。したがって、光源１１Ｂから照射された光を確実に遮光することができる。

【0139】

図１８の説明に戻る。３回目の露光処理（ステップＳ３６）終了後、ステージ制御部１０１ｅは、図２２に示すように、駆動部３２を介して、ステージ２０をシフト方向にシフト量だけ移動させる（ステップＳ３８）。それと共に、遮光板制御部１０１ｄは、図２２に示すように、遮光板駆動部１４ｇを介して、遮光板１４ｅをシフト方向にシフト量だけ移動させる（ステップＳ３８）。

【0140】

その後、制御部１０１Ａは、４回目の露光処理を行う（ステップＳ４０）。３、４回目の露光処理（ステップＳ３６、Ｓ４０）により、領域Ｗｄ及びグレーゾーンＷｅに、対象物Ｗの長手方向と略平行方向の偏光成分（本実施の形態における第２方向）の光が照射される。また、図２１、２２ではグレーゾーンＷｅの図示を省略している。４回目の露光処理では、ステージ２０を＋ｙ方向に移動させる点（図２２参照）以外は、３回目の露光処理（ステップＳ３６）と同じであるため、説明を省略する。これにより、１枚の対象物Ｗに対する露光処理が終了される。

【0141】

以上、偏光光照射装置２の処理の流れを、偏光照射部１０Ｄの＋ｙ側に位置するステージ２０を例に説明したが、偏光照射部１０Ｄの−ｙ側に位置するステージ２０についても同様の処理を行う。偏光光照射装置２はステージ２０を２個有するため、１つのステージ２０に対して対象物Ｗの取り出しや載置を行なっている間に、他のステージ２０に載置された対象物Ｗに対して露光処理を行うことができる。

【0142】

本実施の形態によれば、同一の対象物に対して、異なる方向の偏光光を照射することができる。例えば、シフト方向に移動する遮光板１４ｄと、走査方向に移動する遮光板１４ｅとを設け、対象物Ｗを回転させない状態と、対象物Ｗを回転させた状態とでそれぞれ露光処理を行うことで、１種類の偏光子１３Ａで（複数種類の偏光子１３Ａ、１３Ｂを用いることなく）、異なる方向の偏光成分の光を同一の対象物Ｗに照射することができる。また、それぞれの露光処理で遮光板１４ｄ、１４ｅを用いて不要な光を遮光することで、同一の対象物Ｗに、第１方向の偏光成分の光が照射される領域Ｗｃと、第１方向と異なる方向である第２方向の偏光成分の光が照射される領域Ｗｄと、を形成することができる。したがって、同一の対象物Ｗ内で異なる偏光方向の露光を行うＭＭＧに対応することができる。

【0143】

また、本実施の形態によれば、遮光板１４ｄ、１４ｅが光源１１Ｂ又は対象物Ｗを覆わないようにするだけで、通常の基板に対して通常の露光処理（例えば、全てのランプ１１ｘを点灯させた一往復の露光）を行うことができる。例えば、ランプ１１ｘの点灯、消灯を繰り返す場合には、ランプ１１ｘの点灯状態、消灯状態が安定するまでに３０分程度の時間がかかるため、複数の種類の基板（例えばＭＭＧ基板と通常の基板）を連続して露光することができない。それに対し、本実施の形態では、全てのランプ１１ｘが常時点灯しているため、遮光板１４ｄ、１４ｅの位置を変えることで、複数の種類の基板を連続して露光することができる。

【0144】

なお、本実施の形態では、長手方向がｙ方向に沿うように設けられたランプ１１ｘをｘ方向に複数並べて光源列１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈを形成したが、ｘ方向に沿った長いランプ１１ｙ（図１３参照）を用いることもできる。

【0145】

また、本実施の形態では、遮光板１４ｄ、１４ｅをそれぞれ２枚ずつ設けたが、遮光板１４ｄ、１４ｅの枚数はこれに限定されない。例えば、遮光板１４ｄ、１４ｅは、それぞれ、１枚であってもよいし、３枚以上であっても良い。また、遮光板１４ｄ、１４ｅの大きさも図１５等に示す大きさに限定されない。

【0146】

また、本実施の形態では、まず遮光板１４ｄが光源１１Ｂの一部を覆った状態で領域Ｗｃの露光処理を行い、次に遮光板１４ｅが領域Ｗｃを覆った状態で領域Ｗｄの露光処理を行ったが、領域Ｗｃ、Ｗｄを露光する順番はこれに限られず、領域Ｗｄの露光処理を行った後で領域Ｗｃの露光処理を行っても良い。

【0147】

以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。

【0148】

また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略平行とは、厳密に平行の場合には限られない。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、例えばＡの近傍であるときに、Ａの近くであって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。

【符号の説明】

【0149】

１、２ ：偏光光照射装置
１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ：偏光照射部
１１、１１Ａ、１１Ｂ ：光源
１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ｅ、１１ｆ、１１ｇ、１１ｈ：光源列
１１ｘ、１１ｙ ：ランプ
１２ ：特定波長透過フィルタ
１３、１３Ａ、１３Ｂ ：偏光子
１３ａ ：透明基板
１３ｂ ：金属線
１４、１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｃ ：遮光部
１４ａ、１４ｄ、１４ｅ ：遮光板
１４ｂ ：軸
１４ｃ、１４ｆ、１４ｇ ：遮光板駆動部
１５ ：リフレクタ
２０ ：ステージ
３０、３０Ａ ：ステージ駆動部
３１ ：ステージガイドレール
３２ ：駆動部
３３ ：回転駆動部
１０１、１０１Ａ ：制御部
１０１ａ ：光源制御部
１０１ｂ、１０１ｄ ：遮光板制御部
１０１ｃ、１０１ｅ ：ステージ制御部
１０２ ：記憶部
１０３ ：入力部
１０４ ：出力部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】