期限日
知財求人情報
特・実 審査基準
法文集
特開2017-151483(P2017-151483A)
IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版
ホーム
>
特許ランキング
>
ＨＯＹＡ株式会社
ツイート
知財求人
- 知財ポータルサイト「IP Force」
▶ ＨＯＹＡ株式会社の特許一覧
特開
2017-151483
ＥＵＶリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びＥＵＶリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにＥＵＶリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法
書誌
要約
請求の範囲
詳細な説明
課題
実施例
実施するための形態
図面の説明
目に優しい
通常表示
文字サイズ
小
中
大
PDF
Top
<
>
<
>
1
2
3
4
5
6(a)
6(b)
7
