特開 2017-166061 メッキ装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2017-166061(P2017-166061A)

(43)【公開日】2017年9月21日

(54)【発明の名称】メッキ装置

(51)【国際特許分類】

   C25D 5/04 20060101AFI20170825BHJP

   C25D 21/04 20060101ALI20170825BHJP

   C25D 7/00 20060101ALI20170825BHJP

   C25D 17/00 20060101ALI20170825BHJP

【ＦＩ】

   C25D5/04

   C25D21/04

   C25D7/00 J

   C25D17/00 J

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】9

(21)【出願番号】特願2017-27030(P2017-27030)

(22)【出願日】2017年2月16日

(31)【優先権主張番号】10-2016-0032018

(32)【優先日】2016年3月17日

(33)【優先権主張国】KR

(71)【出願人】

【識別番号】594023722

【氏名又は名称】サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド．

(74)【代理人】

【識別番号】110000877

【氏名又は名称】龍華国際特許業務法人

(72)【発明者】

【氏名】トマリ ヨシアキ

(72)【発明者】

【氏名】ユン−キ ホン

【テーマコード（参考）】

4K024

【Ｆターム（参考）】

4K024BB11

4K024CB01

4K024CB04

4K024CB06

4K024CB08

4K024CB09

4K024CB12

4K024GA16

(57)【要約】      （修正有）

【課題】大型の高密度基板に精密でかつ均一な回路パターンを形成できるメッキ装置の提供。
【解決手段】メッキ対象物１を支持し、メッキ対象物１に電気的に接続されたカソード電極を備えた第１回転部１００と、メッキ対象物１と向い合うように配置されたアノード電極２１０、２２０を備えた第２回転部２００と、を含み、第１回転部１００と第２回転部２００の回転は、同期化され、メッキ液は多孔性整流板２７０を通して吐出する、メッキ装置。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

メッキ液に浸された状態のメッキ対象物を支持し、少なくとも一つの前記メッキ対象物に電気的に接続されたカソード電極を備えた第１回転部と、
前記メッキ液中において前記メッキ対象物と向い合うように配置された少なくとも一つのアノード電極を備えた第２回転部と、を含み、
前記第１回転部と前記第２回転部の回転が同期化されるメッキ装置。

【請求項2】

前記メッキ対象物に対する前記アノード電極の相対的な位置が一定に保持されるように、前記第１回転部と前記第２回転部の回転が同期化される請求項１に記載のメッキ装置。

【請求項3】

前記第１回転部と前記第２回転部とは、同一の回転軸を中心に回転し、
前記第１回転部は、前記回転軸に垂直の支持面を有するテーブルをさらに含む請求項２に記載のメッキ装置。

【請求項4】

前記第２回転部に設置され、前記メッキ対象物にメッキ液を供給するメッキ液供給部をさらに含む請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のメッキ装置。

【請求項5】

前記第２回転部は、
前記アノード電極及び前記メッキ液供給部を収容し、前記メッキ対象物に向かって開かれたアノードケースと、前記アノードケースをカバーする多孔性整流板をさらに含む請求項４に記載のメッキ装置。

【請求項6】

前記メッキ対象物を取り囲む形態で前記第１回転部に設置され、前記第１回転部との間隔を用いて前記メッキ液を排出する排出口を形成するメッキ液収容壁をさらに含む請求項４または請求項５に記載のメッキ装置。

【請求項7】

前記アノード電極は、複数であり、
複数の前記アノード電極のうちの前記メッキ対象物の中心部に向かって延在する前記アノード電極に高い電流が加えられる請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のメッキ装置。

【請求項8】

複数の前記アノード電極の間の電流の流れを遮断する遮蔽部をさらに含む請求項７に記載のメッキ装置。

【請求項9】

前記遮蔽部は、連続して配列された複数の遮蔽部材を含み、
前記メッキ液は、前記複数の遮蔽部材の間を通過する請求項８に記載のメッキ装置。

【請求項10】

前記遮蔽部は、前記複数の遮蔽部材が配列されるラインに対して斜線に傾くように形成された面を備える請求項９に記載のメッキ装置。

【請求項11】

前記第１回転部は、
前記テーブルの支持面に前記メッキ対象物を固定させる固定手段をさらに含む請求項３に記載のメッキ装置。

【請求項12】

前記固定手段は、
前記テーブルから離隔して配置された加圧部材と、
前記テーブルと前記加圧部材との間の空間を密閉し、前記加圧部材と前記メッキ対象物との間に配置されたシール（ｓｅａｌ）部材と、
前記テーブルと前記加圧部材との間の空間から空気を排出する空気排出部と、を含む請求項１１に記載のメッキ装置。

【請求項13】

前記固定手段に結合され、
前記カソード電極と前記メッキ対象物とを接続させる通電部材をさらに含む請求項１１または請求項１２に記載のメッキ装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、メッキ装置に関する。

【背景技術】

【0002】

電子機器が発達するにつれて微細な回路が実現された高密度基板に対する需要が増加している。これにより、大型の高密度基板に精密でかつ均一な回路パターンを形成できるメッキ装置に対する必要性が大きくなっている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】韓国公開特許第１０−２０１０−００９１７７４号公報

【発明の概要】

【課題を解決するための手段】

【0004】

本発明の一側面によれば、メッキ対象物を支持し、メッキ対象物に電気的に接続されたカソード電極を備えた第１回転部と、メッキ対象物に向い合うように配置されたアノード電極を備えた第２回転部とを含み、第１回転部と第２回転部の回転が同期化されるように構成されたメッキ装置が提供される。

【図面の簡単な説明】

【0005】

【図1】本発明の一実施例に係るメッキ装置を示す図である。

【図2】本発明の一実施例に係るメッキ装置の第１回転部を詳細に示す図である。

【図3】本発明の一実施例に係るメッキ装置のメッキ液収容壁を例示する図である。

【図4】本発明の一実施例に係るメッキ装置の第２回転部を詳細に示す図である。

【図5】本発明の一実施例に係るメッキ装置のアノード電極及び遮蔽部を例示する図である。

【発明を実施するための形態】

【0006】

以下、添付図面を参照して本発明に係るメッキ装置の実施例を詳細に説明するが、添付図面を参照して説明するに当たって、同一または対応する構成要素には同一の図面符号を付し、これに対する重複説明を省略する。

【0007】

また、本明細書において、第１、第２などの用語は、同一または相応する構成要素を区別するための識別記号に過ぎず、同一または相応する構成要素が第１、第２などの用語により限定されない。
また、結合とは、各構成要素間の接触関係において、各構成要素の間に物理的に直接接触する場合のみを意味するものではなく、他の構成が各構成要素の間に介在され、その他の構成に構成要素がそれぞれ接触している場合まで包括する概念として使用する。

【0008】

図１は、本発明の一実施例に係るメッキ装置を示す図である。本発明の一実施例に係るメッキ装置は、カソード電極１２０を備えた第１回転部１００及びアノード電極２１０、２２０を備えた第２回転部２００を含み、第１回転部１００と第２回転部２００の回転が同期化される特徴を有する。

【0009】

第１回転部１００は、回転しながらメッキされるメッキ対象物を支持し、メッキ対象物に陰極を付加するためにメッキ対象物に接続するカソード電極１２０を備える。

【0010】

図２は、本発明の一実施例に係るメッキ装置の第１回転部１００を詳細に示す図である。具体的に、図１におけるＡ領域を拡大した図である。

【0011】

図１及び図２を参照すると、本実施例におけるメッキ装置は、基板１に回路パターンをメッキする装置であって、基板１は、第１回転部１００により支持され、第１回転部１００により回転することになる。第１回転部１００は、基板１を支持できるように平坦な支持面を有するテーブル１１０及びテーブル１１０を回転させるモータ１５０を含むことができる。第１回転部１００が回転すると、回転により基板１の周辺のメッキ液が基板１の外側に流れ出すことになる。これにより、メッキに使用されたメッキ液は、基板１の外に流れ出し、まだメッキに使用されていないメッキ液が基板１の方に迅速に供給されるようにすることができる。

【0012】

第１回転部１００は、メッキ時に一定量のメッキ液が収容されるようにメッキ液収容壁１６０をさらに含むことができる。メッキ液収容壁１６０は、第１回転部１００にメッキ対象物を取り囲む形態となるように設置される。

【0013】

図３は、本発明の一実施例に係るメッキ装置のメッキ液収容壁１６０を示す図である。具体的には、図３は、メッキ液収容壁１６０及びテーブル１１０を上から見た図である。図１から図３を参照すると、メッキ液収容壁１６０は、第１回転部１００のテーブル１１０の周辺部に沿って、内部を取り囲む筒状に形成されてもよい。メッキ液収容壁１６０の内部に形成された空間には、基板１等のメッキ対象物を配置することができる。これにより、メッキ時に、メッキ液にメッキ対象物が浸されるように、メッキ液収容壁１６０により形成された内部空間にメッキ液を満たすことができる。

【0014】

メッキ液収容壁１６０は、第１回転部１００と所定の間隔を隔てて設置され、その間隔は、メッキ液を排出する排出口１６５として使用することができる。

【0015】

図２及び図３を参照すると、メッキ液収容壁１６０は、所定の間隔で配置された複数のピン１６２により第１回転部１００のテーブル１１０に設置されることができる。このとき、メッキ液収容壁１６０の底面とテーブル１１０との間には、スペーサー（ｓｐａｃｅｒ）などの離間部材１６５が挿入され、メッキ液収容壁１６０をテーブル１１０から離隔して設置することができる。これにより、メッキ液収容壁１６０が設置されたテーブル１１０にメッキ液が供給されると、一定量のメッキ液は、外部に排出されることになる。特に、第１回転部１００のテーブル１１０が回転するので、遠心力により、基板１の周辺のメッキ液、すなわち、使用されたメッキ液はメッキ液収容壁１６０の下部に向かって流れることになり、使用されたメッキ液は、メッキ液収容壁１６０とテーブル１１０との間に形成された排出口１６５を介して外部に排出されるようにすることができる。このため、排出液に相応した分量の新しいメッキ液が供給されれば、メッキ液収容壁１６０の内部には、一定量のメッキ液が保持され、メッキ液が持続的に循環されることで、メッキ液の品質を一定に維持することができる。

【0016】

一方、排出されたメッキ液は、第２回転部２００の下部に配置されたメッキ液収集筒２４２に集められ、貯蔵槽に送られることができる。

【0017】

第１回転部１００は、テーブル１１０の支持面にメッキ対象物を固定させる固定手段１３０をさらに含むことができる。固定手段１３０としては、テーブル１１０に対象物を固定させるジグのような公知の様々な装置を含む。

【0018】

図２を参照すると、基板１を固定させる方法の例として、本実施例に従い、気圧を用いて基板１を加圧し、固定させる固定手段１３０を用いる方法を例示する。本実施例の固定手段１３０は、加圧部材１３２、シール（ｓｅａｌ）部材１３４、１３５及び空気排出部１３６を含む。ここで、加圧部材１３２は、テーブル１１０から離隔して設置され、メッキ対象物である基板１の上部まで延長される。シール部材１３４，１３５は、加圧部材１３２とテーブル１１０との間の空間を密閉し、シール部材１３４の一部は、加圧部材１３２と基板１との間に配置される。

【0019】

空気排出部１３６は、テーブル１１０と加圧部材１３２との間の空間から空気を排出する。空気排出部１３６によりテーブル１１０と加圧部材１３２との間の空間から空気が排出されると陰圧が形成される。このため、大気圧により加圧部材１３２をテーブル１１０の方に押す圧力が発生し、加圧部材１３２と基板１との間に配置されたシール部材１３４は、加圧部材１３２から圧力を受け、基板１を押して固定することができる。空気排出部１３６は、テーブル１１０の内部に形成された空気通路と、空気通路に接続された空気ポンプとで構成されることができる。

【0020】

一方、上記実施例に係る固定手段１３０を用いると、カソード電極１２０とメッキ対象物との接続を安定的に保持することができる。図２を参照すると、通電部材１４０を固定手段１３０に結合させることができる。電気が通じる通電部材１４０の一側と他側をそれぞれカソード電極１２０と基板１に接するようにし、通電部材１４０を固定手段１３０に結合すると、テーブル１１０の回転時にも固定手段１３０により通電部材１４０が安定的に保持されるようにすることができる。このとき、カソード電極１２０は、テーブル１１０の内部に設置され、第２回転部２００の中心軸を通過する陰極電力線２３５を介してメッキ電源２３０に接続することができる。

【0021】

図４は、本発明の一実施例に係るメッキ装置の第２回転部２００を詳細に示す図である。
第２回転部２００は、メッキ対象物と向い合うアノード電極２１０、２２０を備え、回転するように構成される。第２回転部２００は、メッキ液収容壁１６０の内部に配置され、メッキ時にアノード電極２１０、２２０をメッキ液に浸すようにする。そして、アノード電極２１０、２２０がメッキ対象物と向い合うように配置されて、メッキに必要な電流を供給することができる。

【0022】

特に、本実施例における第２回転部２００は、第１回転部１００の回転と同期化される形で回転するように構成される。つまり、メッキ対象物に対するアノード電極２１０、２２０の相対的な位置が一定に保持されるように、第１回転部１００と第２回転部２００の回転が合わせられる。これにより、メッキ対象物を支持する第２回転部２００が回転しても、メッキ対象物の形状及び特性に合わせて、対応するアノード電極２１０、２２０の配置を一定に保持することができる。

【0023】

図１を参照すると、本実施例において、第１回転部１００と第２回転部２００とは、同一の回転軸を中心に回転し、第１回転部１００のテーブル１１０は、回転軸に垂直の支持面を有することができる。これにより、第１回転部１００と第２回転部２００とが同一の方向及び同一の速度に回転する時、テーブル１１０に固定されたメッキ対象物が回転しても、第２回転部２００に設置されたアノード電極２１０、２２０に対して一定の相対位置を保持することができる。第２回転部２００は、モータ２５０により回転することができる。

【0024】

図５は、本発明の一実施例に係るメッキ装置のアノード電極２１０、２２０及び遮蔽部２１５を例示する図である。

【0025】

図３及び図５を参照すると、メッキ対象物が四角形の基板１である場合に、均一なメッキのためにアノード電極２１０、２２０は、四角形の基板１に対応する四角形状に形成されることが好ましく、四角形状のアノード電極２１０、２２０と四角形の基板１とが向い合う位置も一定に保持されなければならない。仮に、四角形の基板１にマッチングされる四角形状のアノード電極２１０、２２０の位置がずれると、均一なメッキが形成されないおそれがある。本実施例において、第１回転部１００と第２回転部２００とは、その回転が同期化され、メッキ対象物に対するアノード電極２１０、２２０の相対的な位置が一定に保持されるので、多様な形状のメッキ対象物に対してメッキを均一に施すことができる。

【0026】

第２回転部２００には、メッキ対象物にメッキ液を供給するメッキ液供給部２４０を設置することができる。図１を参照すると、メッキ液供給部２４０は、メッキ対象物である基板１と向い合う位置に設置され、基板１に向かってメッキ液を吐出することができる。貯蔵槽に貯蔵されたメッキ液は、ポンプ２４５により、フィルター２４６を経てメッキ液供給部２４０に供給することができる。

【0027】

第２回転部２００は、アノード電極２１０、２２０及びメッキ液供給部２４０を収容するアノードケース２６０をさらに含むことができる。アノードケース２６０は、メッキ対象物に向かって開かれた形状となり、アノードケース２６０をカバーする多孔性整流板２７０を設置することができる。

【0028】

図４を参照すると、メッキ時にメッキ液供給部２４０から吐出されたメッキ液は、アノードケース２６０を満たし、満たされたアノードケース２６０にメッキ液がさらに供給されると、アノードケース２６０の内部の圧力が上昇する。圧力が上昇すると、アノードケース２６０の下方に結合した多孔性整流板２７０によりメッキ液が吐出される。多孔性整流板２７０には多数の微細な孔が形成されており、微細な孔を通過したメッキ液は、均一な流れを形成する。このとき、メッキ液供給部２４０は、多孔性整流板２７０に向かって直接メッキ液を噴射し、多孔性整流板２７０に付着した気泡を除去することができる。除去された気泡は、アノードケース２６０の上部に形成されたガス排気管２６５を介して外部に排出することができる。

【0029】

また、多孔性整流板２７０は、その中心部が周辺部に比べて凸状に隆起するように形成することができる。凸状の多孔性整流板２７０は、メッキ対象物の被処理面全体をより均一にメッキすることができる。そして、反応ガスまたは気泡が多孔性整流板２７０の下部面に滞留せず、凸状の面の傾斜により迅速に排出され得る。よって、気泡付着の防止のための複雑な器具を必要とせずに、メッキ装置を設計することができる。

【0030】

第２回転部２００は、複数のアノード電極２１０、２２０を備えることができる。特に、メッキ時に、複数のアノード電極２１０、２２０のうちのメッキ対象物の中心部に向かうアノード電極２１０に高い電流を加えることができる。

【0031】

図４及び図５を参照すると、本実施例においては、メッキ対象物である四角形の基板１に対応して四角形の構造に配置される複数のアノード電極２１０、２２０を用いる。例えば、四角形の基板１の中心部に対応する小さい四角形の第１アノード電極２１０を配置し、基板１の周辺部に対応する第２アノード電極２２０が第１アノード電極２１０を取り囲む形態となるように配置することができる。このとき、第１アノード電極２１０と第２アノード電極２２０にはそれぞれ別の陽極電力線２３２、２３４が接続され、それぞれの電流を調整することができる。一般的に同じ電流を流す場合、基板１の外側の方が中心部よりもメッキの厚さが厚く形成されるので、メッキ厚さを均一にするためには、中心部に配置される第１アノード電極２１０により多くの電流を供給することが好ましい。

【0032】

また、複数のアノード電極２１０、２２０がそれぞれ対応する領域の間の干渉を防止するために、複数のアノード電極２１０、２２０の間には電流の流れを遮断する遮蔽部２１５を設置することができる。

【0033】

図５を参照すると、本実施例の遮蔽部２１５は、複数の遮蔽部材２１６で形成することができる。例えば、第１アノード電極２１０と第２アノード電極２２０との境界に沿って連続して配列された複数の遮蔽部材２１６が遮蔽部２１５を形成することができる。このとき、複数の遮蔽部材２１６の間でメッキ液は自由に通過できるので、メッキ液供給部２４０から吐出されたメッキ液は均等に分布される。また、各遮蔽部材２１６は、遮蔽部材２１６が配列されるラインに対して斜線に傾くように形成された面を有することができる。このように傾斜した面を有する遮蔽部材２１６は、傾斜した面によりメッキ液が円滑に流れ出す経路を形成し、遮蔽部材２１６の間の隙間を狭くすることができる。これにより、メッキ液の通過は容易にしながらも電流の遮蔽は効率的に行うことができる。

【0034】

以上では、本発明の一実施例について説明したが、当該技術分野で通常の知識を有する者であれば特許請求の範囲に記載した本発明の思想から逸脱しない範囲内で、構成要素の付加、変更、削除または追加などにより本発明を多様に修正及び変更することができ、これも本発明の権利範囲内に含まれるものといえよう。

【符号の説明】

【0035】

１００ 第１回転部
１１０ テーブル
１２０ カソード電極
１３０ 固定手段
１３２ 加圧部材
１３４、１３５ シール部材
１３６ 空気排出部
１４０ 通電部材
１６０ メッキ液収容壁
１６５ 排出口
２００ 第２回転部
２１０、２２０ アノード電極
２１５ 遮蔽部
２１６ 遮蔽部材
２３０ メッキ電源
２４０ メッキ液供給部
２６０ アノードケース
２７０ 多孔性整流板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】