特開2017-168614薄膜トランジスタの製造方法及びその製造方法に使用するマスク

発明の名称　薄膜トランジスタの製造方法及びその製造方法に使用するマスク

出願人　株式会社ブイ・テクノロジー　（識別番号 500171707）

　　　　特許公開件数ランキング 3971 位（4件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 2444 位（6件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2017-168614

公報発行日　2017年9月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2017-168614

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