特開2017-2355スパッタリングターゲット組立体

発明の名称　スパッタリングターゲット組立体

出願人　株式会社高純度化学研究所　（識別番号 143411）

　　　　特許公開件数ランキング 13975 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 3906 位（1件）（共同出願を含む）

公報番号　特開-2017-2355

公報発行日　2017年1月5

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-A-2017-2355

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