特開2017-92156(P2017-92156A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ ナショナル チュン−シャン インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジーの特許一覧

特開2017-92156高密度のプラズマ及び高温の半導体製造プロセスに用いられる窒化アルミニウムの静電チャンク
<>
  • 特開2017092156-高密度のプラズマ及び高温の半導体製造プロセスに用いられる窒化アルミニウムの静電チャンク 図000003
  • 特開2017092156-高密度のプラズマ及び高温の半導体製造プロセスに用いられる窒化アルミニウムの静電チャンク 図000004
  • 特開2017092156-高密度のプラズマ及び高温の半導体製造プロセスに用いられる窒化アルミニウムの静電チャンク 図000005
  • 特開2017092156-高密度のプラズマ及び高温の半導体製造プロセスに用いられる窒化アルミニウムの静電チャンク 図000006
< >