特開 2018-172655 パーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2018-172655(P2018-172655A)

(43)【公開日】2018年11月8日

(54)【発明の名称】パーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤

(51)【国際特許分類】

   C09K 3/18 20060101AFI20181012BHJP

   C08G 65/337 20060101ALI20181012BHJP

【ＦＩ】

   C09K3/18 102

   C08G65/337

【審査請求】有

【請求項の数】21

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】54

(21)【出願番号】特願2018-57426(P2018-57426)

(22)【出願日】2018年3月26日

(31)【優先権主張番号】特願2017-71958(P2017-71958)

(32)【優先日】2017年3月31日

(33)【優先権主張国】JP

(71)【出願人】

【識別番号】000002853

【氏名又は名称】ダイキン工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100100158

【弁理士】

【氏名又は名称】鮫島 睦

(74)【代理人】

【識別番号】100132252

【弁理士】

【氏名又は名称】吉田 環

(72)【発明者】

【氏名】三橋 尚志

(72)【発明者】

【氏名】能勢 雅聡

【テーマコード（参考）】

4H020

4J005

【Ｆターム（参考）】

4H020BA12

4J005BA00

4J005BD02

4J005BD03

4J005BD04

(57)【要約】

【課題】摩擦耐久性のより良好な表面処理層の形成に適した新規な表面処理剤を提供することを目的とする
【解決手段】式（１Ａ）または式（１Ｂ）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤［式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である］。

【選択図】なし

【特許請求の範囲】

【請求項1】

式（１Ａ）または式（１Ｂ）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤。

【化1】

［式中：
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
ＰＦＰＥ^１は、ＰＦＰＥと同意義であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^１１）_ｍ２を表し；
Ｒｆ^１１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり；
ｍ２は、０〜４の整数であり、ｍ２が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^１１）_ｍ２は２種以上のＯ−Ｒｆ^１１からなるものであってもよく；
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３を表し；
Ｒｆ^２１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり；
ｍ３は、０〜４の整数であり、ｍ３が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３は２種以上のＯ−Ｒｆ^２１からなるものであってもよく；
Ｘは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２〜１０価の有機基を表し；
α１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式で表される基であり；

【化2】

Ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、配位結合可能な金属原子であり；
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する単座配位子を表し；
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する多座配位子を表し；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単座配位子を表し；
Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、多座配位子を表し；
ｋは、０〜２の整数であり；
ｌは、０〜２の整数であり；
ｍは、０以上の整数であり；
ｎは、０以上の整数であり；
但し、ｋとｌとの和は１〜４であり、ｌにＲ^２の配座数を乗じた値、ｎにＲ^４の配座数を乗じた値、ｋおよびｍの和は、Ｍの配位数である。］

【請求項2】

Ｒ^１〜Ｒ^４に含まれる配位原子が、酸素および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１に記載の表面処理剤。

【請求項3】

Ｒ^１が、−Ｒ^１１−Ｏ−、または−Ｒ^１１Ｎ（Ｒ^１２）−である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
［式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり、Ｒ^１２は、水素原子または１価の有機基である。］

【請求項4】

Ｒ^２が、二座配位子である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項5】

Ｒ^２が、下記化合物（１−１）〜（１−６）のいずれか１つが配位したものである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【化3】

［式中：
＊は、配位原子を示し；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数である。］

【請求項6】

Ｒ^３が、ハロゲン原子、水素原子、ヒドロキシル基、および１価の有機基からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項7】

Ｒ^４が、二座配位子である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項8】

Ｒ^４が、下記化合物（２−１）〜（２−６）からなる群より選ばれる少なくとも１つが結合したものである、請求項１〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【化4】

［式中：
＊は、配位原子を示し；
Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
Ｒ^４４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数である。］

【請求項9】

ｋが１であり、ｌが０である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項10】

ｋが０であり、ｌが１である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項11】

ｎが１または２である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項12】

Ｍが、アルミニウム原子、亜鉛原子または遷移金属原子である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項13】

Ｍが、アルミニウム原子、チタン原子、またはジルコニウム原子である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項14】

Ｍが、アルミニウム原子である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項15】

Ｘが２価の有機基であり、α１が１、およびα２が１である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項16】

パーフルオロポリエーテル基含有化合物が式（１Ａ）で表される、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項17】

ＰＦＰＥが、各出現において独立して、下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ− （ｃ）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｊは、２〜１００の整数である。］
である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項18】

含フッ素オイル、シリコーンオイル、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項19】

請求項１〜１８のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。

【請求項20】

基材、および、該基材の表面に、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層を含む物品。

【請求項21】

物品が、光学部材である、請求項２０に記載の物品。

【請求項22】

物品が、ディスプレイである、請求項２０または２１に記載の物品。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物を含む表面処理剤に関する。

【背景技術】

【0002】

ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

【0003】

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有する化合物が知られている。例えば、特許文献１には、分子末端に、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２、または−ＮＲ^８７_２（Ｒ^８７は水素原子または低級アルキル基）等を含む化合物が記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１６−０５２７７９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期に亘って提供するべく、高い耐久性が求められる。パーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む表面処理剤から得られる層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されている。

【0006】

しかし、上記のようなパーフルオロポリエーテル基を有する化合物を含む表面処理剤では、次第に高まる摩擦耐久性向上の要求に応えるには、必ずしも十分とは言えない。

【0007】

したがって、本発明は、摩擦耐久性のより良好な表面処理層の形成に適した新規な表面処理剤を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明者は、鋭意検討した結果、特定の構造を有するパーフルオロポリエーテル化合物を含む表面処理剤を用いることにより、表面処理層の摩擦耐久性がより向上することを見いだし、本発明を完成するに至った。

【0009】

本発明の第１の要旨によれば、
式（１Ａ）または式（１Ｂ）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤が提供される。

【化1】

［式中：
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
ＰＦＰＥ^１は、ＰＦＰＥと同意義であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^１１）_ｍ２を表し；
Ｒｆ^１１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり；
ｍ２は、０〜４の整数であり、ｍ２が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^１１）_ｍ２は２種以上のＯ−Ｒｆ^１１からなるものであってもよく；
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３を表し；
Ｒｆ^２１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり；
ｍ３は、０〜４の整数であり、ｍ３が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３は２種以上のＯ−Ｒｆ^２１からなるものであってもよく；
Ｘは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２〜１０価の有機基を表し；
α１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式で表される基であり；

【化2】

Ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、配位結合可能な金属原子であり；
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する単座配位子を表し；
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する多座配位子を表し；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単座配位子を表し；
Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、多座配位子を表し；
ｋは、０〜２の整数であり；
ｌは、０〜２の整数であり；
ｍは、０以上の整数であり；
ｎは、０以上の整数であり；
但し、ｋとｌとの和は１〜４であり、ｌにＲ^２の配座数を乗じた値、ｎにＲ^４の配座数を乗じた値、ｋおよびｍの和は、Ｍの配位数である。］

【0010】

本発明の第２の要旨によれば、上記表面処理剤を含有するペレットが提供される。

【0011】

本発明の第３の要旨によれば、基材、および、該基材の表面に、上記表面処理剤より形成された層を含む物品が提供される。

【発明を実施するための形態】

【0012】

本明細書において用いられる場合、「１〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する１〜１０価の基を意味する。かかる１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基が挙げられる。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、カルボニル基、または、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

【0013】

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

【0014】

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

【0015】

本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

【0016】

本明細書において、「錯体」とは、中心金属原子またはイオンをいくつかの配位子が取囲んでいるような化学種を表す。本明細書において、「配位子」とは、単独でもイオンまたは分子として存在し得る化学種を表す。配位子に含まれる配位原子としては、酸素および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１つが好ましい。

【0017】

［表面処理剤］
以下、本発明のパーフルオロポリエーテル基（以下、「ＰＦＰＥ」と称することがある。）含有化合物を含む表面処理剤について説明する。

【0018】

上記ＰＦＰＥ含有化合物は、式（１Ａ）または式（１Ｂ）で表される。

【化3】

【0019】

上記（１Ａ）および（１Ｂ）中、Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

【0020】

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

【0021】

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基またはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である。なお、アルキレン基とは、−（Ｃ_βＨ_２β）−構造を有する基である。

【0022】

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

【0023】

上記（１Ａ）中、ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基である。

【0024】

式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

【0025】

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

【0026】

一の態様において、上記ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

【0027】

別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

【0028】

一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

【0029】

ＰＦＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５．０以下であり、より好ましくは０．２以上２．０以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下である。ｅ／ｆ比を上記範囲にすることにより、この化合物から得られる硬化物の撥水性、撥油性、および耐ケミカル性（例えば、塩水、酸又は塩基性水溶液、アセトン、オレイン酸又はヘキサンに対する耐久性）がより向上し得る。ｅ／ｆ比がより小さいほど、上記硬化物の撥水性、撥油性、耐ケミカル性より向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

【0030】

さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（Ｒ^６１−Ｒ^６２）_ｊ−で表される基である。式中、Ｒ^６１は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^６２は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^６２は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｊ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｊ−である。

【0031】

Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

【0032】

別の態様において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００である。

【0033】

別の態様において、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分または−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００であり得る。

【0034】

上記式（１Ｂ）中、ＰＦＰＥ^１は、ＰＦＰＥと同意義である。ＰＦＰＥ^１は、好ましくは、分岐構造を有しない。

【0035】

上記式（１Ｂ）中、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^１１）_ｍ２を表す。

【0036】

上記Ｒｆ^１１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり、炭素数２〜６のフルオロアルキレン基であることが好ましく、特に炭素数２のフルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒｆ^１１に含まれる水素原子の数は、１〜４が好ましく、特に１または２であることが好ましい。（Ｏ−Ｒｆ^１１）としては、（Ｏ−ＣＨＦＣＦ_２）および（Ｏ−ＣＨ_２ＣＦ_２）が好ましい。なお、本明細書において、フルオロアルキレン基とは、アルキレン基の水素原子の１つ以上がフッ素原子に置換された基を意味する。

【0037】

上記ｍ２は、０〜４の整数であり、ｍ２が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^１１Ｏ）_ｍ２は２種以上のＯ−Ｒｆ^１１からなるものであってもよい。

【0038】

上記式（１Ｂ）中、Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３を表す。

【0039】

上記Ｒｆ^２１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり、炭素数２〜６のフルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒｆ^２１に含まれる水素原子の数は、１〜４が好ましく、特に１または２であることが好ましい。

【0040】

上記ｍ３は、０〜４の整数であり、ｍ３が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３は２種以上のＯ−Ｒｆ^２１からなるものであってもよい。ｍ３は、０〜２の整数であることが好ましい。

【0041】

一の態様において、（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３の中のＸ（Ｘが単結合の場合、Ｒ^ｍ）と結合する（Ｏ−Ｒｆ^２１）は、（Ｏ−Ｒｆ^２１’ＣＨ_２）で表される基であり得る。Ｒｆ^２１’は、Ｒｆ^２１よりも炭素数が１個少ない基であって、パーフルオロアルキレン基または水素原子を有するフルオロアルキレン基である。Ｒｆ^２１’はパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。具体的な（Ｏ−Ｒｆ^２１’ＣＨ_２）としては、（Ｏ−ＣＦ_２ＣＨ_２）、（Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２）、（Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２）、（Ｏ−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２）等が好ましい。この場合、ｍ３は１であることが好ましい。

【0042】

上記ＰＦＰＥ^１において、好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ２およびｍ３の和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ２およびｍ３の和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。

【0043】

別の態様において、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ２およびｍ３の和は２〜２１０の範囲にある。

【0044】

上記式（１Ａ）および（１Ｂ）中、Ｘは、単結合、酸素原子または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘは、式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部、またはＲｆ−Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ^１−Ｒｆ^２部）と、Ｒ^ｍとを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘは、式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

【0045】

上記Ｘにおける２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

【0046】

上記式中、α１は１〜９の整数であり、α２は１〜９の整数である。これらα１およびα２は、Ｘの価数に応じて変化し得る。式（１Ａ）および（１Ｂ）においては、α１およびα２の和は、Ｘの価数と同じである。例えば、Ｘが１０価の有機基である場合、α１およびα２の和は１０であり、例えばα１が９かつα２が１、α１が５かつα２が５、またはα１が１かつα２が９となり得る。また、Ｘが２価の有機基である場合、α１およびα２は１である。

【0047】

一の態様において、Ｘは単結合または２〜４価の有機基であり、α１は１〜３の整数であり、α２は１である。

【0048】

別の態様において、Ｘは単結合または２価の有機基であり、α１は１であり、α２は１である。この場合、式（１Ａ）は、下記式（１Ａ’）で表され、式（１Ｂ）は、下記式（１Ｂ’）で表される。

【0049】

【化4】

【0050】

一の態様において、Ｘは、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは、単結合、アルキレン基または−Ｃ_６Ｈ_４−（即ち−フェニレン−。以下、フェニレン基を示す。）、−ＣＯ−（カルボニル基）、−ＮＲ^８−および−ＳＯ_２−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記Ｒ^８は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはＣ_１〜６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子、またはメチル基である。上記の−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＮＲ^８−または−ＳＯ_２−は、ＰＦＰＥ含有化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。ここで、分子主鎖とは、ＰＦＰＥ含有化合物の分子中で相対的に最も長いＰＦＰＥを含む結合鎖を表す。

【0051】

本態様において、Ｘは、より好ましくは、単結合、アルキレン基または−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯＮＲ^８−、−ＣＯＮＲ^８−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２ＮＲ^８−、−ＳＯ_２ＮＲ^８−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２−、および−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記の−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯＮＲ^８−、−ＣＯＮＲ^８−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２ＮＲ^８−、−ＳＯ_２ＮＲ^８−Ｃ_６Ｈ_４−、−ＳＯ_２−、または−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−は、ＰＦＰＥ含有化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。

【0052】

本態様において、Ｘ中、ＰＦＰＥ部（即ち、式（１Ａ）または（１Ｂ）においてα２でくくられた基）とＲ^ｍ基（即ち、式（１Ａ）または（１Ｂ）においてα１でくくられた基）を連結する原子の数は、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは６以下であり得る。尚、一のＰＦＰＥ部と一のＲ^ｍ基を連結する経路が複数存在する場合、上記「ＰＦＰＥ部とＲ^ｍ基を連結する原子の数」とは、ＰＦＰＥ部とＲ^ｍ基間を最短で結ぶ原子の数を意味する。

【0053】

別の態様において、上記Ｘの例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^８１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−
［式中：
Ｒ^８１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^８３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、−ＣＯＮＲ^８４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^８４−、−ＮＲ^８４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^８４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ^８１およびＸ^ａ（典型的にはＲ^８１およびＸ^ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

【0054】

好ましくは、上記Ｘは、−（Ｒ^８１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−Ｒ^８２−である。Ｒ^８２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^８２（典型的にはＲ^８２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

【0055】

好ましくは、上記Ｘは、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^８１−Ｘ^ｃ−Ｒ^８２−、または
−Ｘ^ｄ−Ｒ^８２−
［式中、Ｒ^８１およびＲ^８２は、上記と同意義である。］
であり得る。

【0056】

より好ましくは、上記Ｘは、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。

【0057】

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^８４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^８４−、
−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^８３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^８３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^８４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^８３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、
−ＣＯＮＲ^８４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^８４）−、または
−ＣＯＮＲ^８４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−
［式中、Ｒ^８３、Ｒ^８４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

【0058】

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^８４−、
−ＣＯＮＲ^８４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^８３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−、
−ＣＯＮＲ^８４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^８４）−、または
−ＣＯＮＲ^８４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

【0059】

より好ましくは、上記Ｘは、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

【0060】

さらにより好ましくは、上記Ｘは、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、特に好ましくはＣ_１−１０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^８３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^８３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^８３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^８３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

【0061】

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

【0062】

一の態様において、Ｘは、−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−（Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^ｆ３））_ｔ３−Ｒ^ｆ４−で表される基であり得る。

【0063】

上記ｔ１は、０または１である。

【0064】

上記Ｒ^ｆ１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ１は、Ｃ_２−６フルオロアルキレン基であることが好ましい。Ｒ^ｆ１に含まれる水素原子の数は、１〜４の範囲にあることが好ましく、１または２であることがより好ましい。

【0065】

上記（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２において、２種以上のＲ^ｆ１Ｏが存在する場合、各（Ｒ^ｆ１Ｏ）の存在順序は式中において任意である。

【0066】

上記ｔ２は、０〜４の整数であり、０〜２の整数であることがより好ましい。

【0067】

上記Ｒ^ｆ２は、単結合、分岐構造を有しないパーフルオロアルキレン基、または、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基である。上記パーフルオロアルキレン基、またはフルオロアルキレン基は、１〜１０の炭素原子を含むことが好ましい。

【0068】

上記Ｒ^ｆ３は、水素原子、または、アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−４アルキル基）である。

【0069】

上記ｔ３は、０または１である。

【0070】

ｔ３が０の場合、Ｒ^ｆ２は単結合であることが好ましい。この場合（すなわち、（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２およびＲ^ｆ４が直接結合している場合）、（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２の中のＲ^ｆ４と結合する（Ｒ^ｆ１Ｏ）は（Ｒ^ｆ５ＣＨ_２Ｏ）で表される基であることが好ましい。Ｒ^ｆ５は、Ｒ^ｆ１よりも炭素数が１個少ない基であって、パーフルオロアルキレン基、または、１以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基である。Ｒ^ｆ５はパーフルオロアルキレン基であることが好ましい。（Ｒ^ｆ５ＣＨ_２Ｏ）は、（ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２Ｏ）等が好ましい。この場合、ｔ２は１であることが好ましい。
ｔ３が１の場合、ｔ２は０〜２であり、かつ、Ｒ^ｆ２はパーフルオロアルキレン基、または、１以上の水素原子を有するフルオロアルキレン基であることが好ましく、パーフルオロアルキレン基であることがより好ましく、Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基であることが特に好ましい。

【0071】

上記Ｒ^ｆ４は、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数１〜１０のアルキレン基の末端（ただし、式（１Ａ）または（１Ｂ）においてα１でくくられた基と結合する側の末端。）にエーテル性酸素原子を有する基、炭素数２〜１０のアルキレン基の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基、または炭素数２〜１０のアルキレン基の末端（ただし、式（１Ａ）または（１Ｂ）においてα１でくくられた基と結合する側の末端。）および炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。エーテル性酸素原子を有する基としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−等が挙げられる。

【0072】

上記Ｒ^ｆ４は、単結合、または、Ｃ_１−４アルキレン基であることが好ましく、単結合、または、Ｃ_１−２アルキレン基であることがより好ましい。

【0073】

上記Ｘは、例えば、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２Ｏ−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−ＣＨ_２Ｏ−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｔ２−Ｒ^ｆ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ６ＣＨ_２Ｏ）−ＣＨ_２−、
−（Ｏ）_ｔ１−（Ｒ^ｆ６ＣＨ_２Ｏ）−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^ｆ４−、または
−（Ｏ）_ｔ１−Ｒ^ｆ６ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^ｆ４−（例えば、−（Ｏ）_ｔ１−ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−Ｒ^ｆ４−）
等を挙げることができる。Ｒ^ｆ１、Ｒ^ｆ２、Ｒ^ｆ４、ｔ１およびｔ２は、上記と同意義である。ｔ１は好ましくは１である。Ｒ^ｆ６は、分岐構造を有しないパーフルオロアルキレン基である。

【0074】

上記Ｘ基は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

【0075】

別の態様において、Ｘ基としては、例えば下記の基が挙げられる：

【化5】

【化6】

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

【化7】

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎｅ−（ｎｅは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］

【0076】

上記Ｘの具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

【化8】

などが挙げられる。

【0077】

別の好ましい態様において、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、−Ｒ^８５−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６−、−Ｒ^８５−ＣＯＮＲ^８−Ｒ^８６−、−Ｒ^８５−ＣＯＮＲ^８−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６−、−Ｒ^８５−ＣＯ−Ｒ^８６−、−Ｒ^８５−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６−、−Ｒ^８５−ＳＯ_２ＮＲ^８−Ｒ^８６−、−Ｒ^８５−ＳＯ_２ＮＲ^８−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６−、−Ｒ^８５−ＳＯ_２−Ｒ^８６−、または−Ｒ^８５−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６−である。Ｒ^８５およびＲ^８６は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、好ましくは単結合または炭素数１〜３のアルキレン基である。Ｒ^８は上記と同意義である。上記アルキレン基は、置換または非置換であり、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であり、直鎖状であることが好ましい。

【0078】

本態様において、Ｘは、さらに好ましくは、
単結合、
炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基、
−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６’−、
−ＣＯＮＲ^８’−Ｒ^８６’−、
−ＣＯＮＲ^８’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６’−、
−ＣＯ−Ｒ^８６’−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^８’−Ｒ^８６’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^８’−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６’−、
−ＳＯ_２−Ｒ^８６’−、
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−Ｒ^８６’−、
−Ｒ^８５’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^８５’−ＣＯＮＲ^８’−、
−Ｒ^８５’−ＣＯＮＲ^８’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^８５’−ＣＯ−、
−Ｒ^８５’−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^８５’−ＳＯ_２ＮＲ^８’−、
−Ｒ^８５’−ＳＯ_２ＮＲ^８’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｒ^８５’−ＳＯ_２−、
−Ｒ^８５’−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮＲ^８’−、
−ＣＯＮＲ^８’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２ＮＲ^８’−、
−ＳＯ_２ＮＲ^８’−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２−、または
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−
（式中、Ｒ^８５’およびＲ^８５’は、それぞれ独立して、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３の直鎖のアルキレン基であり、
Ｒ^８’は、水素原子またはメチルである。）
であり得る。

【0079】

本態様において、Ｘの具体例としては、例えば、
単結合、
炭素数１〜６のアルキレン基、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２ＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２ＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２ＮＨ−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２Ｎ（ＣＨ_３）−Ｃ_６Ｈ_４−、
−ＳＯ_２−、
−ＳＯ_２−ＣＨ_２−、
−ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_４−
などが挙げられる。

【0080】

一の態様において、Ｘは、単結合である。

【0081】

さらに別の態様において、Ｘ基の例として、下記の基が挙げられる：

【化9】

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

【化10】

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。

【0082】

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。

【0083】

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

【0084】

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、

【化11】

が挙げられる。

【0085】

この態様において、Ｘは、３〜１０価の有機基であり得る。

【0086】

一の態様において、Ｘは、−Ｘ^１１（ＯＨ）_ｊ１（Ｘ^１２）_３−ｊ１または−Ｘ^１１（ＯＸ^１２）_ｊ１（Ｘ^１２）_３−ｊ１で表される。Ｘ^１１は、炭素原子である。Ｘ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２〜６価の炭化水素基であり、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有していてもよい。ＯＸ^１２またはＸ^１２は、Ｘ^１１および−Ｒ^ｍ間を連結する。ｊ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは１である。

【0087】

上記式（１Ａ）および（１Ｂ）中、Ｒ^ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式で表される基である。

【化12】

【0088】

上記式中、Ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、配位結合可能な金属原子である。上記Ｍは、好ましくはアルミニウム原子、亜鉛原子、チタン原子、ジルコニウム原子、クロム原子、鉄原子、コバルト原子、ニッケル原子、銅原子等の遷移金属原子であり、より好ましくは、アルミニウム原子、チタン原子、またはジルコニウム原子であり、さらに好ましくはアルミニウム原子、またはチタン原子であり、特に好ましくはアルミニウム原子である。

【0089】

上記式中、Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する単座配位子を表す。即ち、Ｒ^１を介して、Ｘ（Ｘが単結合の場合には、式（１Ａ）においてはＰＦＰＥ、式（１Ｂ）においてはＲｆ^２）およびＭが連結する。

【0090】

Ｒ^１は、好ましくは、−Ｒ^１１−Ｏ−、または−Ｒ^１１Ｎ（Ｒ^１２）−である。上記Ｒ^１において、酸素原子、または窒素原子がＭと配位する。上記Ｒ^１において、Ｒ^１１が、Ｘ（Ｘが単結合の場合には、式（１Ａ）においてはＰＦＰＥ、式（１Ｂ）においてはＲｆ^２）と結合する。

【0091】

式中、Ｒ^１２は、水素原子または１価の有機基である。Ｒ^１２は、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜３のアルキル基、より好ましくは、水素原子またはメチル基である。

【0092】

式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。

【0093】

上記Ｒ^１１は、例えば、
単結合、
カルボニル基、
Ｃ_１〜１０アルキレン基、より好ましくは、Ｃ_１〜６アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｋ１−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−、または
−（ＣＨ_２）_ｋ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−
を挙げることができる。ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｋ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましくは、ｋ１は、１〜６の整数であり、ｋ１’は、１〜６の整数である。

【0094】

上記Ｒ^１としては、例えば、
−Ｏ−、
−ＮＲ^１２−、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１２−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１−ＮＲ^１２−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^１２−、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−ＮＲ^１２−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−ＮＲ^１２−、
−（ＣＨ_２）_ｋ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−Ｏ−、または
−（ＣＨ_２）_ｋ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ１’−ＮＲ^１２−
を挙げることができる。なお、上記において、末端部分に存在する酸素原子、または窒素原子が配位原子である。Ｒ^１２、ｋ１およびｋ１’は、上記と同意義である。

【0095】

上記Ｒ^１は、より好ましくは、−Ｒ^１１−Ｏ−である。

【0096】

Ｒ^１は、より具体的には、
−Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、または
−（ＣＨ_２）_２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−
である。なお、上記式の末端部分に存在する酸素原子が配位原子である。

【0097】

上記式中、Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する多座配位子を表す。即ち、Ｒ^２を介して、Ｘ（Ｘが単結合の場合には、式（１Ａ）においてはＰＦＰＥ、式（１Ｂ）においてはＲｆ^２）およびＭが連結する。

【0098】

好ましくは、Ｒ^２は、二座配位子である。

【0099】

より好ましくは、Ｒ^２は、下記化合物（１−１）〜（１−６）のいずれか１つが配位したものである。なお、下記式のＲ^２１以外の基（例えば、式（１−１）においては、Ｃ（＝Ｏ）（ＣＨ_２）_ｌ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^２２）をＲ^２３と称することがある。即ち、Ｒ^２は、Ｒ^２１−Ｒ^２３で表され得る化合物が配位したものである。

【化13】

【0100】

式中、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数である。ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、０〜４の整数であり、より好ましくは１〜２である。

【0101】

式中、＊は配位原子を示す。例えば、上記式（１−１）〜（１−６）で表される化合物は、以下の（１−１’）〜（１−６’）のようにそれぞれＭと配位する。

【化14】

【0102】

より具体的には、式（１−１）で表される化合物は、ｌ１が１の場合、Ｍと以下のように配位する。

【化15】

【0103】

式中、Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。上記Ｒ^２において、Ｒ^２１が、Ｘ（Ｘが単結合の場合には、式（１Ａ）においてはＰＦＰＥ、式（１Ｂ）においてはＲｆ^２）と結合する。

【0104】

好ましくは、Ｒ^２１は、
−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、
Ｃ_１〜６アルキレン基、または
−（ＣＨ_２）_ｌ２−Ｏ−
である。なお、上記式の末端部分に酸素原子が存在する場合、酸素原子がＲ^２３と結合する。ｌ２は、１〜６の整数である。

【0105】

式中、Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。Ｒ^２２は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、または、フェニル基であり、より好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基（例えばメチル基）である。

【0106】

好ましい態様において、Ｒ^２は、ケトエノール転移が可能な構造を含むことが好ましい。より好ましくは、Ｒ^２は、式（１−１）で表される基であり、式中、ｌ１が、１であり、Ｒ^２１が、酸素原子であり、Ｒ^２２が、炭素数１〜３のアルキル基（例えばメチル基）である。式中、＊は配位原子を示す。

【化16】

【0107】

別の態様において、Ｒ^２は、Ｍと共に４〜１２員環のキレート環を形成し得、好ましくは４〜６員環のキレート環を形成する。

【0108】

上記（１Ａ）および（１Ｂ）中、Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単座配位子を表す。Ｒ^３は、Ｍのみに結合し、Ｘとは直接結合しない単座配位子を表す。

【0109】

Ｒ^３は、好ましくは、ハロゲン原子、水素原子、ヒドロキシル基、および１価の有機基からなる群より選ばれる少なくとも１つである。上記ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子を挙げることができる。上記１価の有機基としては、Ｒ^３１−Ｏ−、またはＲ^３１Ｎ（Ｒ^３２）−を挙げることができる。上記１価の有機基において、酸素原子、または窒素原子がＭと配位する。

【0110】

上記Ｒ^３１は、炭素数１〜６のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基である。上記Ｒ^３２は、水素原子、または１価の有機基であり、好ましくは水素原子または炭素数１〜３のアルキル基、より好ましくは、水素原子またはメチル基である。

【0111】

上記Ｒ^３は、好ましくは、Ｒ^３１−Ｏ−である。Ｒ^３１は、上記と同意義であり、Ｒ^３１−Ｏ−は、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基である。

【0112】

上記（１Ａ）および（１Ｂ）中、Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、多座配位子を表す。Ｒ^４は、Ｍのみに結合し、Ｘとは直接結合しない多座配位子を表す。

【0113】

好ましくは、Ｒ^４は、二座配位子である。

【0114】

より好ましくは、Ｒ^４は、下記化合物（２−１）〜（２−６）からなる群より選ばれる少なくとも１つが結合したものである。

【化17】

【0115】

式中、ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数である。ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、０〜４の整数であり、より好ましくは１である。

【0116】

式中、＊は配位原子を示す。例えば、上記式（２−１）〜（２−６）で表される化合物は、以下の（２−１’）〜（２−６’）のようにそれぞれＭと配位する。

【化18】

【0117】

より具体的には、式（２−１）で表される化合物は、ｎ１が１の場合、Ｍと以下のように配位する。

【化19】

【0118】

式中、Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。

【0119】

好ましくは、Ｒ^４３は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、または、炭素数１〜６のアルコキシ基である。より好ましくは、Ｒ^４３は、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基である。

【0120】

式中、Ｒ^４４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基である。

【0121】

好ましくは、Ｒ^４４は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、または、炭素数１〜６のアルコキシ基である。より好ましくは、Ｒ^４４は、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基である。

【0122】

一の態様において、Ｒ^４３は、炭素数１〜３のアルキル基（例えばメチル基）であり、および、Ｒ^４４は、炭素数１〜３のアルキル基（例えばエチル基）である。

【0123】

一の態様において、Ｒ^４３は、炭素数１〜３のアルキル基（例えばメチル基）であり、および、Ｒ^４４は、炭素数１〜３のアルコキシ基（例えばエトキシ基）である。

【0124】

別の態様において、Ｒ^４は、Ｍと共に４〜１２員環のキレート環を形成し得、好ましくは４〜６員環のキレート環を形成する。

【0125】

式（１Ａ）および式（１Ｂ）中、ｋは、０〜２の整数であり；ｌは、０〜２の整数であり；ｍは、０以上の整数であり；ｎは、０以上の整数である。但し、ｋとｌとの和は１〜４であり、ｌにＲ^２の配座数を乗じた値、ｎにＲ^４の配座数を乗じた値、ｋおよびｍの和は、Ｍの配位数である。例えば、Ｍがアルミニウム原子、チタン原子、またはジルコニウム原子である場合、Ｍの配位数は、４または６である。

【0126】

一の態様において、ｋが、０または１であり；ｌが、０または１であり；ｍが、０以上の整数であり；ｎが、０以上の整数である。但し、ｋとｌとの和は１であり、ｌにＲ^２の配座数を乗じた値、ｎにＲ^４の配座数を乗じた値、ｋおよびｍの和は、Ｍの配位数である。

【0127】

一の態様において、ｋが１であり；ｌが０である。

【0128】

一の態様において、ｋが０であり；ｌが１である。

【0129】

一の態様において、ｋが１であり；ｌが０であり；ｍが１であり；ｎが１である。本態様において、好ましくは、Ｒ^２が、二座配位子であり、より好ましくは、Ｍがアルミニウム原子またはチタン原子（より好ましくはアルミニウム原子）である。

【0130】

一の態様において、ｋが０であり；ｌが１であり；ｍが０であり；ｎが２である。本態様において、好ましくは、Ｒ^２が、二座配位子であり、より好ましくは、Ｍがアルミニウム原子またはチタン原子（より好ましくはアルミニウム原子）である。

【0131】

好ましい態様において、Ｒ^ｍは、
Ｍが、アルミニウム原子またはチタン原子（より好ましくはアルミニウム原子）であり；
Ｒ^１が、−Ｒ^１１−Ｏ−で表され（式中、Ｒ^１１は、２価の有機基であり、好ましくは、カルボニル基である）；
Ｒ^３が、１価の有機基であり、好ましくは、Ｒ^３１−Ｏ−で表され（式中、Ｒ^３１は、炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基、例えばイソプロピル基）；
Ｒ^４が、二座配位子であり、好ましくは式（２−１）で表され（式中、＊は配位原子を表し、ｎ１が、１であり、Ｒ^４３が、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基であり、Ｒ^４４は、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基である。）；

【化20】

ｋが、１であり；
ｌが、０であり；
ｍが、１であり；
ｎが、１である。

【0132】

本態様において、Ｒ^ｍの一例は、以下の式で表され得る。以下の式において、Ｒ^１１は、上記と同意義であって、具体的にはＣ（＝Ｏ）基であり；Ｒ^３１は、上記と同意義であり、具体的には、イソプロピル基であり；Ｒ^４３は、上記と同意義であり、具体的には、メチル基であり；Ｒ^４４は、上記と同意義であり、具体的には、エチル基である。＊＊は、Ｘに結合する部位を表す。

【化21】

【0133】

別の好ましい態様において、Ｒ^ｍは、
Ｍが、アルミニウム原子またはチタン原子（より好ましくはアルミニウム原子）であり；
Ｒ^２が、二座配位子であり、好ましくは式（１−１）で表され（式中、＊は配位原子を示し、ｌ１が、１であり、Ｒ^２１が、酸素原子であり、Ｒ^２２が、炭素数１〜３のアルキル基（例えばメチル基）である）；

【化22】

Ｒ^４が、二座配位子であり、好ましくは式（２−１）で表され（式中、＊は配位原子を表し、ｎ１が、１であり、Ｒ^４３が、各出現においてそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基であり、Ｒ^４４は、各出現においてそれぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基または炭素数１〜３のアルコキシ基である。）

【化23】

ｋが、０であり；
ｌが、１であり；
ｍが、０であり；
ｎが、２である。

【0134】

本態様において、Ｒ^ｍの一例は、以下の式で表され得る。以下の式において、Ｒ^２２は、上記と同意義であり、具体的には、メチル基であり；Ｒ^４３およびＲ^４４は、各出現においてそれぞれ独立して、メチル基、エチル基、またはエトキシ基である。例えば、以下の式において、Ｒ^４３はメチル基、Ｒ^４４は一方がエチル基、もう一方がエトキシ基であってもよい。＊＊は、Ｘと結合する部位を表す。

【化24】

【0135】

式（１Ａ）および（１Ｂ）で表されるＰＦＰＥ含有化合物は、末端に金属原子を含むため、金属表面や金属酸化表面に密着しやすい効果がある。

【0136】

式（１Ａ）および（１Ｂ）で表されるＰＦＰＥ含有化合物は、Ｒｆ−ＰＦＰＥで表される基またはＲｆ−Ｒｆ^１−ＰＦＰＥ−Ｒｆ^２で表される基を有するため、撥水性、および撥油性の特に良好な表面処理層の形成に寄与できる。これは、Ｒｆの末端部分に含まれるＣＦ_３基は極めて低い表面自由エネルギーを示し、この基が最表面に配向するためである。

【0137】

より良好な撥水性および撥油性を有する表面処理剤を提供する観点からは、式（１Ａ）で表されるＰＦＰＥ含有化合物を用いることが好ましい。

【0138】

上記式（１Ａ）または（１Ｂ）で表されるＰＦＰＥ含有化合物は、例えば、下記式（２Ａ）または（２Ｂ）で表されるＰＦＰＥ化合物および式（３）で表される錯体から、Ｙ^１およびＹ^２を反応させＲ^１を形成する工程、または、Ｙ^１およびＹ^２’を反応させＲ^２を形成する工程を含む方法により製造することができる。

【化25】

【0139】

式（２Ａ）、（２Ｂ）および（３）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、ＰＦＰＥ^１、Ｒｆ^１、Ｒｆ^２、α１、α２、Ｘ、Ｍ、Ｒ^３、Ｒ^４、およびｋ〜ｎは、上記と同意義である。

【0140】

Ｙ^１は、反応可能な基を含む。

【0141】

上記反応可能な基としては、例えば、ＯＲ^１０、またはＮＲ^１０Ｒ^１２’等を挙げることができ、これらの中では、ＯＲ^１０が好ましい。Ｒ^１０は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基であり、好ましくは水素原子である。Ｒ^１２’は、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子である。

【0142】

上記Ｙ^１は、例えば、
−Ｒ^１９−ＯＲ^１０、または
−Ｒ^１９−ＮＲ^１０
で表される。Ｒ^１０は、上記と同意義である。Ｒ^１９は、単結合または２価の有機基である。

【0143】

上記Ｒ^１９としては、例えば、
単結合、
カルボニル基、
Ｃ_１〜１０アルキレン基（より好ましくは、Ｃ_１〜６アルキレン基）、
−（ＣＨ_２）_ｌ３−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−、
−（ＣＨ_２）_ｌ３Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−、または
−（ＣＨ_２）_ｌ３−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−
を挙げることができる。ｌ３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１２の整数であり、ｌ３^’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１２の整数である。好ましくは、ｌ３は、１〜６の整数であり、ｌ３’は、１〜６の整数である。

【0144】

上記Ｙ^１としては、例えば、
−ＯＨ、
−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、
−（ＣＨ_２）_ｌ３−ＯＨ、
−（ＣＨ_２）_ｌ３−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−ＯＨ、
−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、
−（ＣＨ_２）_ｌ３Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−ＯＨ、
−（ＣＨ_２）_ｌ３Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、
−（ＣＨ_２）_ｌ３−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−ＯＨ、または
−（ＣＨ_２）_ｌ３−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３’−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ
を挙げることができる。ｌ３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１２の整数であり、ｌ３^’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１２の整数である。好ましくは、ｌ３は、１〜６の整数であり、ｌ３’は、１〜６の整数である。

【0145】

好ましくは、上記Ｙ^１は、−Ｒ^１９−ＯＲ^１０である。Ｒ^１９およびＲ^１０は上記と同意義である。特に好ましくは、Ｙ^１は、
−ＯＨ、
−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、
−（ＣＨ_２）_ｌ３”−ＯＨ、または
−（ＣＨ_２）_ｌ３”−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨ
である。ｌ３”は、１〜３の整数であり、好ましくは１である。

【0146】

上記Ｙ^２は、反応可能な基Ｙ^２１を含む。

【0147】

上記反応可能な基Ｙ^２１としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^１０’、またはＯＲ^１０’等を挙げることができ、これらの中では、ＯＲ^１０’が好ましい。Ｒ^１０’は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基（即ち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、またはイソプロピル基）である。

【0148】

上記Ｙ^２’は、反応可能な基Ｙ^２１’を含む。Ｙ^２１’は、Ｙ^２１と同意義である。

【0149】

好ましくは、上記反応可能な基Ｙ^２１は、Ｒ^１に代えてＭに配位された基である。好ましくは、上記反応可能な基Ｙ^２１’は、Ｒ^２１に代えてＲ^２３に導入された基である。

【0150】

より具体的には、上記Ｙ^２は、Ｙ^２１が配位したものである。

【0151】

より具体的には、上記Ｙ^２’は、下記化合物が配位したものである。

【0152】

式中、＊は配位原子を表し、Ｙ^２１’、Ｒ^２２、およびｌ１は、上記と同意義である。

【0153】

好ましい態様において、上記Ｙ^１およびＹ^２は、Ｙ^１が−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＨであり、Ｙ^２が−ＯＲ^１０’（Ｒ^１０’は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基）である。

【0154】

別の好ましい態様において、上記Ｙ^１およびＹ^２’は、Ｙ^１が−（ＣＨ_２）_ｌ３'''−ＯＨであり（ｌ３'''は、１〜３の整数、好ましくは１）であり、Ｙ^２’が下記式で表される基である。式中、＊は配位原子を表し；Ｙ^２１’はＯＲ^１０’であり、ｌ１は１であり、Ｒ^２２は炭素数１〜３のアルキル基（例えばメチル基）である。Ｒ^１０’は、水素原子または炭素数１〜３のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基（即ち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、またはイソプロピル基）である。

【化26】

【0155】

本発明の表面処理剤は、上記ＰＦＰＥ含有化合物を、表面処理剤１００質量部に対し、好ましくは０．０１〜１００質量部、より好ましくは０．１〜３０質量部含む。

【0156】

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

【0157】

本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨＣｌ_２、ＣＦ_３ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨ_３、ＣＦ_３ＣＨＦＣＨＦＣ_２Ｆ_５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ＝ＣＨ_２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ１（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ１ＣＦ_２ＣＦ_３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。

【0158】

上記溶媒としては、Ｃ_６Ｆ_１３ＯＣＨ_３を用いてもよい。

【0159】

一の態様において、上記溶媒中に含まれる水分含有量は、質量換算で２０ｐｐｍ以下である。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。

【0160】

本発明の表面処理剤は、さらに他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、他の表面処理化合物、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール、触媒、白金、ルテニウム、ロジウム等の遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。

【0161】

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（４）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６ ・・・（４）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

【0162】

上記一般式（４）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（４ａ）および（４ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒｆ^６ ・・・（４ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒｆ^６ ・・・（４ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（４ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（４ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

【0163】

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

【0164】

本発明の表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物および上記カルボン酸エステル化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。

【0165】

一般式（４ａ）で示される化合物および一般式（４ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（４ａ）で示される化合物よりも、一般式（４ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（４ａ）で表される化合物と、一般式（４ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

【0166】

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（４ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記ＰＦＰＥ含有化合物と、式（４ｂ）で表される化合物との質量比は、１０：１〜１：１０であることが好ましく、４：１〜１：４であることがより好ましい。

【0167】

一の態様において、式（４ａ）で表される化合物の平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。

【0168】

一の態様において、式（４ｂ）で表される化合物の平均分子量は、８，０００〜３０，０００であることが好ましい。

【0169】

別の態様において、式（４ｂ）で表される化合物の平均分子量は、３，０００〜８，０００であることが好ましい。

【0170】

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、ＰＦＰＥ含有化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を大きくしてもよい。例えば、ＰＦＰＥ含有化合物の数平均分子量よりも、含フッ素オイルの数平均分子量を、２，０００以上、好ましくは３，０００以上、より好ましくは５，０００以上大きくしてもよい。このような数平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

【0171】

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記ＰＦＰＥ含有化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

【0172】

含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

【0173】

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

【0174】

本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記ＰＦＰＥ含有化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。

【0175】

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

【0176】

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

【0177】

触媒は、上記ＰＦＰＥ含有化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

【0178】

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

【0179】

上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。

【0180】

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、窒素原子、酸素原子、リン原子および硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１つの原子を含むことが好ましく、硫黄原子、または窒素原子を含むことがより好ましい。

【0181】

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、分子構造内に、アミノ基、アミド基、スルフィニル基、Ｐ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基およびスルホニル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことが好ましく、Ｐ＝Ｏ基およびＳ＝Ｏ基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことがより好ましい。

【0182】

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン類、リン酸アミド、尿素化合物およびスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることがより好ましく、スルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物および芳香族アミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが特に好ましく、スルホキシド化合物であることがさらに好ましい。

【0183】

上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。上記リン酸アミド化合物としては、例えば、ヘキサメチルホスホルアミド等を挙げることができる。上記アミド化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。上記尿素化合物としては、テトラメチル尿素等を挙げることができる。上記スルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げることができる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。

【0184】

他の成分としては、上記以外に、例えば、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。

【0185】

［ペレット］
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

【0186】

本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、高い摩擦耐久性および耐ＵＶ性を基材に対して付与することができることから、表面処理剤として好適に使用される。具体的には、本発明の表面処理剤は、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

【0187】

［物品］
次に、本発明の物品について説明する。

【0188】

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

【0189】

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

【0190】

上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。

【0191】

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

【0192】

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

【0193】

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

【0194】

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

【0195】

特に、基材としては、アルマイト、サファイアガラス、またはジルコニア等の基材表面に金属原子が存在する基材を用いることが好ましい。基材に含まれる金属と、式（１Ａ）または（１Ｂ）で表されるＰＦＰＥ含有化合物に含まれる金属原子との親和性が特に高くなり得ることから、形成された表面処理層と基材との結合がより強固になり得る。従って、形成された表面処理層の撥水性が特に良好になり、さらに耐摩擦性も向上する。

【0196】

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

【0197】

本発明の表面処理剤の膜形成は、本発明の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

【0198】

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

【0199】

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

【0200】

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

【0201】

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ_５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、ＰＦＰＥ含有化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

【0202】

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

【0203】

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

【0204】

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

【0205】

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

【0206】

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

【0207】

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

【0208】

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

【0209】

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

【0210】

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

【0211】

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、良好な耐ＵＶ性を有する。また、この表面処理層は、良好な耐ＵＶ性に加えて、使用する組成物の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、高い摩擦耐久性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

【0212】

即ち本発明はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

【0213】

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

【0214】

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバーなど。

【0215】

また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

【0216】

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、より好ましくは１〜３０ｎｍ、特に好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

【0217】

別の形態としては、基材の表面に別途層を形成した後、その層の表面に本発明によって得られる表面処理層の膜を形成してもよい。

【0218】

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

【実施例】

【0219】

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の存在順序は任意である。

【0220】

・合成例１
温度計および撹拌機を取り付けた３０ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_２０ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｈで表されるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体２．４ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン３ｇ、下記化合物（Ａ）で示されるアルミニウムキレート化合物０．４ｇを仕込み、窒素気流下、室温で１６時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアルミニウムキレートを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アルミニウム化合物（Ｂ）２．７ｇを得た。
・アルミニウムキレート化合物（Ａ）：

・パーフルオロポリエーテル基含有アルミニウム化合物（Ｂ）：

【0221】

・合成例２
温度計および撹拌機を取り付けた３０ｍＬの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_２０ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表されるパーフルオロポリエーテル変性アルコール体２．８ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇ、下記化合物（Ｃ）で示されるアルミニウムキレート化合物０．３ｇを仕込み、窒素気流下、室温で１６時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアルミニウムキレートを有する下記式のパーフルオロポリエーテル基含有アルミニウム化合物（Ｄ）３．０ｇを得た。
・アルミニウムキレート化合物（Ｃ）：

・パーフルオロポリエーテル基含有アルミニウム化合物（Ｄ）：

【0222】

・実施例１
上記合成例１で得られた化合物（Ｂ）を、濃度０．２ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。

【0223】

上記で調製された表面処理剤１を用いて、アルマイト（株式会社東陽理化学研究所製、１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．８ｍｍ）の表面上に、３０ｍｍ／秒の引き上げ速度で、ディプ処理した。その後、ディップ処理後のアルマイトを、温度１５０℃で１時間静置させた。その後室温まで冷却することで、表面処理層を形成した。

【0224】

・実施例２
実施例１で調製された表面処理剤１を用いて、ＳＵＳ３０４（日本テストパネル製、ＢＡ仕上げ、９０ｍｍ×６０ｍｍ×１ｍｍ）の表面上に、３０ｍｍ／秒の引き上げ速度で、ディプ処理した。その後、ディップ処理後のＳＵＳ３０４を、温度１５０℃で１時間静置した。その後室温まで冷却することで、表面処理層を形成した。

【0225】

・実施例３および４
化合物（Ｂ）に代えて、上記合成例２で得られた化合物（Ｄ）を用いたこと以外は実施例１または２と同様にして、表面処理層を形成した。

【0226】

・比較例１および２
化合物（Ｂ）に代えて、下記対照化合物１を用いたこと以外は、実施例１または２と同様にして、表面処理層を形成した。
・対照化合物１
CF₃CF₂CF₂(OCF₂CF₂CF₂)₂₀OCF₂CF₂CH₂OP(O)(OH)₂

【0227】

（評価）
・静的接触角の測定
上記の実施例１〜４および比較例１〜２で得られた表面処理層の水の静的接触角を測定した。水の静的接触角の測定は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて２１℃、６５％湿度の環境下で実施した。

【0228】

・摩擦耐久性評価
上記の実施例１〜４および比較例１〜２にて基材表面に形成された表面処理層について、まず、初期評価として、その表面を、エタノールを含ませたコットンで拭いた後、表面処理層の水の静的接触角を測定した。

【0229】

上記の実施例１〜４および比較例１〜２にて基材表面に形成された表面処理層について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（コクヨ株式会社製、ＫＥＳＨＩ−７０、平面寸法１ｃｍ×１．６ｃｍ）を表面処理層の表面に接触させ、その上に５００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数１００回後に、水の静的接触角（度）を測定した。結果を表１に示す。

【0230】

【表1】

【0231】

表１の結果から理解されるように、実施例１〜４の表面処理層は、優れた撥水性と優れた耐摩擦性を示すことが確認された。実施例１〜４の表面処理層に含まれるＰＦＰＥ含有化合物に由来するアルミニウムキレート基、および、基材表面には、ともに金属が含まれるため、特に親和性が良好であると考えられる。その結果、表面処理層と基材との結合がより強固になり、初期の撥水性だけでなく、耐摩擦性も向上したと考えられる。

【産業上の利用可能性】

【0232】

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

【手続補正書】

【提出日】2018年7月26日

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

式（１Ａ）または式（１Ｂ）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤。

【化1】

［式中：
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
ＰＦＰＥ^１は、ＰＦＰＥと同意義であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^１１）_ｍ２を表し；
Ｒｆ^１１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり；
ｍ２は、０〜４の整数であり、ｍ２が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^１１）_ｍ２は２種以上のＯ−Ｒｆ^１１からなるものであってもよく；
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３を表し；
Ｒｆ^２１は、１以上の水素原子を含む分岐構造を有しないフルオロアルキレン基であり；
ｍ３は、０〜４の整数であり、ｍ３が２〜４の整数の場合（Ｏ−Ｒｆ^２１）_ｍ３は２種以上のＯ−Ｒｆ^２１からなるものであってもよく；
Ｘは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２〜１０価の有機基を表し；
α１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ^ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式で表される基であり；

【化2】

Ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、配位結合可能な金属原子であり；
Ｒ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する単座配位子を表し；
Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｘとの結合手を有する二座配位子を表し；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単座配位子を表し；
Ｒ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、多座配位子を表し；
ｋは、０〜２の整数であり；
ｌは、０〜２の整数であり；
ｍは、０以上の整数であり；
ｎは、０以上の整数であり；
但し、ｋとｌとの和は１〜４であり、ｌにＲ^２の配座数を乗じた値、ｎにＲ^４の配座数を乗じた値、ｋおよびｍの和は、Ｍの配位数である。］

【請求項2】

Ｒ^１〜Ｒ^４に含まれる配位原子が、酸素および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１に記載の表面処理剤。

【請求項3】

Ｒ^１が、−Ｒ^１１−Ｏ−、または−Ｒ^１１Ｎ（Ｒ^１２）−である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
［式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり、Ｒ^１２は、水素原子または１価の有機基である。］

【請求項4】

Ｒ^２が、下記配位子（１−１’’）〜（１−６’’）のいずれか１つである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【化3】

［式中：
＃は、Ｍに配位する部分を示し；
Ｒ^２１は、Ｘと結合し得る基であり、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数である。］

【請求項5】

Ｒ^３が、ハロゲン原子、水素原子、ヒドロキシル基、および１価の有機基からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項6】

Ｒ^４が、二座配位子である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項7】

Ｒ^４が、下記配位子（２−１’’）〜（２−６’’）からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【化4】

［式中：
＃は、Ｍに配位する部分を示し；
Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
Ｒ^４４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、または１価の有機基であり；
ｎ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜６の整数である。］

【請求項8】

ｋが１であり、ｌが０である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項9】

ｋが０であり、ｌが１である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項10】

ｎが１または２である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項11】

Ｍが、アルミニウム原子、亜鉛原子または遷移金属原子である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項12】

Ｍが、アルミニウム原子、チタン原子、またはジルコニウム原子である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項13】

Ｍが、アルミニウム原子である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項14】

Ｘが２価の有機基であり、α１が１、およびα２が１である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項15】

パーフルオロポリエーテル基含有化合物が式（１Ａ）で表される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項16】

ＰＦＰＥが、各出現において独立して、下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ− （ｃ）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｊは、２〜１００の整数である。］
である、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項17】

含フッ素オイル、シリコーンオイル、アルコール、触媒、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。

【請求項18】

請求項１〜１７のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。

【請求項19】

基材、および、該基材の表面に、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層を含む物品。

【請求項20】

物品が、光学部材である、請求項１９に記載の物品。

【請求項21】

物品が、ディスプレイである、請求項１９または２０に記載の物品。