期限日
知財求人情報
特・実 審査基準
法文集
特開2018-182077(P2018-182077A)
IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版
ホーム
>
特許ランキング
>
三星電子株式会社
ツイート
知財求人
- 知財ポータルサイト「IP Force」
▶ 三星電子株式会社の特許一覧
▶ ディーエヌエフ カンパニー リミテッドの特許一覧
特開
2018-182077
低誘電膜の形成方法及びこれを利用する半導体素子の製造方法
書誌
要約
請求の範囲
詳細な説明
課題
実施例
実施するための形態
図面の説明
目に優しい
通常表示
文字サイズ
小
中
大
PDF
Top
<
>
<
>
1A
1B
2
3
4A
4B
5
6A
6B
7
8A
8B
9
10
14
