特開2018-182143IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

半導体装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】小型化を図りつつ、絶縁破壊の発生を低減することができる。
【解決手段】半導体装置10では、レジスト部材17aの基板14側の辺縁部17a1は、金属板12の外側に面する側面12aの直下の金属ベース板15上の位置15aと金属ベース板15上の位置15aから外側の位置15cとの間に形成される。位置15cは、絶縁板11の外側に面する側面11aの直下の金属ベース板15の位置15bから、金属ベース板15の主面から絶縁板11のおもて面までの高さHをレジスト部材17aの辺縁部17a1で制止されたときのはんだ16の接触角αの正接で除算して得られる距離離れている。これにより、導電パターン13aのはんだ16に対する絶縁距離を十分に取ることが可能となるために、導電パターン13aと絶縁板11との沿面距離を小さくすることができる。
【選択図】図6

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかし、半導体装置100では、図10に示すように、基板140からはんだ16のはみ出し部分16cが流出するため、導電パターン13aとはんだ16(はみ出し部分16c)との絶縁距離L2が短くなってしまう。絶縁距離L2が短くなると、導電パターン13aとはんだ16(はみ出し部分16c)とが短絡して絶縁破壊が生じてしまうという問題点があった。 このような半導体装置100において、絶縁距離L2を絶縁破壊が生じないように十分保つためには、導電パターン13aと絶縁板110との沿面距離W2を長くする必要がある。しかし、沿面距離W2を長くすると、基板140のサイズを拡張する必要が生じ、半導体装置100の大型化に繋がるという問題点があった。 本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、小型化を図りつつ、絶縁破壊の発生を低減することができる半導体装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一観点によれば、絶縁板と前記絶縁板の裏面に形成された金属板と前記絶縁板のおもて面に形成された導電パターンとを有する基板と、前記基板の前記金属板が接合部材を介して主面に接合されたベース板と、平面視で前記導電パターンの外側に面する第1の側面に平行して前記ベース板上に帯状に形成されたレジスト部材と、を有し、前記レジスト部材の前記基板側の辺縁部は、前記金属板の前記外側に面する第2の側面の直下・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
開示の技術によれば、半導体装置の小型化を図りつつ、絶縁破壊の発生を低減して、半導体装置の信頼性の低下を防止することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】第1の実施の形態の半導体装置の平面図である。

【図2】第1の実施の形態の半導体装置の断面図(レジスト部材有り)である。

【図3】第1の実施の形態の半導体装置の断面図(レジスト部材無し)である。

【図4】第1の実施の形態の半導体装置のレジスト部材の位置を説明するための断面図である(その1)。

【図5】第1の実施の形態の半導体装置のレジスト部材の位置を説明するための断面図である(その2)。

【図6】第1の実施の形態の半導体装置のレジスト部材の位置を説明するための断面図である(その3)。

【図7】第2の実施の形態の半導体装置の平面図である。

【図8】第3の実施の形態の半導体装置の平面図である。

【図9】従来例の半導体装置の平面図の一例である。

【図10】従来例の半導体装置の断面図の一例である。

選択図 図6出願人が指定した本件の代表的な図

10,10a,10b 半導体装置   11,21,31,41 絶縁板   11a,12a,13a1 側面   11b 裏面   12 金属板   13a〜13n,13,23a〜23n,33a〜33n,43a〜43n 導電パターン   14,24,34,44 基板   15,25,45 金属ベース板   15a,15b,15c 位置   16 はんだ   16a,16b,16c,16d はみ出し部分   17a,17b,27a1,27b1,27b2,27c1 レジスト部材   17a1 辺縁部   18 半導体素子

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