特開2018-195462(P2018-195462A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2018-195462有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法
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  • 特開2018195462-有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法 図000003
  • 特開2018195462-有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法 図000004
  • 特開2018195462-有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法 図000005
  • 特開2018195462-有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法 図000006
  • 特開2018195462-有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法 図000007
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