特開 2018-201407 不要細胞除去装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2018-201407(P2018-201407A)

(43)【公開日】2018年12月27日

(54)【発明の名称】不要細胞除去装置

(51)【国際特許分類】

   C12M 1/33 20060101AFI20181130BHJP

   C12M 1/00 20060101ALI20181130BHJP

   C12M 1/42 20060101ALI20181130BHJP

【ＦＩ】

   C12M1/33

   C12M1/00 C

   C12M1/42

【審査請求】未請求

【請求項の数】4

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2017-110624(P2017-110624)

(22)【出願日】2017年6月5日

(71)【出願人】

【識別番号】000002059

【氏名又は名称】シンフォニアテクノロジー株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110001841

【氏名又は名称】特許業務法人梶・須原特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】一井 淳

【テーマコード（参考）】

4B029

【Ｆターム（参考）】

4B029AA15

4B029AA27

4B029BB01

4B029GB06

4B029GB10

(57)【要約】

【課題】不要細胞へのレーザー光の照射量を安価な構成で調整する。
【解決手段】不要細胞を含む細胞Ｃが収容された培養容器Ｐを支持する支持部３と、不要細胞にレーザー光を照射可能な照射状態と、不要細胞にレーザー光を照射しない非照射状態と、の間で切換可能なレーザー光照射装置５と、支持部３又はレーザー光照射装置５を移動させることで、レーザー光の照射位置を不要細胞に対して相対移動させる移動装置４と、レーザー光照射装置５及び移動装置４の動作を制御することによって、不要細胞にレーザー光を照射する制御装置と、を備える。制御装置は、移動装置４によってレーザー光の照射位置を不要細胞に対して相対移動させながら不要細胞にレーザー光を照射する際に、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を変更することで、不要細胞へのレーザー光の照射量を調整する。
【選択図】図１

【特許請求の範囲】

【請求項1】

不要細胞を含む細胞が収容された培養容器を支持する支持部と、
前記不要細胞にレーザー光を照射可能な照射状態と、前記不要細胞にレーザー光を照射しない非照射状態と、の間で切換可能なレーザー光照射装置と、
前記支持部又は前記レーザー光照射装置を移動させることで、前記レーザー光の照射位置を前記不要細胞に対して相対移動させる移動装置と、
前記レーザー光照射装置及び前記移動装置の動作を制御することによって、前記不要細胞に前記レーザー光を照射する制御装置と、
を備え、
前記制御装置は、前記移動装置によって前記レーザー光の照射位置を前記不要細胞に対して相対移動させながら前記不要細胞に前記レーザー光を照射する際に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を変更することで、前記不要細胞への前記レーザー光の照射量を調整することを特徴とする不要細胞除去装置。

【請求項2】

前記不要細胞に前記レーザー光を照射する際に、前記移動装置が、前記支持部又は前記レーザー光照射装置を、停止状態から所定速度まで加速させ、前記所定速度で定速移動させた後、前記所定速度から減速させて停止させる場合、
前記制御装置は、前記支持部又は前記レーザー光照射装置の加速時及び減速時に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を、定速移動時よりも小さくすることを特徴とする請求項１に記載の不要細胞除去装置。

【請求項3】

前記制御装置は、前記支持部又は前記レーザー光照射装置の加速時に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を徐々に大きくするとともに、前記支持部又は前記レーザー光照射装置の減速時に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を徐々に小さくすることを特徴とする請求項２に記載の不要細胞除去装置。

【請求項4】

前記制御装置は、前記不要細胞に前記レーザー光を照射する際に、前記不要細胞の厚みに応じて、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を変更することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の不要細胞除去装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、不要細胞にレーザー光を照射することで不要細胞を除去する不要細胞除去装置に関する。

【背景技術】

【0002】

例えばｉＰＳ細胞やＥＳ細胞等の培養を行う際には、培養対象としている目的細胞とは異なる細胞に変化した不要細胞を除去しつつ、目的細胞を培養していく必要がある。培養容器の底面に付着している不要細胞を除去する方法としては、不要細胞にレーザー光を照射し、不要細胞を培養容器の底面から剥離させる方法が考えられる。この方法では、培養容器を支持する支持部と、レーザー光を照射するレーザー光照射装置とを相対移動させつつ、不要細胞にレーザー光を照射することで、培養容器内の不要細胞を除去することができる。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0003】

ここで、レーザー光により不要細胞を除去する際には、上記支持部又はレーザー光照射装置を所定速度で定速移動させながら、レーザー光を不要細胞に照射するのが一般的である。この場合、上記所定速度への加速時及び所定速度からの減速時には、定速移動時よりも移動速度が遅くなる。このため、支持部又はレーザー光照射装置の加速時及び減速時には、不要細胞へのレーザー光の照射量が過多となり、培養容器や周りの目的細胞に損傷を与えてしまうおそれがある。一方、支持部又はレーザー光照射装置の加速時及び減速時に適切な照射量となるようにレーザー光の出力を抑えると、定速移動時のレーザー光の照射量が過少となり、不要細胞を除去できなくなるおそれがある。このような問題を解決するために、レーザー光の出力を随時調整可能なレーザー光照射装置を用いることも考えられるが、このようなレーザー光照射装置は高価である。

【0004】

本発明は、上述の課題を鑑みて、不要細胞へのレーザー光の照射量を安価な構成で調整することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明に係る不要細胞除去装置は、不要細胞を含む細胞が収容された培養容器を支持する支持部と、前記不要細胞にレーザー光を照射可能な照射状態と、前記不要細胞にレーザー光を照射しない非照射状態と、の間で切換可能なレーザー光照射装置と、前記支持部又は前記レーザー光照射装置を移動させることで、前記レーザー光の照射位置を前記不要細胞に対して相対移動させる移動装置と、前記レーザー光照射装置及び前記移動装置の動作を制御することによって、前記不要細胞に前記レーザー光を照射する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記移動装置によって前記レーザー光の照射位置を前記不要細胞に対して相対移動させながら前記不要細胞に前記レーザー光を照射する際に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を変更することで、前記不要細胞への前記レーザー光の照射量を調整することを特徴とする。

【0006】

本発明に係る不要細胞除去装置によれば、単位時間中にレーザー光照射装置を照射状態とする時間の割合を変更することで、不要細胞に照射されるレーザー光の照射量を調整する。したがって、レーザー光の出力を随時調整可能なレーザー光照射装置を用いなくても、一定の出力のレーザー光を照射する比較的安価なレーザー光照射装置でレーザー光の照射量を調整することができ、不要細胞へのレーザー光の照射量を安価な構成で調整することが可能となる。

【0007】

本発明において、前記不要細胞に前記レーザー光を照射する際に、前記移動装置が、前記支持部又は前記レーザー光照射装置を、停止状態から所定速度まで加速させ、前記所定速度で定速移動させた後、前記所定速度から減速させて停止させる場合、前記制御装置は、前記支持部又は前記レーザー光照射装置の加速時及び減速時に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を、定速移動時よりも小さくするとよい。

【0008】

支持部又はレーザー光照射装置の加速時及び減速時には、定速移動時よりも移動速度が遅くなるため、不要細胞へのレーザー光の照射量が定速移動時よりも大きくなり、培養容器や周りの目的細胞に損傷を与えてしまうおそれがある。しかしながら、上述のように、加速時及び減速時にレーザー光照射装置を照射状態とする時間の割合を定速移動時よりも小さくすることで、加速時及び減速時におけるレーザー光の照射量を抑えることができ、培養容器や周りの目的細胞に損傷を与えてしまうことを防止できる。

【0009】

本発明において、前記制御装置は、前記支持部又は前記レーザー光照射装置の加速時に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を徐々に大きくするとともに、前記支持部又は前記レーザー光照射装置の減速時に、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を徐々に小さくするとよい。

【0010】

このようにレーザー光照射装置を制御すれば、不要細胞へのレーザー光の照射量を概ね一定に維持することができ、不要細胞を好適に除去することができる。

【0011】

本発明において、前記制御装置は、前記不要細胞に前記レーザー光を照射する際に、前記不要細胞の厚みに応じて、単位時間中に前記レーザー光照射装置を前記照射状態とする時間の割合を変更するとよい。

【0012】

こうすれば、例えば不要細胞の厚みが大きい領域では、単位時間中にレーザー光照射装置を照射状態とする時間の割合を大きくすることで、不要細胞を確実に除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】本実施形態の不要細胞除去装置を模式的に示す正面図である。

【図2】不要細胞除去装置の電気的構成を示すブロック図である。

【図3】遮断部材の一例を示す図である。

【図4】不要細胞除去処理の流れを示すフローチャートである。

【図5】撮影画像の一例を示す図である。

【図6】（ａ）不要細胞の断面、（ｂ）ステージの移動速度、及び、（ｃ）遮断部材の状態、を示す図である。

【図7】変形例における撮影画像の一例を示す図である。

【図8】変形例における（ａ）不要細胞の断面、（ｂ）ステージの移動速度、及び、（ｃ）遮断部材の状態、を示す図である。

【図9】遮断部材の変形例の（ａ）正面図及び（ｂ）側面図である。

【図10】他の実施形態の不要細胞除去装置を模式的に示す正面図である。

【発明を実施するための形態】

【0014】

（不要細胞除去装置の構成）
以下、本発明に係る不要細胞除去装置の一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図１に示す不要細胞除去装置１は、機台２と、ステージ３と、ステージ移動装置４と、レーザー光照射装置５と、撮影装置６と、照明装置７と、制御装置８（図２参照）と、を備える。

【0015】

機台２は、不要細胞除去装置１を構成する各部材を支持する箱状の部材である。機台２の内部には、レーザー光照射装置５及び撮影装置６の一部構成が収容されている。

【0016】

ステージ３は、機台２の上方に配置されており、可視光やレーザー光が透過可能な透明の部材からなる。ステージ３には、培養容器Ｐが載置される。培養容器Ｐは、可視光やレーザー光が透過可能な透明の部材、例えば透明のプラスチック部材からなる。培養容器Ｐの中には培養液Ｌが入れられており、細胞Ｃが培養容器Ｐの底面に付着している。細胞Ｃには、培養対象としている目的細胞と、目的細胞とは異なる細胞に変化した不要細胞とが含まれている。

【0017】

ステージ移動装置４は、ステージ３を水平方向（左右方向及び前後方向）に移動させるための装置である。ステージ移動装置４によってステージ３を移動させることにより、培養容器Ｐを後述の照射用対物レンズ１４及び撮影用対物レンズ２１に対して水平方向に相対移動させることができる。

【0018】

レーザー光照射装置５は、レーザー光生成器１１、コリメートレンズ１２、光学ミラー１３、及び、照射用対物レンズ１４を有する。レーザー光照射装置５においては、レーザー光生成器１１で生成されたレーザー光が、コリメートレンズ１２及び光学ミラー１３を経て照射用対物レンズ１４に至るように、光路１５が規定されている。レーザー光生成器１１は、主に近赤外線（波長が約７８０〜２０００ｎｍの範囲の光）からなる一定の出力の近赤外線レーザー光を生成する。照射用対物レンズ１４は、ステージ３の下方に配置されている。ステージ移動装置４によって培養容器Ｐを水平方向に移動させながら、細胞Ｃに含まれる不要細胞が照射用対物レンズ１４の鉛直上方にきたタイミングでレーザー光を照射することで、不要細胞を培養容器Ｐの底面から剥離させることができる。

【0019】

レーザー光照射装置５の光路１５上には、遮断部材１６が配置されている。図３は、遮断部材１６を光路１５に沿った方向から見た図である。遮断部材１６は、支軸１７周りに揺動可能であり、図３（ａ）に示すように光路１５を遮断する遮断状態と、図３（ｂ）に示すように光路１５を遮断しない開放状態と、の間で切換可能となっている。遮断部材１６は、駆動部１８によって揺動駆動される。

【0020】

遮断部材１６が開放状態のとき、レーザー光照射装置５は、レーザー光生成器１１で生成されたレーザー光が、照射用対物レンズ１４を介して不要細胞に照射可能な照射状態となる。一方、遮断部材１６が遮断状態のとき、レーザー光照射装置５は、レーザー光生成器１１で生成されたレーザー光が不要細胞に照射されない非照射状態となる。なお、遮断部材１６の具体的な構成は、図３に示したものに限定されない。また、図１では、コリメートレンズ１２と光学ミラー１３との間に遮断部材１６を配置しているが、光路１５上の他の位置に遮断部材１６を配置してもよい。

【0021】

撮影装置６は、撮影用対物レンズ２１、光学ミラー２２、２３、及び、撮像部２４を有する。撮影装置６においては、撮影用対物レンズ２１の視野内の画像が、光学ミラー２２、２３を経て撮像部２４で撮像されるように、光路２５が規定されている。撮影用対物レンズ２１は、ステージ３の下方に配置されている。撮像部２４は、例えばＣＣＤやＣＭＯＳからなるイメージセンサを有している。ステージ移動装置４による培養容器Ｐの水平方向への移動と、撮影装置６による撮影とを順番に繰り返すことで、培養容器Ｐ内に存在している細胞Ｃの全領域を撮影することができる。撮影装置６によって撮影された画像データは、制御装置８に送られる。

【0022】

照明装置７は、撮影用対物レンズ２１の鉛直上方に配置されており、撮影装置６による撮影に必要な光量を供給する。

【0023】

図２に示すように、制御装置８は、ステージ移動装置４、レーザー光照射装置５、撮影装置６、及び、照明装置７の各動作を制御する。制御装置８は、画像処理部８ａ及び記憶部８ｂを有する。画像処理部８ａは、撮影装置６によって撮影された細胞Ｃの画像データに画像処理を施すことによって、細胞Ｃに含まれる不要細胞を検出してその位置情報を取得する。記憶部８ｂは、画像処理部８ａによって取得された不要細胞の位置情報等を記憶する。

【0024】

（不要細胞除去処理）
以上のように構成された不要細胞除去装置１により、培養容器Ｐ内の細胞Ｃに含まれる不要細胞を除去する不要細胞除去処理の流れについて、図４を参照しつつ説明する。ここで、細胞Ｃの培養について簡単に説明する。はじめに、培養容器Ｐに培養液Ｌを入れ、目的細胞を投入する。培養が進むにつれて、目的細胞が成長するが、その過程で、不要細胞が発生することもある。不要細胞を放置しておくと、不要細胞に養分が奪われることで目的細胞の成長が阻害されるため、適宜、不要細胞を除去することが必要となる。このような不要細胞の除去に使用されるのが、不要細胞除去装置１である。なお、実際には、多数の目的細胞が集まって目的細胞群を構成し、多数の不要細胞が集まって不要細胞群を構成するが、本明細書では、目的細胞群及び不要細胞群を単に目的細胞及び不要細胞と言う。そして、目的細胞群と不要細胞群とを含む細胞群全体を単に細胞Ｃと言う。

【0025】

制御装置８は、ステージ３を移動させながら、撮影装置６で撮影を行う（ステップＳ１１）。撮影装置６が１回で撮影できる範囲は限られているため、収容部Ｐａ内の領域を複数の撮影範囲に区切り、区切られた各範囲の撮影が順番に行われる。撮影装置６で撮影された画像データは制御装置８に送られる。制御装置８は、画像処理部８ａで画像データに画像処理を施すことによって、その画像から細胞Ｃを検出する（ステップＳ１２）。さらに、制御装置８は、不要細胞を検出するとともに不要細胞の位置情報を取得し、当該位置情報を記憶部８ｂに記憶する（ステップＳ１３）。次に、制御装置８は、培養容器Ｐの全領域の撮影が終了したか否かを判断し（ステップＳ１４）、全領域の撮影が終了するまで、ステップＳ１１〜Ｓ１３を繰り返し実行する。

【0026】

培養容器Ｐの全領域の撮影が終了すると、制御装置８は、記憶部８ｂに記憶されている不要細胞の位置情報に基づいて、ステージ移動装置４及びレーザー光照射装置５を制御し、不要細胞が照射用対物レンズ１４の直上に位置するタイミングでレーザー光を照射させる（ステップＳ１５）。これにより、不要細胞は培養容器Ｐの底面から剥離して、培養液Ｌ中に浮遊した状態となる。最後に、制御装置８は、全領域の不要細胞にレーザー光を照射し終えたか否かを判断し（ステップＳ１６）、全ての不要細胞にレーザー光を照射し終えるまで、ステップＳ１５を繰り返し実行する。以上のような不要細胞除去処理を実行することで、細胞Ｃに含まれる不要細胞を除去することができ、目的細胞のみを効率的に培養することができる。なお、培養容器Ｐの底面から剥離して培養液Ｌ中に浮遊している不要細胞は、培養液Ｌの交換とともに廃棄される。

【0027】

図５及び図６を参照しつつ、不要細胞にレーザー光を照射する際の、詳細な制御について説明する。図５に示すように、目的細胞Ｃａと不要細胞Ｃｂとは隣接して存在する場合が多い。そこで、図５の複数の矢印で示すように、不要細胞Ｃｂの領域内において、レーザー光を不要細胞Ｃｂに対して相対的に横方向（縦方向でもよい）に順番に移動させることで、不要細胞Ｃｂの全域に対してレーザー光を相対的に走査させるようにする。こうすることで、不要細胞Ｃｂのみにレーザー光を照射させ、目的細胞Ｃａにはレーザー光を照射しないようにすることができる。

【0028】

図６では、図５に示した複数の矢印のうち、上から３つ目の矢印で示すように、不要細胞Ｃｂに対して左側から右側にレーザー光を相対的に走査させる場合、換言すると、ステージ３をレーザー光照射装置５（照射用対物レンズ１４）に対して右側から左側に相対的に移動させる場合を示している（後の図８も同様）。図６（ａ）は、不要細胞Ｃｂの断面を模式的に示しており、図６（ｂ）は、ステージ３の移動速度を示しており、図６（ｃ）は、遮断部材１６の状態を示している（後の図８も同様）。

【0029】

不要細胞Ｃｂにレーザー光を照射する際には、図６（ｂ）に示すように、基本的に所定速度Ｖでステージ３を定速移動させる。しかしながら、ステージ３が停止状態から所定速度Ｖとなるまでの加速時（時間０〜ｔ１の間）、及び、ステージ３が所定速度Ｖから停止するまでの減速時（時間ｔ２〜ｔ３の間）では、移動速度が定速移動時（時間ｔ１〜ｔ２の間）の所定速度Ｖよりも遅くなる。したがって、レーザー光生成器１１にて一定の出力のレーザー光が生成されている場合、移動速度が遅い加速時及び減速時において、不要細胞Ｃｂへの単位面積当たりの照射量が過多となって培養容器Ｐや周りの目的細胞Ｃａに損傷を与えてしまうおそれがある。

【0030】

そこで、本実施形態では、図６（ｃ）に示すように、不要細胞Ｃｂにレーザー光を照射する際に、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を変更することで、不要細胞Ｃｂへの単位面積当たりのレーザー光の照射量を調整している。具体的には、制御装置８は、ステージ３の定速移動時には、単位時間中に遮断部材１６を開放状態とする（すなわちレーザー光照射装置５を照射状態とする）時間の割合（以下、「開放時間率」という）を１００％としており、ステージ３の加速時及び減速時には、開放時間率を１００％未満としている。

【0031】

より詳細には、制御装置８は、ステージ３の加速時には、開放時間率を徐々に大きくするとともに、ステージ３の減速時には、開放時間率を徐々に小さくしている。こうすることで、不要細胞Ｃｂへの単位時間当たりのレーザー光の照射量が、ステージ３の移動速度に概ね比例する。その結果、不要細胞Ｃｂへの単位面積当たりのレーザー光の照射量を概ね一定に維持することができ、好適に不要細胞Ｃｂを剥離させることができる。なお、ステージ３の定速移動時の開放時間率を１００％とすることは必須ではなく、このときの開放時間率を１００％未満としてもよい。

【0032】

次に、図７に示すように、不要細胞Ｃｂに不要細胞Ｃｂ１と不要細胞Ｃｂ２とが含まれ、不要細胞Ｃｂ１の上に不要細胞Ｃｂ２が重なって、不要細胞Ｃｂの厚みが一部で大きくなっている場合の不要細胞除去処理について説明する。この場合には、厚みが大きい領域にレーザー光を多く照射させる必要があるため、レーザー光が不要細胞Ｃｂ２の領域を照射している間の開放時間率を、不要細胞Ｃｂ２の領域外を照射している間の開放時間率よりも大きくするとよい。

【0033】

図８では一例として、ステージ３が所定速度Ｖで定速移動しており、且つ、レーザー光が不要細胞Ｃｂ２の領域を照射している間の開放時間率を１００％とし、ステージ３が所定速度Ｖで定速移動しており、且つ、レーザー光が不要細胞Ｃｂ２の領域外を照射している間の開放時間率を１００％未満としている。ステージ３の加速時及び減速時の開放時間率については、図６の場合と同様に調整している。なお、ステージ３が所定速度Ｖで定速移動しており、且つ、レーザー光が不要細胞Ｃｂ２の領域を照射している間の開放時間率を１００％とすることは必須ではなく、このときの開放時間率を１００％未満としてもよい。

【0034】

（効果）
以上のように、本実施形態では、制御装置８は、ステージ移動装置４（移動装置）によってレーザー光の照射位置を不要細胞Ｃｂに対して相対移動させながら不要細胞Ｃｂにレーザー光を照射する際に、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を変更することで、不要細胞Ｃｂへのレーザー光の照射量を調整する。したがって、レーザー光の出力を随時調整可能なレーザー光照射装置を用いなくても、一定の出力のレーザー光を照射する比較的安価なレーザー光照射装置５でレーザー光の照射量を調整することができ、不要細胞Ｃｂへのレーザー光の照射量を安価な構成で調整することが可能となる。

【0035】

本実施形態では、制御装置８は、ステージ３（支持部）の加速時及び減速時に、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を、定速移動時よりも小さくしている。ステージ３の加速時及び減速時には、定速移動時よりも移動速度が遅くなるため、不要細胞Ｃｂへのレーザー光の照射量が定速移動時よりも大きくなり、培養容器Ｐや周りの目的細胞Ｃａに損傷を与えてしまうおそれがある。しかしながら、上述のように、加速時及び減速時にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を定速移動時よりも小さくすることで、加速時及び減速時におけるレーザー光の照射量を抑えることができ、培養容器Ｐや周りの目的細胞Ｃａに損傷を与えてしまうことを回避できる。

【0036】

本実施形態では、制御装置８は、ステージ３の加速時に、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を徐々に大きくするとともに、ステージ３の減速時に、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を徐々に小さくしている。このようにレーザー光照射装置５を制御すれば、不要細胞Ｃｂへのレーザー光の照射量を概ね一定に維持することができ、不要細胞Ｃｂを好適に除去することができる。

【0037】

本実施形態では、制御装置８は、不要細胞Ｃｂにレーザー光を照射する際に、不要細胞Ｃｂの厚みに応じて、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を変更している（図８参照）。こうすれば、例えば不要細胞Ｃｂの厚みが大きい領域では、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を大きくすることで、不要細胞Ｃｂを確実に除去することができる。

【0038】

本実施形態では、レーザー光の光路１５上に、光路１５を遮断する遮断状態と、光路１５を遮断しない開放状態と、の間で切換可能な遮断部材１６が設けられており、制御装置８は、遮断部材１６を開放状態にすることでレーザー光照射装置５を照射状態とし、遮断部材１６を遮断状態とすることでレーザー光照射装置５を非照射状態とする。一般的に、レーザー光の出力が安定するまでには、ある程度の時間を要するため、レーザー光の出力自体をＯＮ／ＯＦＦすることにより照射状態／非照射状態を切り換える構成だと、照射量の調整にタイムラグが生じるおそれがある。これに対し、上述のように、遮断部材１６を用いた構成にすると、レーザー光の出力をＯＮにしたままでも迅速に照射状態／非照射状態を切り換えることができるので、上記タイムラグの問題を解消することができる。

【0039】

（他の実施形態）
上記実施形態に種々の変更を加えた変形例について説明する。

【0040】

上記実施形態では、揺動可能な遮断部材１６を用いるものとしたが、遮断部材の具体的な形態はこれに限定されない。例えば、図９に示すように、遮断部材２６を、円盤状の部材に周方向に複数の切欠き２７が形成された部材としてもよい。遮断部材２６は、ステッピングモータ２９に連結された回転軸２８周りに回転する。このような構成によれば、遮断部材２６を回転させることで、光路１５が遮断部材２６で遮断される遮断状態と、光路１５が切欠き２７を通過する開放状態とに切り換えることができる。そして、遮断部材２６の回転角度や回転速度を調整することで、開放時間率を調整することができる。また、モータを用いることで応答性を向上させることができる。また、光路１５を遮断する部位が複数（図９の例では４つ）あるので、光路１５を遮断する部位を変更することで、遮断部材２６にレーザー光が照射されることによる遮断部材２６の劣化を軽減することができる。

【0041】

上記実施形態では、遮断部材１６の開放状態／遮断状態を切り換えることにより、レーザー光照射装置５の照射状態／非照射状態を切り換えるものとした。しかしながら、上述したタイムラグの影響がほとんどない場合には、レーザー光生成器１１をＯＮ／ＯＦＦすることにより、レーザー光照射装置５の照射状態／非照射状態を切り換えるようにしてもよい。

【0042】

上記実施形態では、撮影用対物レンズ２１と照射用対物レンズ１４とを個別に設けるものとした。しかしながら、図１０に示すように、撮影用及び照射用の両方に用いられる対物レンズ４１を設けるようにしてもよい。この場合、基本的な構成に大きな変更はないが、レーザー光照射装置５の光路１５と撮影装置６の光路２５との合流点には、可視光を透過させ、且つ、レーザー光を反射させるダイクロイックミラー４２が配置される。このように、１つの対物レンズ４１を撮影用と照射用とに兼用することで、撮影時とレーザー光の照射時とで、ステージ３を移動させる距離を短くすることができ、不要細胞除去処理を効率的に実行することができる。

【0043】

上記実施形態では、ステージ移動装置４が培養容器Ｐが載置されたステージ３を移動させることで、細胞Ｃの全領域を撮影したり、細胞Ｃの全領域において不要細胞にレーザー光を照射するものとした。しかしながら、レーザー光照射装置５及び撮影装置６を可動式に構成し、レーザー光照射装置５及び撮影装置６を移動させることで、細胞Ｃの全領域を撮影したり、細胞Ｃの全領域において不要細胞にレーザー光を照射するようにしてもよい。

【0044】

上記実施形態では、細胞Ｃの全領域の撮影が終わってから、不要細胞にレーザー光を照射するものとした。しかしながら、細胞Ｃの撮影と、不要細胞へのレーザー光の照射とを、順番に繰り返すようにしてもよい。

【0045】

上記実施形態では、不要細胞Ｃｂの厚みが大きい領域では、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を大きくするものとした。しかしながら、単位時間中にレーザー光照射装置５を照射状態とする時間の割合を一定に維持したまま、不要細胞Ｃｂの厚みが大きい領域では、ステージ３の移動速度を所定速度Ｖよりも遅くすることで、厚みが大きい領域でのレーザー光の照射量を多くするようにしてもよい。

【符号の説明】

【0046】

１：不要細胞除去装置
３：ステージ（支持部）
４：ステージ移動装置（移動装置）
５：レーザー光照射装置
８：制御装置
１５：光路
１６：遮断部材
Ｃ：細胞
Ｃｂ：不要細胞
Ｐ：培養容器

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】