特開2018-202282IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

液体を電気化学的に処理する液体処理装置により貯留タンクの水を殺菌する貯留タンク水処理装置及び貯留式給湯装置に関するものである。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】プラズマを効率良く発生させて貯留タンク水を迅速に殺菌できて、貯留タンク水の処理時間を短縮でき貯留タンク水処理装置及び貯留式給湯装置を提供する。
【解決手段】温度センサー97の検出値に従って制御部98でポンプ50の吐出能力を制御しつつポンプにより導入部15から処理槽12内に導入された液体L1を、導入部から排出部17の間で旋回させて旋回流F1を発生させるとともに気相GにプラズマPを発生させて、液体を殺菌するとともに改質成分を生成し、生成した改質成分が液体L1に溶解して液体L1中に分散して、処理液L2を生成し、生成された処理液が排出部から貯留タンク90内に供給して貯留タンク90内の貯留タンク水92を殺菌する。
【選択図】図6D

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、前記したように、特許文献1に記載の液体処理装置を貯留式給湯装置に適用する場合には、プラズマの発生効率が低く、貯留タンクの水の処理に長い時間がかかるという問題があった。 本発明は、このような点に鑑み、プラズマを効率良く発生させて貯留タンク水を迅速に殺菌できて、貯留タンク水の処理時間を短縮できる、貯留タンク水処理装置及び貯留式給湯装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

目的を達成するために、本発明の1つの態様にかかる貯留タンク水処理装置は、 導入部から導入される液体を中心軸周りに旋回させることにより、前記液体の旋回流の旋回中心付近に気相を発生させるとともに、前記導入部から導入された前記液体を、前記導入部との間で旋回させて前記旋回流を発生させたのち処理液として排出する排出部を有し、前記排出部が貯留タンクに取り付け可能な処理槽と、 前記貯留タンクに・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明の前記態様にかかる貯留タンク水処理装置及び貯留式給湯装置によれば、温度センサーの検出値に従って制御部でポンプの吐出能力を制御しつつ、ポンプにより、貯留タンクから導入部を介して前記液体が前記処理槽に導入される。その結果、導入された前記液体の貯留タンク水を、前記導入部から前記排出部の間で旋回させて前記旋回流を発生させる。そして、この貯留タンク水の旋回流で生成した前記気相に前記プラズマを発生させて、前記液体を殺菌するとともに、殺菌作用を有する改質成分を生成し、生成した改質成分を有する処理液を生成する。そして、生成された前記処理液が前記排出部から前記貯留タンク内の貯留タンク水に供給されて、前記貯留タンク内の貯留タンク水を殺菌するので、貯留タンク水を効率的に殺菌できる。ここでは、旋回流中で貯留タンク水を気化させ、生成された気相にパルス電圧を印加してプラズマを発生させている。電圧印加により貯留タンク水を気化させる必要がないため、少ない電力でプラズマを発生させることができ、貯留タンク水の殺菌を効率良く、迅速に行うことができる。すなわち、プラズマを効率良く発生させて貯留タンク水を迅速に殺菌できて、貯留タンク水の処理時間を短縮することができる。
また、温度センサーで検出された貯留タンク内の貯留タンク水の温度に合わせて気相を生成(気相内の圧力条件を満足)する旋回流に必要な水量を、制御部の制御の基にポンプで調整することができて、安定した放電を得ることができる。よって、OHラジカルを、より効率良く生成し、貯留タンクの殺菌を、より効率良く行うことができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の実施形態1にかかる貯留タンク水処理装置である液体処理装置の構成を示す側面断面図

【図2】液体処理装置の装置本体の側面断面図

【図3】図2の3―3線における断面図

【図4】処理槽の内部に旋回流が発生しており、電圧を印加していない状態を示す側面断面図

【図5】図4の5−5線における断面図

【図6A】処理槽の内部に旋回流が発生しており、電圧を印加した状態を示す側面断面図

【図6B】図6Aの気相中にプラズマが発生した状態の部分拡大図

【図6C】貯留タンク水処理装置を貯留タンクに連結配置して貯留タンク水を殺菌している状態の側面断面図

【図6D】貯留タンク水処理装置を含む貯留式給湯装置全体の側面断面図

【図6E】本発明の実施形態2にかかる貯留タンク水処理装置を含む貯留式給湯装置全体の構成を示す側面断面図

【図7】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図8】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図9A】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図9B】図9Aとは異なる装置本体の変形例を示す側面断面図

【図10】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図11】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図12】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図13】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図14A】装置本体の変形例を示す側面断面図

【図14B】装置本体の変形例において貯留タンクの一部に銅材を配置した側面断面図

【図15】従来の液体処理装置の概略構成図

【図16】気体導入装置を備える従来の液体処理装置の概略構成図

選択図 図6D出願人が指定した本件の代表的な図

100 液体処理装置   10 装置本体   12 処理槽   15 導入部   17 排出部   21 第1内壁   22 第2内壁   23 第3内壁   24 電極支持筒   30 第1電極   31 第2電極   32 板形状の第1電極   32A 山形状の凸部を有する板形状の第1電極   32B 山形状の凸部   33 棒状の第2電極   34 筒状の第2電極   50 液体供給部   53 絶縁体   60 電源   80 水タンク   81 一点鎖線(循環用配管)   83 収容空間   90 貯留タンク   92 貯留タンク水   92a 水面   93 板部材   95 水位センサー   97 温度センサー   98 制御部   101,103 貯留式給湯装置   121,122 処理槽   151 開口端   241 内側端面   301 右端部   311 開口部   801 第1電極   802 第2電極   803 液体   804 パルス電源   805 プラズマ   901 アノード電極   902 カソード電極   903 被処理液   904 気体   B 後方向   BA 気泡   D 下方向   F 前方向   F1 旋回流   G 気相   L 後方向から見て左方向   L1 循環水   L2 処理液   P プラズマ   R 後方向から見て右方向   U 上方向   X1 略円柱状の収容空間の仮想の中心軸

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