特開2018-202508IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

カンチレバーやブリッジのように基板上に間隙をもって対向配置される梁チップ膜の如きを含む立体構造基板の製造方法に関し、特に、接合転写プロセスによる立体構造基板の製造方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】 梁チップ膜を転写基板上に確実に保持させつつ、一方で、転写工程時の梁チップ膜の破損を抑制するよう、梁チップ膜からの転写基板の脱離(剥離)抵抗を小さく出来る立体構造基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 スペーサチップ膜を間に挟んで主基板と対向する梁チップ膜を含む立体構造基板の製造方法である。転写基板の剥離面上に梁チップ膜を与えるとともに、主基板上に与えられたスペーサ膜を梁チップ膜の上に当接させて接合し、転写基板を剥離面から脱離させて転写する工程において、剥離面は自己組織化単分子膜の剥離膜からなり、更に、剥離膜の下部に光触媒層を与えておき、光触媒層に紫外線を与えて剥離膜を分解することで転写基板を脱離させることを特徴とする。
【選択図】 図2

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

したように、接合転写プロセスではカンチレバーやブリッジのような梁部を構成する梁チップ膜を転写基板上に形成し、主基板上の所定位置に転写させることになる。かかる転写工程では、梁チップ膜を主基板上の所定位置に接合するとともに、転写基板を脱離させるのである。しかしながら、MEMS基板に与えられるような微細且つ薄い梁チップ膜においては、その強度が弱くなるため、これを破損させることなく転写基板を脱離させることが非常に困難となる。 本発明は、以上のような状況に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、カンチレバーやブリッジのように基板上に間隙をもって対向配置される梁チップ膜の如きを含む立体構造基板の転写接合プロセスによる製造において、該梁チップ膜を転写基板上に確実に保持させつつ、一方で、転写工程時の該梁チップ膜の破損を抑制するよう、該梁チップ膜からの転写基板の脱離(剥離)抵抗を小さく出来る立体構造基板の製造方法を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明による立体構造基板の製造方法は、スペーサ膜を間に挟んで主基板と対向する梁チップ膜を含む立体構造基板の製造方法であって、転写基板の剥離面上に前記梁チップ膜を与えるとともに、前記主基板上に与えられた前記スペーサ膜を前記梁チップ膜の上に当接させて接合し、前記転写基板を前記剥離面から脱離させて転写する工程において、前記剥離面は自己組織化単分子膜の剥離膜からなり、更に、前記剥離膜の下部に光触媒層・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明による立体構造基板の製造方法によって得られる立体構造基板の一例を示す断面図である。

【図2】本発明による立体構造基板の製造方法の一例を示す断面図である。

【図3】シランカップリング剤の構造式である。

【図4】立体構造基板の製造に用いた主基板及びスペーサ膜の平面図である。

【図5】立体構造基板の製造に用いた転写基板及び梁チップ膜の平面図である。

【図6】立体構造基板の製造工程を示す断面図である。

【図7】紫外線照射の時間と梁チップ膜の転写基板に対する付着力との関係を示すグラフである。

【図8】実施例及び比較例による梁チップ膜の転写成功率の一覧である。

【図9】本発明による製造方法により得られる他の構造の基板の断面図である。

選択図 図2出願人が指定した本件の代表的な図

1 主基板   2 スペーサ膜   3 梁チップ膜   4 転写基板   4a 剥離面   10 立体構造基板   41 基体   42 光触媒層   43 剥離膜      

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