特開 2019-111311 バイポーラ電極プローブ

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2019-111311(P2019-111311A)

(43)【公開日】2019年7月11日

(54)【発明の名称】バイポーラ電極プローブ

(51)【国際特許分類】

   A61B 18/14 20060101AFI20190621BHJP

【ＦＩ】

   A61B18/14

【審査請求】有

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

【外国語出願】

【全頁数】15

(21)【出願番号】特願2018-79159(P2018-79159)

(22)【出願日】2018年4月17日

(11)【特許番号】特許第6535121号(P6535121)

(45)【特許公報発行日】2019年6月26日

(31)【優先権主張番号】106145210

(32)【優先日】2017年12月22日

(33)【優先権主張国】TW

(71)【出願人】

【識別番号】390023582

【氏名又は名称】財團法人工業技術研究院

【氏名又は名称原語表記】ＩＮＤＵＳＴＲＩＡＬ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＩＮＳＴＩＴＵＴＥ

(74)【代理人】

【識別番号】100147485

【弁理士】

【氏名又は名称】杉村 憲司

(74)【代理人】

【識別番号】230118913

【弁護士】

【氏名又は名称】杉村 光嗣

(74)【代理人】

【識別番号】100211395

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 裕貴

(72)【発明者】

【氏名】蔡 孟翰

(72)【発明者】

【氏名】呂 慧▲音▼

(72)【発明者】

【氏名】林 偉哲

(72)【発明者】

【氏名】林 銘麒

(72)【発明者】

【氏名】盧 紀瑩

【テーマコード（参考）】

4C160

【Ｆターム（参考）】

4C160KK03

4C160KK13

4C160KK23

4C160KK38

4C160MM32

(57)【要約】      （修正有）

【課題】電性ニードル、絶縁層、導電性スリーブ、及び絶縁スリーブを備えているバイポーラ電極プローブを提供する。
【解決手段】導電性ニードル１１０は、縦方向及びこの縦方向に直交する横方向を有する。絶縁層１２０は、導電性ニードルをカバーし、また第１開口を有する。導電性スリーブ１３０は、絶縁層をカバーし、また第２開口を有する。絶縁スリーブ１４０は導電性スリーブをカバーする。バイポーラ電極プローブを作動状態にするとき、縦方向に沿って導電性ニードルの前端部から導電性スリーブに至る縦方向電場が形成される。第１開口及び第２開口を経由して横方向に沿って導電性ニードルから導電性スリーブに至る横方向電場が形成される。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

バイポーラ電極プローブであって、
縦方向及び前記縦方向に直交する横方向を有する導電性ニードルと、
前記導電性ニードルをカバーし、少なくとも１個の第１開口を有する絶縁層と、
前記絶縁層をカバーし、少なくとも１個の第２開口を有する導電性スリーブと、
前記導電性スリーブをカバーする絶縁スリーブと
を備え、
前記バイポーラ電極プローブを作動状態にするとき、前記縦方向に沿って前記導電性ニードルの前端部から前記導電性スリーブに至る縦方向電場が形成され、
前記少なくとも１個の第１開口及び前記少なくとも１個の第２開口を経由して前記横方向に沿って前記導電性ニードルから前記導電性スリーブに至る横方向電場が形成される、バイポーラ電極プローブ。

【請求項2】

請求項１に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記少なくとも１個の第１開口の面積は、前記少なくとも１個の第２開口の面積よりも小さい、バイポーラ電極プローブ。

【請求項3】

請求項１又は２に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記横方向電場の領域に、前記縦方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口の前端部と前記少なくとも１個の第１開口の前端部との間に縦方向絶縁距離が存在し、
前記横方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口における一方の端部と前記少なくとも１個の第１開口における同一側の端部との間に横方向絶縁距離が存在する、バイポーラ電極プローブ。

【請求項4】

請求項１から３のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記横方向電場の領域における、前記少なくとも１個の第１開口によって露出する前記導電性ニードルの面積と前記少なくとも１個の第２開口の外側領域における前記導電性スリーブの面積との比が１：０．９〜１：１．１である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項5】

請求項１から４のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記縦方向電場が存在する導電領域の面積と前記横方向電場が存在する導電領域の面積との比が１：２．１〜１：２．６である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項6】

請求項１から５のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記横方向電場の領域に、前記縦方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口の前端部と前記少なくとも１個の第１開口の前端部との間に縦方向絶縁距離が存在し、
前記横方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口における一方の端部と前記少なくとも１個の第１開口における同一側の端部との間に横方向絶縁距離が存在し、
前記横方向電場の領域で、前記縦方向絶縁距離及び前記横方向絶縁距離が絶縁面積を画定し、前記少なくとも１個の第１開口によって露出する前記導電性ニードルの面積及び前記少なくとも１個の第２開口の外側における前記導電性スリーブの面積が導電面積を画定し、
前記絶縁面積と前記導電面積との比が１：８〜１：４４である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項7】

請求項１から６のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記絶縁スリーブは、前記縦方向に沿って前後に移動可能である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項8】

請求項１から７のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記少なくとも１個の第１開口の数は、前記少なくとも１個の第２開口の数に等しい、バイポーラ電極プローブ。

【請求項9】

請求項１から８のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、さらに、
前記絶縁層及び前記導電性スリーブの後端部に配置された輸液部材を備え、
前記輸液部材は、液状物質が前記絶縁層と前記導電性スリーブとの間のギャップを通過して、前記少なくとも１個の第１開口と前記少なくとも１個の第２開口とから流出できるよう構成されている、バイポーラ電極プローブ。

【請求項10】

請求項９に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記輸液部材は、さらに、前記輸液部材と前記絶縁層との間の接合部、及び前記輸液部材と前記導電性スリーブとの間の接合部に配置された複数個のシール部材を有する、バイポーラ電極プローブ。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、電極プローブに関し、またより具体的にはバイポーラ電極プローブに関する。

【背景技術】

【0002】

臨床用途に使用されるＲＦＡ（高周波アブレーション：Radiofrequency Ablation）電極プローブに関して、現行のユニポーラ電極プローブは最も一般的に使用されているタイプである。しかし、このようなユニポーラ電極プローブはアブレーション範囲が大きく、またしたがって、皮膚下側の病変部を処置するのに使用するとき、正常な表層皮膚を容易に燃焼させるおそれがある。ユニポーラ電極プローブシステムは、心臓疾患がある又はペースメーカーを付けている患者、妊婦、胎児を危険に曝すおそれもある。

【0003】

ユニポーラ電極プローブの上述した問題を解決する試みとして、バイポーラ電極プローブが臨床用途向けに提案されている。しかし、既存のバイポーラ電極プローブは依然として以下の問題に直面している。第１に、バイポーラ電極プローブは、アクティブ電極、絶縁層、及びパッシブ電極を結合することによって形成するが、接合部において機械的強度が脆弱であり、またプローブは手術中に壊れ易い、又は内側の冷却水が接合部から漏洩するおそれがある。第２に、バイポーラ電極プローブに関して、アブレーション領域の長さを調整することができない。概して、バイポーラ電極プローブの導電領域の長さは約０．９ｍｍとなるよう設計されており、またしたがって、バイポーラ電極プローブは、０．９ｍｍ又はそれより短い標的組織を焼灼するのには使用できない。第３に、バイポーラ電極プローブに関して、電気的に絶縁した導電ワイヤ及び内側のはんだ接合部を配置する必要がある。これを理由として、バイポーラ電極プローブは構造が複雑であり、また製造すること、及びコンパクトに形成することが困難である。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

上述の観点から、簡単な構造及び調整可能なアブレーション範囲を有するバイポーラ電極プローブをどのように設計するかは、この分野で対処すべき問題である。

【課題を解決するための手段】

【0005】

本発明は、導電性ニードル、絶縁層、導電性スリーブ、及び絶縁スリーブを備えているバイポーラ電極プローブを提供する。導電性ニードルは、縦方向及びこの縦方向に直交する横方向を有する。絶縁層は、導電性ニードルをカバーし、また第１開口を有する。導電性スリーブは、絶縁層をカバーし、また第２開口を有する。絶縁スリーブは導電性スリーブをカバーする。バイポーラ電極プローブを作動状態にするとき、縦方向に沿って導電性ニードルの前端部から導電性スリーブに至る縦方向電場が形成される。また第１開口及び第２開口を経由して横方向に沿って導電性ニードルから導電性スリーブに至る横方向電場が形成される。

【発明の効果】

【0006】

本発明のバイポーラ電極プローブは、少なくとも以下の技術的効果を達成する。第１に、正常な器官に不必要な電流が流れるのを回避し、また従来型の付加的電極プレートを使用することなく、アクティブ電極及びパッシブ電極を同一ニードルに形成し、このことは、正常な器官に不必要な電流が流れるのを阻止し、また患者の安全性を向上させる。第２に、アブレーション領域が均一に形成され、このことは、ホットスポットを生ずるのを回避し、また上皮の表層組織をアブレーションするとき、患者の上皮が燃焼するのを防止する。第３に、バイポーラ電極プローブはスリーブ式構造の設計を有し、この設計は、全体の組立てを簡素化し、また機械的強度を弱めるのを回避する。さらに、絶縁層を移動可能に構成するとき、絶縁スリーブは縦方向に沿って前後に移動することができ、このことは、異なるサイズの標的組織（例えば、がん細胞）を１回の手術でアブレーションするよう横方向電場の範囲（アブレーション領域）を調整するのを容易にする。本発明の構造設計に起因して、横方向電場が均一強度を有し、また導電率の異なる長さを得るよう絶縁スリーブを縦方向に沿って移動するとき、標的組織が横方向電場周りに均一に加熱される。さらに、輸液部材を使用するとき、バイポーラ電極プローブは、処置中に患者の痛みを軽減する液状物質（例えば、麻酔剤）を注入するチャンネルを有する。

【0007】

上述したことをよりよく理解できるようにするため、幾つかの実施形態を添付図面につき以下に詳細に説明する。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブの分解状態を示す概略図である。

【図2】本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブの組付け状態を示す概略図である。

【図3】図３Ａは、本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブの概略図である。図３Ｂは、図３Ａの平面Ｉにおける概略的断面図である。

【図4】図４Ａは、本発明の他の実施形態による、縦方向に沿って前後に移動する絶縁スリーブの状態を示す概略図である。図４Ｂは、本発明の他の実施形態による、縦方向に沿って前後に移動する絶縁スリーブの状態を示す概略図である。

【図5】本発明の別の実施形態によるバイポーラ電極プローブの概略図である。

【図6】図６Ａは、図５の平面Ｏに沿う概略的断面図である。図６Ｂは、図５の平面Ｐに沿う概略的断面図である。図６Ｃは、図５の平面Ｑに沿う概略的断面図である。

【図7】図５のバイポーラ電極プローブの部分的拡大図である。

【図8】図５のバイポーラ電極プローブの部分的拡大図である。

【図9】本発明の他の実施形態によるバイポーラ電極プローブの概略図である。

【図10】標的組織をアブレーション（焼灼）するのに使用する、図１〜図４Ｂのバイポーラ電極プローブと従来型のユニポーラ電極プローブとの間における比較表である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

図１は、本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブの分解状態を示す概略図である。図２は、本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブの組付け状態を示す概略図である。図１及び図２につき説明すると、バイポーラ電極プローブ１００は、内側から外側に向けて見て、導電性ニードル１１０、絶縁層１２０、導電性スリーブ１３０、及び絶縁スリーブ１４０を備えている。バイポーラ電極プローブ１００の実施形態及び各コンポーネントの実施形態を以下に説明する。

【0010】

導電性ニードル１１０は、縦方向ｘ及びこの縦方向ｘに直交する横方向ｙを有する。絶縁層１２０は、導電性ニードル１１０をカバーし、また第１開口１２２を有する。導電性スリーブ１３０は、絶縁層１２０をカバーし、また第２開口１３２を有する。絶縁スリーブ１４０は導電性スリーブ１３０をカバーする。バイポーラ電極プローブ１００を作動状態にするとき、導電性ニードル１１０の前端部から縦方向ｘに導電性スリーブ１３０に至る縦方向電場Ｅ１が形成される。第１開口１２２及び第２開口１３２を経由して横方向ｙに導電性ニードル１１０から導電性スリーブ１３０に至る横方向電場Ｅ２が形成される。他の実施形態において、絶縁スリーブ１４０は縦方向ｘに沿って移動可能とし、これによりバイポーラ電極プローブ１００のアブレーション（焼灼）範囲を調整することができるようになる（以下に説明する）。

【0011】

横方向電場Ｅ２が生ずる領域においては、第１開口１２２及び第２開口１３２を経由して縦方向ｘに沿って導電性ニードル１１０から導電性スリーブ１３０に至る短い縦方向電場が生じ得るが、その影響は無視できるものであり、したがって、ここでは説明しないことを付記しておきたい。さらに、一実施形態において、例えば、導電性ニードル１１０はアクティブ（能動）電極として作用するとともに、導電性スリーブ１３０はパッシブ（受動）電極として作用するが、これに限定するものではない。他の実施形態において、導電性ニードル１１０はパッシブ（受動）電極として作用するとともに、導電性スリーブ１３０はアクティブ（能動）電極として作用することができる。

【0012】

図２につき説明すると、バイポーラ電極プローブ１００は前方アブレーション領域及び後方アブレーション領域を有する。とくに、前方の縦方向電場Ｅ１は標的組織の前方区域をアブレーションするためのものであり、後方の横方向電場Ｅ２は標的組織の後方区域をアブレーションするためのものである。バイポーラ電極プローブ１００の構造の実施形態を以下に説明する。

【0013】

図３Ａは本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブの概略図である。図３Ａは、縦方向ｘ、横方向ｙ、及び縦方向ｘ及び横方向ｙに対して直交する方向ｚを示す。図３Ｂは図３Ａの平面Ｉにおける概略的断面図である。図１及び図３Ａにつき説明すると、第１開口１２２の面積は第２開口１３２の面積より小さく、これにより絶縁層１２０は第２開口１３２によって露出し、また絶縁層１２０の露出した領域は縦方向絶縁距離ｄｘ及び横方向絶縁距離ｄｙを有する。

【0014】

図２、図３Ａ及び３Ｂにつき説明すると、実施形態において、横方向電場Ｅ２の領域で縦方向絶縁距離ｄｘは、縦方向ｘに沿って第２開口１３２の前端部から第１開口１２２の前端部までである。横方向絶縁距離ｄｙは、横方向ｙに沿って第２開口１３２の一方の端部から第１開口１２２の一方の端部までである。縦方向絶縁距離ｄｘは、導電性ニードル１１０と導電性スリーブ１３０との間の縦方向絶縁距離を確保して、短い絶縁距離に起因して組織への大電流流入を確実に阻止する。導電性ニードル１１０と導電性スリーブ１３０との間の絶縁距離が過剰に短い場合、大電流が組織に流入して温度を急激に上昇させ、この結果、短時間でコークス化を生ぜしめ、またアブレーション範囲はプローブ表面の約０．５ｍｍのみとなる。このような小さいアブレーション範囲は臨床用途には不向きである。

【0015】

さらに、図３Ｂに示すように、横方向絶縁距離ｄｙは、導電性ニードル１１０と導電性スリーブ１３０との間の横方向絶縁距離を確保して、横方向電場Ｅ２を発生するのに十分な電流経路を維持し、また短い電流経路に起因してアブレーション領域の減少を確実に阻止する。

【0016】

図３Ａ及び３Ｂにつき説明すると、実施形態では、横方向電場Ｅ２の領域における第１開口１２２により露出する導電性ニードル１１０の面積の、第２開口１３２の外側領域における導電性スリーブ１３０の面積に対する比は、１：０．９〜１：１．１である。

【0017】

図３Ａ及び３Ｂにつき説明すると、横方向電場Ｅ２の領域において、導電性ニードル１１０の面積はＬ１×Ｗ１であり、ここでＬ１は縦方向ｘに沿う導電性ニードル１１０の長さであり、またＷ１は導電性ニードル１１０の周方向長さであり、さらに、導電性スリーブ１３０の面積はＬ２×Ｗ２であり、ここでＬ２は縦方向ｘに沿う導電性スリーブ１３０の長さであり、またＷ２は導電性スリーブ１３０の周方向長さである。実施形態において、横方向電場Ｅ２を均一にするよう導電性ニードル１１０の面積は導電性スリーブ１３０の面積に等しくすることができる。他の実施形態において、導電性ニードル１１０の面積と導電性スリーブ１３０の面積との比を１：０．９〜１：１．１に設定するとき、横方向電場Ｅ２を均一に発生することができる。

【0018】

さらに、図３Ａ及び３Ｂにつき説明すると、実施形態において、縦方向電場Ｅ１が存在する導電領域の面積と横方向電場Ｅ２が存在する導電領域との面積を１：２．１〜１：２．６とする。これにより、バイポーラ電極プローブ１００の前方アブレーション領域（縦方向電場Ｅ１）及び後方アブレーション領域（横方向電場Ｅ２）を適正な比に設定することができる。

【0019】

さらに、図３Ａ及び３Ｂにつき説明すると、横方向電場Ｅ２の領域において、縦方向絶縁距離ｄｘ及び横方向絶縁距離ｄｙは絶縁面積を画定し、また第１開口１２２によって露出する導電性ニードル１１０の面積及び第２開口１３２の外側における導電性スリーブ１３０の面積は導電面積を画定し、絶縁面積と導電面積との比は１：８〜１：４４である。

【0020】

図３Ａ及び３Ｂに示すように、横方向電場Ｅ２の領域において、絶縁面積は、縦方向絶縁距離ｄｘ及び横方向絶縁距離ｄｙの領域に存在する絶縁層１２０の面積である。横方向電場Ｅ２の領域において、導電面積は、導電性ニードル１１０の面積Ｌ１×Ｗ１と、導電性スリーブ１３０の面積Ｌ２×Ｗ２との合計である。計算によれば、絶縁面積と導電面積との比は１：８〜１：４４であることが得られる。この設定により、均一アブレーションを実施するよう横方向電場Ｅ２は均一に発生する。

【0021】

図４Ａ及び４Ｂは、本発明の他の実施形態による、縦方向に沿って前後に移動する絶縁スリーブの状態を示す概略図である。図４Ａ及び４Ｂにつき説明すると、一定位置に配置される導電性ニードル１１０、絶縁層１２０及び導電性スリーブ１３０に対して、絶縁スリーブ１４０は、縦方向ｘに沿って前後に移動可能に構成する。図４Ａ及び４Ｂに示すように、絶縁スリーブ１４０がバイポーラ電極プローブ１００の前端部に向かって移動するとき、より大きい横方向電場Ｅ２がより小さい横方向電場Ｅ２′に変化する。

【0022】

換言すれば、横方向電場Ｅ２の範囲（アブレーション領域）は、絶縁スリーブ１４０を縦方向ｘに沿って前後に移動することにより調整することができる。上皮の表層組織をアブレーションするとき、絶縁スリーブ１４０は、横方向電場Ｅ２を完全に閉鎖するよう、またアブレーションのために縦方向電場Ｅ１のみを使用して患者の上皮が燃焼するのを防止するように、移動することができる。さらに、絶縁スリーブ１４０をバイポーラ電極プローブ１００の前端部に向かって移動するとき、横方向電場Ｅ２の範囲が減少してより小さいアブレーション領域が得られ、他方、絶縁スリーブ１４０をバイポーラ電極プローブ１００の後端部に向かって移動するとき、横方向電場Ｅ２の範囲が増大してより大きいアブレーション領域が得られる

【0023】

本発明において、絶縁スリーブ１４０が縦方向ｘに前後に移動する場合であっても、横方向ｙにおける横方向電場Ｅ２の強度は均一のままである。したがって、アブレーション領域は横方向ｙに均一に維持される。

【0024】

図１〜図４Ｂの実施形態において、第１開口１２２の数は第２開口１３２の数に等しい。第１開口１２２の数は１つ又はそれ以上、また第２開口１３２の数は１つ又はそれ以上とすることができる。これにより電極対が形成される（図３Ｂに示すように）。しかし、他の実施形態において、第１開口１２２の数及び第２開口１３２の数は、それぞれ２個、３個、４個、５個、６個等々とすることができる。

【0025】

図５は、本発明の別の実施形態によるバイポーラ電極プローブの概略図である。図６Ａは図５の平面Ｏに沿う概略的断面図である。図６Ｂは図５の平面Ｐに沿う概略的断面図である。図６Ｃは図５の平面Ｑに沿う概略的断面図である。バイポーラ電極プローブ１０２において、図１〜図４Ｂに示したのと同一の参照符号によって同一コンポーネントを表し、したがって、それらの詳細な説明は以下に繰り返さない。図５及び図６Ｂにつき説明すると、この実施形態において、第１開口１２２の数は４個であり、また第２開口１３２の数は４個であり、これにより４つの電極対（図６Ｂに示すように）を形成する。

【0026】

図７は図５のバイポーラ電極プローブの部分的拡大図である。図７につき説明すると、バイポーラ電極プローブ１０２においても、絶縁層１２０によって露出される領域は、同じように縦方向絶縁距離ｄｘ及び横方向絶縁距離ｄｙを有する。縦方向絶縁距離ｄｘは、導電性ニードル１１０と導電性スリーブ１３０との間の縦方向絶縁距離を確保して、短い絶縁距離に起因して組織への大電流流入を確実に阻止する。さらに、横方向絶縁距離ｄｙは、導電性ニードル１１０と導電性スリーブ１３０との間の横方向絶縁距離を確保して、横方向電場Ｅ２を発生するのに十分な電流経路を維持し、また短い電流経路に起因してアブレーション領域の減少を確実に阻止する。

【0027】

図８は図５のバイポーラ電極プローブの部分的拡大図である。図３Ｂの説明と同様に、図８に示すように横方向電場Ｅ２の領域において、横方向電場Ｅ２を均一に発生するよう、導電性ニードル１１０の面積は導電性スリーブ１３０の面積に等しくすることができる。他の実施形態において、導電性ニードル１１０の面積と導電性スリーブ１３０の面積との比を１：０．９〜１：１．１に設定するとき、横方向電場Ｅ２は均一に発生し得る。

【0028】

図９は、本発明の他の実施形態によるバイポーラ電極プローブの概略図である。図１〜図８の実施形態におけるのと同一のコンポーネントは同一の参照符号によって表し、したがって、それらの詳細な説明は以下に繰り返さない。図９につき説明すると、この実施形態のバイポーラ電極プローブ１０４は、さらに、絶縁層１２０及び導電性スリーブ１３０の後端部に配置した輸液部材１５０を備える。この輸液部材１５０は、液状物質Ｌが絶縁層１２０と導電性スリーブ１３０との間におけるギャップを通過して、第１開口１２２及び第２開口１３２から排出されるよう配置する。

【0029】

図９につき説明すると、液状物質Ｌは、絶縁層１２０と導電性スリーブ１３０との間のギャップに矢印で示す方向に進入し、前端部における第１開口１２２及び第２開口１３２から流出して標的組織内に注入される。一実施形態においては、液状物質Ｌは、アブレーション領域における痛みを軽減する麻酔薬、又はアブレーション部の体積を増大させるための生理食塩水とすることができる。バイポーラ電極プローブ１０４を空気関連器官（例えば、肺）のアブレーションに使用するとき、生理食塩水の注入は、アブレーションを容易にし、またガスが電流及び熱を効果的に伝達できないことから生ずる劣悪アブレーション効果の問題を解決する。

【0030】

輸液部材１５０は、さらに、輸液部材１５０をバイポーラ電極プローブ１０４に適切に組み付けるよう、また輸液部材１５０と絶縁層１２０との間における接合部、及び輸液部材１５０と導電性スリーブ１３０との間における接合部に配置したシール部材１５２を有することができ、これにより輸液部材１５０をバイポーラ電極プローブ１０４に適切に組み付け、また液状物質Ｌを輸液部材１５０の入口内に適切に入力させ、次に絶縁層１２０と導電性スリーブ１３０との間におけるギャップを経由して第１開口１２２及び第２開口１３２から標的組織に出力することができる。

【0031】

図９に示すように、輸液部材１５０は、４個の第１開口１２２及び４個の第２開口１３２を有するバイポーラ電極プローブ１０４に組み付けるが、輸液部材１５０は、図３Ａに示すような、１個の第１開口１２２及び１個の第２開口１３２を有するバイポーラ電極プローブ１００に組み付けることもできる。

【0032】

図１０は、標的組織をアブレーション（焼灼）するのに使用する、図１〜図４Ｂのバイポーラ電極プローブと従来型のユニポーラ電極プローブとの間における比較表である。図１０につき説明すると、標的組織をアブレーションする標的長さが５ｍｍであるとき、ユニポーラ電極プローブは、縦方向における６ｍｍのアブレーション領域及び横方向における４ｍｍのアブレーション領域を形成することが知られており、その他方で、本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブ１００は、縦方向における６ｍｍのアブレーション領域及び横方向における３．５ｍｍのアブレーション領域を形成し、これは少なくともユニポーラ電極プローブと同様のアブレーション効果を達成するものである。

【0033】

再び図１０につき説明すると、標的組織をアブレーションする標的長さが７ｍｍであるとき、ユニポーラ電極プローブは、縦方向における９ｍｍのアブレーション領域及び横方向における４ｍｍのアブレーション領域を形成することが知られており、その他方で、本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブ１００は、縦方向における６ｍｍのアブレーション領域及び横方向における４ｍｍのアブレーション領域を形成し、これは少なくともユニポーラ電極プローブと同様のアブレーション効果を達成するものである。上述のことから、ユニポーラ電極プローブによって縦方向に形成されるアブレーション領域の長さは９ｍｍであることが知られており、このことは標的長さ７ｍｍを超えるものであり、また手術精度が低下する。しかし、本発明のバイポーラ電極プローブ１００によって形成される縦方向のアブレーション領域の長さは６ｍｍであり、このことは標的長さ７ｍｍに近似し、好ましい手術精度を達成している。

【0034】

再び図１０につき説明すると、標的組織をアブレーションする標的長さが１０ｍｍであるとき、ユニポーラ電極プローブは、縦方向における１１ｍｍのアブレーション領域及び横方向における４ｍｍのアブレーション領域を形成することが知られており、その他方で、本発明の実施形態によるバイポーラ電極プローブ１００は、縦方向における１１ｍｍのアブレーション領域及び横方向における４．５ｍｍのアブレーション領域を形成し、これは少なくともユニポーラ電極プローブと同様のアブレーション効果を達成するものである。

【0035】

要約すると、本発明バイポーラ電極プローブは少なくとも以下のことを達成する。第１に、正常な器官に不必要な電流が流れるのを回避し、また従来型の付加的電極プレートを使用することなく、アクティブ電極及びパッシブ電極を同一ニードルに形成し、このことは、正常な器官に不必要な電流が流れるのを阻止し、また患者の安全性を向上させる。第２に、アブレーション領域が均一に形成され、このことは、ホットスポットを生ずるのを回避し、また上皮の表層組織をアブレーションするとき、患者の上皮が燃焼するのを防止する。第３に、バイポーラ電極プローブはスリーブ式構造の設計を有し、この設計は、全体の組立てを簡素化し、また機械的強度を弱めるのを回避する。さらに、絶縁層を移動可能に構成するとき、絶縁スリーブは縦方向に沿って前後に移動することができ、このことは、異なるサイズの標的組織（例えば、がん細胞）を１回の手術でアブレーションするよう横方向電場の範囲（アブレーション領域）を調整するのを容易にする。本発明の構造設計に起因して、横方向電場が均一強度を有し、また導電率の異なる長さを得るよう絶縁スリーブを縦方向に沿って移動するとき、標的組織が横方向電場周りに均一に加熱される。さらに、輸液部材を使用するとき、バイポーラ電極プローブは、処置中に患者の痛みを軽減する液状物質（例えば、麻酔剤）を注入するチャンネルを有する。

【0036】

当業者には、本発明の範囲及び精神から逸脱することなく本明細書に記載の実施形態に対して様々な変更及び改変を加えることができることは明らかであろう。上述の点を考慮すると、本発明は特許請求の範囲及び均等物に納まる変更及び改変をカバーすることを意図する。

【産業上の利用可能性】

【0037】

バイポーラ電極プローブは臨床用途に使用することができる。

【符号の説明】

【0038】

100,102,104 バイポーラ電極プローブ
110 導電性ニードル
120 絶縁層
122 第１開口
130 導電性スリーブ
132 第２開口
140 絶縁スリーブ
150 輸液部材
152 シール部材
dx 縦方向絶縁距離
dy 横方向絶縁距離
E1 縦方向電場
E2 横方向電場
I,O,P,Q 平面
W1 導電性ニードルの周方向長さ
W2 導電性スリーブの周方向長さ
x 縦方向
y 横方向
z 縦方向及び横方向に直交する方向

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【手続補正書】

【提出日】2019年4月17日

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

バイポーラ電極プローブであって、
縦方向及び前記縦方向に直交する横方向を有する導電性ニードルと、
前記導電性ニードルをカバーし、先端に前記導電性ニードルを縦方向に突出させる開口と、側面に少なくとも１個の第１開口とを有する絶縁層と、
前記絶縁層をカバーし、先端に前記絶縁層を縦方向に突出させる開口と、側面に少なくとも１個の第２開口とを有する導電性スリーブと、
前記導電性スリーブをカバーする絶縁スリーブと
を備え、
前記バイポーラ電極プローブを作動状態にするとき、前記縦方向に沿って前記導電性ニードルの前端部から前記導電性スリーブに至る縦方向電場が形成され、
前記少なくとも１個の第１開口及び前記少なくとも１個の第２開口を経由して前記横方向に沿って前記導電性ニードルから前記導電性スリーブに至る横方向電場が形成される、バイポーラ電極プローブ。

【請求項2】

請求項１に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記少なくとも１個の第１開口の面積は、前記少なくとも１個の第２開口の面積よりも小さい、バイポーラ電極プローブ。

【請求項3】

請求項１又は２に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記横方向電場の領域に、前記縦方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口の前端部と前記少なくとも１個の第１開口の前端部との間に縦方向絶縁距離が存在し、
前記横方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口における一方の端部と前記少なくとも１個の第１開口における同一側の端部との間に横方向絶縁距離が存在する、バイポーラ電極プローブ。

【請求項4】

請求項１から３のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記横方向電場の領域における、前記少なくとも１個の第１開口によって露出する前記導電性ニードルの面積と前記少なくとも１個の第２開口の外側領域における前記導電性スリーブの面積との比が１：０．９〜１：１．１である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項5】

請求項１から４のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記縦方向電場が存在する導電領域の面積と前記横方向電場が存在する導電領域の面積との比が１：２．１〜１：２．６である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項6】

請求項１から５のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記横方向電場の領域に、前記縦方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口の前端部と前記少なくとも１個の第１開口の前端部との間に縦方向絶縁距離が存在し、
前記横方向に沿って、前記少なくとも１個の第２開口における一方の端部と前記少なくとも１個の第１開口における同一側の端部との間に横方向絶縁距離が存在し、
前記横方向電場の領域で、前記縦方向絶縁距離及び前記横方向絶縁距離が絶縁面積を画定し、前記少なくとも１個の第１開口によって露出する前記導電性ニードルの面積及び前記少なくとも１個の第２開口の外側における前記導電性スリーブの面積が導電面積を画定し、
前記絶縁面積と前記導電面積との比が１：８〜１：４４である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項7】

請求項１から６のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記絶縁スリーブは、前記縦方向に沿って前後に移動可能である、バイポーラ電極プローブ。

【請求項8】

請求項１から７のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記少なくとも１個の第１開口の数は、前記少なくとも１個の第２開口の数に等しい、バイポーラ電極プローブ。

【請求項9】

請求項１から８のいずれか一項に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、さらに、
前記絶縁層及び前記導電性スリーブの後端部に配置された輸液部材を備え、
前記輸液部材は、液状物質が前記絶縁層と前記導電性スリーブとの間のギャップを通過して、前記少なくとも１個の第１開口と前記少なくとも１個の第２開口とから流出できるよう構成されている、バイポーラ電極プローブ。

【請求項10】

請求項９に記載のバイポーラ電極プローブにおいて、
前記輸液部材は、さらに、前記輸液部材と前記絶縁層との間の接合部、及び前記輸液部材と前記導電性スリーブとの間の接合部に配置された複数個のシール部材を有する、バイポーラ電極プローブ。

【外国語明細書】

2019111311000001.pdf