特開2019-11245(P2019-11245A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2019-11245ビスマスでドープされた半絶縁III族窒化物ウエハおよびその生産方法
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  • 特開2019011245-ビスマスでドープされた半絶縁III族窒化物ウエハおよびその生産方法 図000003
  • 特開2019011245-ビスマスでドープされた半絶縁III族窒化物ウエハおよびその生産方法 図000004
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