特開 2019-124240 弁装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2019-124240(P2019-124240A)

(43)【公開日】2019年7月25日

(54)【発明の名称】弁装置

(51)【国際特許分類】

   F16K 27/02 20060101AFI20190704BHJP

   F16K 31/06 20060101ALI20190704BHJP

【ＦＩ】

   F16K27/02

   F16K31/06 305K

【審査請求】未請求

【請求項の数】13

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】14

(21)【出願番号】特願2018-3340(P2018-3340)

(22)【出願日】2018年1月12日

(71)【出願人】

【識別番号】000143949

【氏名又は名称】株式会社鷺宮製作所

(74)【代理人】

【識別番号】110001243

【氏名又は名称】特許業務法人 谷・阿部特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】塚本 孝太

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 龍介

(72)【発明者】

【氏名】濱田 正吾

(72)【発明者】

【氏名】渡邉 秀剛

【テーマコード（参考）】

3H051

3H106

【Ｆターム（参考）】

3H051AA01

3H051BB01

3H051BB02

3H051CC11

3H051DD02

3H106DB02

3H106DB12

3H106DB22

3H106DB32

3H106DC04

3H106DC17

3H106DD07

3H106EE35

(57)【要約】

【課題】本発明の目的は、弁本体の弁室内部の弁体との接触部に別部材である弁体受けを設け、このときに弁体受けを正確な位置に安定して固定でき、これによりプランジャのリフト量が安定するために、作動特性と流量特性が安定し、さらに、弁体受けをろう付けにより固定し、このときにろう回りが安定し、弁本体と弁体受けとの気密性能が改善される弁装置を提供することである。
【解決手段】電磁弁１００は、弁本体１１１と、弁室１１１ｃの内部に配置され、弁本体１１１とは別部品であり、出口ポート１１１ｂに連通する弁ポート１１４ａ、及び、弁体１１２との接触部である弁座１１４ｃが形成される弁体受け１１４とを備える。弁体受け１１４は、弁本体１１１にろう付けにより固定され、第２の継手１０２に当接するように配置され、弁本体１１１の隅またはかどに相対する弁体受け１１４のかどまたは隅が当接しないように形成される。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

弁本体であって、
第１の継手に接続される入口ポート、
第２の継手に接続される出口ポート、及び、
前記入口ポート及び前記出口ポートに連通し、弁体を収容し、側壁を有する弁室
が形成される弁本体と、
前記弁室の内部に配置され、前記弁本体とは別部品であり、前記出口ポートに連通する弁ポート、及び、前記弁体との接触部である弁座が形成される弁体受けとを備え、
前記弁体受けは、前記弁本体にろう付けにより固定され、前記第２の継手に当接するように配置され、前記弁本体の隅またはかどに相対する前記弁体受けのかどまたは隅が当接しないように形成されることを特徴とする弁装置。

【請求項2】

前記弁体受けには、前記弁本体に固定するための圧入部が設けられることを特徴とする請求項１に記載の弁装置。

【請求項3】

前記弁体受けには、前記圧入部の挿入方向の前方に前記圧入部より小径の圧入ガイド部が設けられることを特徴とする請求項２に記載の弁装置。

【請求項4】

前記弁体受けには、前記圧入部の挿入方向の前後に連通する隙間部が設けられることを特徴とする請求項２に記載の弁装置。

【請求項5】

前記隙間部は、スパイラル溝であることを特徴とする請求項４に記載の弁装置。

【請求項6】

前記弁体受けには、同軸の小径部と大径部が形成されることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載の弁装置。

【請求項7】

前記弁体受けの前記小径部が圧入ガイド部となり、前記大径部が圧入部となることを特徴とする請求項６に記載の弁装置。

【請求項8】

前記弁体受けの前記小径部内に、圧入ガイド部及び圧入部が形成されることを特徴とする請求項６に記載の弁装置。

【請求項9】

前記弁本体の底面、又は、前記弁本体の底面に正対する前記弁体受けの接触面に、前記弁本体の底面の出口ポート側から外径側にかけて連通溝が形成されることを特徴とする請求項１に記載の弁装置。

【請求項10】

前記弁本体における、前記第２の継手が固定される開口の直径と、前記弁体受けの小径部が固定される開口の直径が同径であることを特徴とする請求項６に記載の弁装置。

【請求項11】

前記弁本体の出口ポートの内径には大径部と小径部が形成され、その境界が段差となっており、前記大径部に前記第２の継手が固定され、前記大径部で前記弁体受けと前記第２の継手が当接することを特徴とする請求項１に記載の弁装置。

【請求項12】

前記弁体受けの前記弁ポートには、テーパ部分が形成され、
前記テーパ部分は、前記第２の継手と前記弁体受けが当接する部分の径が、前記第２の継手の内径と同径となり、対向する方向に向けて縮径されて、前記弁ポートの直線部分に連通する形状に形成されることを特徴とする請求項１に記載の弁装置。

【請求項13】

前記弁装置は電磁弁であることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の弁装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、流路を開閉するために使用される電磁弁などの弁装置に関する。

【背景技術】

【0002】

流路を開閉する弁装置が、実用に供されている。このような弁装置として、例えば電磁弁が従来から知られている。電磁弁は、例えば弁体と共に移動するプランジャと、このプランジャを磁力で駆動する電磁石とから主に構成されている。このような電磁弁では、弁体との衝撃的な接触の繰り返しによる磨耗を防止するため、または、弁体との接触による衝突音を低減するため、あるいは、弁体との接触部の加工精度を高めるため等により、弁本体の弁室内部の弁体との接触部に別部材を設ける場合がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００３−３０１９６２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

弁室内部の弁体との接触部に別部材を設ける技術の一例として、特許文献１では、弁室内部に別部材である弁体受けを設けることにより、弁体受けと弁体ホルダが当接し、当接時の衝撃が少なくなる技術が開示されている。特許文献１では、弁座を変形させることなく反復使用に耐えることができ、弁の長期間の使用に際しても確実な閉弁作用を維持することができるとされている。

【0005】

しかしながら、特許文献１において、弁体受けを固定する方法が難しいという問題がある。例えば弁体受け及び継手と、弁本体との間にろう材を浸透させる必要があるため、クリアランスが必要となり、径方向や軸方向に固定位置がずれる可能性があるという問題があった。

【0006】

従って、本発明の目的は、弁本体の弁室内部の弁体との接触部に別部材である弁体受けを設け、このときに弁体受けを正確な位置に安定して固定でき、これによりプランジャのリフト量が安定するために、作動特性と流量特性が安定し、さらに、弁体受けをろう付けにより固定し、このときにろう回りが安定し、弁本体と弁体受けとの気密性能が改善される弁装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するために、本発明の弁装置は、弁本体であって、第１の継手に接続される入口ポート、第２の継手に接続される出口ポート、及び、前記入口ポート及び前記出口ポートに連通し、弁体を収容し、側壁を有する弁室が形成される弁本体と、前記弁室の内部に配置され、前記弁本体とは別部品であり、前記出口ポートに連通する弁ポート、及び、前記弁体との接触部である弁座が形成される弁体受けとを備え、前記弁体受けは、前記弁本体にろう付けにより固定され、前記第２の継手に当接するように配置され、前記弁本体の隅またはかどに相対する前記弁体受けのかどまたは隅が当接しないように形成されることを特徴とする。

【0008】

また、前記弁体受けには、前記弁本体に固定するための圧入部が設けられるものとしてもよい。

【0009】

また、前記弁体受けには、前記圧入部の挿入方向の前方に前記圧入部より小径の圧入ガイド部が設けられるものとしてもよい。

【0010】

また、前記弁体受けには、前記圧入部の挿入方向の前後に連通する隙間部が設けられるものとしてもよい。

【0011】

また、前記隙間部は、スパイラル溝であるものとしてもよい。

【0012】

また、前記弁体受けには、同軸の小径部と大径部が形成されるものとしてもよい。

【0013】

また、前記弁体受けの前記小径部が圧入ガイド部となり、前記大径部が圧入部となるものとしてもよい。

【0014】

また、前記弁体受けの前記小径部内に、圧入ガイド部及び圧入部が形成されるものとしてもよい。

【0015】

また、前記弁本体の底面、又は、前記弁本体の底面に正対する前記弁体受けの接触面に、前記弁本体の底面の出口ポート側から外径側にかけて連通溝が形成されるものとしてもよい。

【0016】

また、前記弁本体における、前記第２の継手が固定される開口の直径と、前記弁体受けの小径部が固定される開口の直径が同径であるものとしてもよい。

【0017】

また、前記弁本体の出口ポートの内径には大径部と小径部が形成され、その境界が段差となっており、前記大径部に前記第２の継手が固定され、前記大径部で前記弁体受けと前記第２の継手が当接するものとしてもよい。

【0018】

また、前記弁体受けの前記弁ポートには、テーパ部分が形成され、前記テーパ部分は、前記第２の継手と前記弁体受けが当接する部分の径が、前記第２の継手の内径と同径となり、対向する方向に向けて縮径されて、前記弁ポートの直線部分に連通する形状に形成されるものとしてもよい。

【0019】

また、前記弁装置は電磁弁であるものとしてもよい。

【発明の効果】

【0020】

本発明によれば、弁本体の弁室内部の弁体との接触部に別部材である弁体受けを設け、このときに弁体受けを正確な位置に安定して固定でき、これによりプランジャのリフト量が安定するために、作動特性と流量特性が安定し、さらに、弁体受けをろう付けにより固定し、このときにろう回りが安定し、弁本体と弁体受けとの気密性能が改善される弁装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】本発明に係る弁装置の第１の実施形態である電磁弁を示す断面図である。

【図2】図１に示す電磁弁の弁本体部の要部を拡大して示す断面図である。

【図3】図１に示す電磁弁の弁本体の要部を示す断面図である。

【図4】本発明に係る弁装置の第２の実施形態である電磁弁の要部を示す断面図である。

【図5】本発明に係る弁装置の第３の実施形態である電磁弁の要部を示す断面図である。

【図6】図６（ａ）は、本発明に係る弁装置の第４の実施形態である電磁弁の弁体受けを示す正面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示すＶＩＢ−ＶＩＢ線に沿った断面図であり、図６（ｃ）は、図６（ａ）に示すＶＩＣ−ＶＩＣ線に沿った断面図である。

【図7】図７（ａ）は、図６（ａ）乃至図６（ｃ）に示す弁体受けとは別の変形例を示す正面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す弁体受けの側面図であり、図７（ｃ）は、図７（ｂ）に示すＶＩＩＣ−ＶＩＩＣ線に沿った断面図であり、図７（ｄ）は、図７（ａ）に示すＶＩＩＤ−ＶＩＩＤ線に沿った断面図であり、図７（ｅ）は、図７（ｄ）に示す弁体受けとはさらに別の変形例を示す断面図である。

【図8】本発明に係る弁装置の第５の実施形態である電磁弁の要部を示す正面図である。

【図9】本発明に係る弁装置の第６の実施形態である電磁弁の要部を示す正面図である。

【発明を実施するための形態】

【0022】

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。

【0023】

尚、以下の説明における上下の概念は例えば図１における上下に対応しており、各部材の相対的な位置関係を示すものであって、絶対的な位置関係を示すものではない。

【0024】

まず、本発明に係る弁装置の第１の実施形態について説明する。

【0025】

図１は、本発明に係る弁装置の第１の実施形態である電磁弁１００を示す断面図であり、図２は、図１に示す電磁弁１００の弁本体部１１０の要部を拡大して示す断面図であり、図３は、図１に示す電磁弁１００の弁本体１１１の要部を示す断面図である。

【0026】

図１乃至図３において、電磁弁１００は、常閉型の流体制御用の電磁弁である。また、電磁弁１００は、弁本体部１１０と、弁本体部１１０の上部に配置されるプランジャユニット１２０と、プランジャユニット１２０の外周部に配され、後述する吸引子１２３およびプランジャ１２２を励磁する電磁コイルアセンブリ１３０とを備える。

【0027】

弁本体部１１０は、弁本体１１１と、弁体１１２とを備える。

【0028】

弁本体１１１は、例えばステンレス等の金属材料で形成される。弁本体１１１には、第１の継手１０１に接続される入口ポート１１１ａと、第２の継手１０２に接続される出口ポート１１１ｂと、入口ポート１１１ａおよび出口ポート１１１ｂに連通し、後述する弁体１１２及びプランジャ１２２を移動可能に収容し、側壁１１１ｃ１から構成される弁室１１１ｃとが主に形成される。

【0029】

弁体１１２は、例えばステンレス等の金属材料で球状に形成され、弁室１１１ｃに収容され、後述するプランジャ１２２の下端に固定される弁体ホルダ１２５に保持され、後述する弁ポート１１４ａを開閉する。

【0030】

プランジャユニット１２０は、プランジャチューブ１２１と、プランジャ１２２と、吸引子１２３と、コイルスプリング１２４と、弁体ホルダ１２５と、弁ばね１２６とを備える。

【0031】

プランジャチューブ１２１は、例えば金属等で形成された円筒形状の部材であり、弁本体１１１の上部に接続される。

【0032】

プランジャ１２２は、プランジャチューブ１２１内を上下に摺動可能な可動鉄心である。プランジャ１２２には、上部の開口部であるプランジャ室１２２ａと、内部の縦方向の貫通孔である均圧孔１２２ｂと、内部の横方向の貫通孔である均圧孔１２２ｃと、下部に設けられた開口部である下端中空部１２２ｄとが主に形成される。プランジャ１２２に縦方向の均圧孔１２２ｂと、横方向の均圧孔１２２ｃが形成されることにより、プランジャ室１２２ａと弁室１１１ｃとが連通され均圧される。

【0033】

吸引子１２３は、プランジャチューブ１２１の上端部に固定される固定鉄心である。コイルスプリング１２４は、プランジャ１２２のプランジャ室１２２ａの内部に配置され、プランジャ１２２と吸引子１２３とに接続され、弁体１１２を閉弁する方向に縮装される。

【0034】

弁体ホルダ１２５は、プランジャ１２２の下端に固定される、略円筒形状の部材であり、下端部が弁室１１１ｃの内側まで延在し、内部に弁体１１２を保持している。弁体ホルダ１２５の中段付近には、横方向の通孔１２５ａが形成されている。これにより、弁体ホルダ１２５の内部と弁室１１１ｃとが連通し、弁体１１２が後述する弁座１１４ｃに接触する直前に、弁体１１２の上方から高圧流体が作用するために、弁体１１２は、その圧力差により確実に弁座１１４ｃを閉弁することができる。

【0035】

弁ばね１２６は、プランジャ１２２の下端中空部１２２ｄの内部に縮装され、プランジャ１２２に接続され、弁体１１２を下方向に付勢する。

【0036】

電磁コイルアセンブリ１３０は、プランジャチューブ１２１に同心状に取り付けられる樹脂製のボビン１３１と、ボビン１３１に巻回され、プランジャ１２２と吸引子１２３とを励磁するコイル１３２と、コイル１３２が巻回された後のボビン１３１を樹脂で覆い、その樹脂で覆われたボビン１３１とコイル１３２とを、内側に収容するケーシング１３３と、ケーシング１３３を吸引子１２３に固定するボルト１３４と、コイル１３２に接続されるリード線１３５とを備える。

【0037】

本実施形態の電磁弁１００は、常閉型の電磁弁であり、通常状態では、吸引子１２３に接続されたコイルスプリング１２４の付勢力により、プランジャ１２２が下方向に押され、プランジャ１２２に接続された弁ばね１２６の付勢力により弁体１１２が弁本体１１１の弁座１１４ｃに押し付けられ、閉弁状態となる。

【0038】

次に、リード線１３５からコイル１３２に通電されると、吸引子１２３とプランジャ１２２が励磁される。これにより、吸引子１２３とプランジャ１２２との間に吸着力が発生し、この吸着力がコイルスプリング１２４の付勢力に勝り、プランジャ１２２とこれに固定された弁体ホルダ１２５とこれに保持される球状の弁体１１２が上方に移動する。

【0039】

弁体１１２が上方に移動することにより弁座１１４ｃが開放され、電磁弁１００は、開弁状態となる。これにより、流入した流体は、第１の継手１０１から入口ポート１１１ａ、弁室１１１ｃ、弁座１１４ｃ、弁ポート１１４ａを通り、第２の継手１０２に吐出される。

【0040】

電磁弁１００を開弁状態から閉弁状態にするには、リード線１３５からコイル１３２への通電を遮断し、吸引子１２３とプランジャ１２２を消磁させる。これにより、吸引子１２３とプランジャ１２２との間の吸着力が消滅し、コイルスプリング１２４の付勢力により、プランジャ１２２とこれに固定された弁体ホルダ１２５とこれに保持される球状の弁体１１２が下方に移動し、弁座１１４ｃと接触し、電磁弁１００は、閉弁状態となる。

【0041】

本実施形態では、プランジャ１２２の下端に弁体ホルダ１２５と、弁ばね１２６を備える構成としているが、この構成は、弁座１１４ｃを変形させることなく反復使用に耐えることができる構成である。つまり、弁閉時に、先ず弁体１１２が弁座１１４ｃに当接し、次に弁体ホルダ１２５の下面が弁室１１１ｃ下面の後述する弁体受け１１４と当接し、両方が当接した状態で閉弁状態を保持できるので、当接時の衝撃は少なく、弁体１１２及び弁座１１４ｃの変形を防止し、弁の長時間の使用に際しても流体の流れを止め、弁閉時に安定した弁の着座が行え、弁漏れを防止できる。また、弁開時には、弁体ホルダ１２５内での弁体１１２のおどりによる異音の発生を防止することができる。このような構成とすることにより、弁座１１４ｃを変形させることなく反復使用に耐えることができる。しかしながら、本発明は、この構成に限定されるものではなく、弁体ホルダ１２５や弁ばね１２６を備えず、弁体１１２がプランジャ１２２にかしめ固定されている構成にも適用可能である。

【0042】

図１乃至図３において、電磁弁１００の弁本体部１１０は、さらに、弁体受け１１４を備える。

【0043】

弁体受け１１４は、弁室１１１ｃの内部に配置され、弁本体１１１とは別部品であり、弁体受け１１４には、出口ポート１１１ｂに連通する弁ポート１１４ａと、弁体１１２との接触部である弁座１１４ｃが形成される。弁体受け１１４は、ここでは、例えばステンレス等の金属で形成される。

【0044】

このように、弁本体１１１とは別部品である弁体受け１１４を設けることにより、硬度の高い材料を使用することができるため、弁体１１２との衝撃的な接触の繰り返しによる磨耗を防止することができる。また、弁体受け１１４を別部品とすることにより、微細な加工精度が必要とされる弁ポート１１４ａの加工が容易となり、加工精度を高めることができる。また、弁体受け１１４の材質を適宜選択できるため、弁体１１２との接触による衝突音を低減できる材質も使用可能となる。

【0045】

本発明において、弁体受け１１４は、第２の継手１０２と共に弁本体１１１にろう付けにより固定される。ろう付けは、治工具を使用して、弁本体１１１を上下逆に配置して、図２に示す出口ポート１１１ｂ側を上にして実施される。このときに、弁体受け１１４及び第２の継手１０２が弁室１１１ｃ側から固定され、ろう材を第２の継手１０２と出口ポート１１１ｂとの隙間に浸透させる。ここでは、弁体受け１１４にフランジ部１１４ｂが設けられているため、弁本体１１１に弁体受け１１４を固定することが容易となる。

【0046】

本発明では、ろう付け時に、図１及び図２に示すように、弁体受け１１４が第２の継手１０２に当接するように配置されているため、ろう材が確実に弁体受け１１４の周囲まで流れ込むため、弁体受け１１４を確実に弁本体１１１に固定することができる。また、ここでは、弁本体１１１における、第２の継手１０２が固定される穴径と、弁体受け１１４が固定される穴径が同径であるため、弁体受け１１４と第２の継手の当接は確実なものとなる。なお、ここでは同径としたが、略同径であれば同等の効果を得ることができる。

【0047】

また、図２に示すように、弁本体１１１の隅に当接する弁体受け１１４のかどのエッジにアンダーカット１１４ｄが形成されるため、弁本体１１１及び弁体受け１１４にばり等の加工のばらつきがあった場合でも斜めに傾くことなく固定することができる。また出口ポート１１１ｂから浸透させたろう材がアンダーカット１１４ｄを通過できるので、確実に弁体受け１１４のフランジ部１１４ｂの外周にろう材を回り込ませることができる。なお、ここでは弁体受け１１４にアンダーカット１１４ｄが形成されるものとしたが、これには限定されず、弁本体１１１の隅またはかどに相対する弁体受け１１４のかどまたは隅が当接しない形状が形成されればよい。また、弁体受け１１４のフランジ部１１４ｂ（大径部）が弁本体１１１の底面に当接しているため、弁閉時に弁体受け１１４にかかる荷重を弁本体１１１の底面で受けることができ、ろう材にかかる荷重を低減させることができる。

【0048】

弁体受け１１４には、図２に示すように、更に、弁体受け１１４と出口ポート１１１ｂとの接触面に圧入部１１４ｅが設けられる。これにより、ろう付け時の仮固定を安定させることができ、弁体受け１１４を弁本体１１１の正確な位置に安定して固定できる。

【0049】

また、弁体受け１１４には、図２に示すように、圧入部１１４ｅの挿入方向の前方に圧入部１１４ｅより小径の圧入ガイド部１１４ｆが設けられる。これにより、圧入時に弁体受け１１４が斜めになりかじることを防止することができる。なお、本実施形態において、フランジ部１１４ｂが大径部を構成し、圧入部１１４ｅ及び圧入ガイド部１１４ｆが小径部を構成する。

【0050】

また、弁本体１１１には、図２及び図３に示すように、圧入部１１４ｅに対応する位置にスパイラル溝１１１ｄが形成される。スパイラル溝１１１ｄが形成されることにより、圧入部１１４ｅの奥までろう材を回り込ませることができ、弁本体１１１と弁体受け１１４との気密性能が向上する。なお、ここでは、スパイラル溝１１１ｄが設けられるものとしたが、これには限定されず、圧入部１１４ｅに対応する位置に挿入方向の前後に連通する、ろう周りを安定させるための隙間部が設けられれば同様の効果を得ることができる。

【0051】

以上のように、本発明に係る弁装置の第１の実施形態によれば、弁本体の弁室の内部の弁体との接触部に別部材である弁体受けを設け、このときに弁体受けを正確な位置に安定して固定でき、これによりプランジャのリフト量が安定するために、作動特性と流量特性が安定し、さらに、弁体受けをろう付けにより固定し、このときにろう回りが安定し、弁本体と弁体受けとの気密性能が改善される弁装置を提供できる。

【0052】

次に、本発明に係る弁装置の第２の実施形態について説明する。

【0053】

図４は、本発明に係る弁装置の第２の実施形態である電磁弁２００の要部を示す断面図である。

【0054】

図４において、電磁弁２００は、図１乃至図３に示す電磁弁１００と比較して、弁体受け１１４の代わりに、弁体受け２１４が設けられることが異なり、それ以外の構成は電磁弁１００と同じである。同様の構成要素には、同様の符号を付し説明を省略する。

【0055】

弁体受け２１４には、弁ポート２１４ａと、弁座２１４ｃが形成されるが、弁体受け１１４と異なり、フランジ部、圧入部、圧入ガイド部等が形成されていない。このような弁体受け２１４は、弁本体２１１にろう付けにより固定されるが、圧入による仮固定を行う場合もある。弁体受け２１４は、このような形状としても、ろう付けを行うことは可能であり、弁体受け２１４の加工は容易となる。また、後述する図６（ａ）乃至図７（ｅ）に示す連通溝４１４ｇ、４１４Ａｇ、４１４Ｂｇのように、弁体受け２１４の弁本体１１１の底面に接触する面、あるいは、弁本体１１１の底面のいずれかの面に、径方向に拡がる連通溝が形成されるものとしてもよい。

【0056】

以上のように、本発明に係る弁装置の第２の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができるのと共に、弁体受けの製造工数を削減できるという効果を奏する。

【0057】

次に、本発明に係る弁装置の第３の実施形態について説明する。

【0058】

図５は、本発明に係る弁装置の第３の実施形態である電磁弁３００の要部を示す断面図である。

【0059】

図５において、電磁弁３００は、図１乃至図３に示す電磁弁１００と比較して、弁体受け１１４の代わりに、弁体受け３１４が設けられることが異なり、それ以外の構成は電磁弁１００と同じである。同様の構成要素には、同様の符号を付し説明を省略する。

【0060】

図５に示すように、弁体受け３１４において、フランジ部３１４ｂの外周に、圧入部３１４ｅ、スパイラル溝３１４ｇが、そして、小径部に圧入ガイド部３１４ｆが形成される。このため、加工の難しい弁本体３１１にスパイラル溝を形成する必要がなくなり、溝の加工が容易となる。

【0061】

以上のように、本発明に係る弁装置の第３の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができるのと共に、弁本体の製造工数を削減できるという効果を奏する。

【0062】

次に、本発明に係る弁装置の第４の実施形態について説明する。

【0063】

図６（ａ）は、本発明に係る弁装置の第４の実施形態である電磁弁４００の弁体受け４１４を示す正面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示すＶＩＢ−ＶＩＢ線に沿った断面図であり、図６（ｃ）は、図６（ａ）に示すＶＩＣ−ＶＩＣ線に沿った断面図である。

【0064】

図６（ａ）乃至図６（ｃ）に示す弁体受け４１４を有する電磁弁４００は、図１乃至図３に示す電磁弁１００と比較して、弁体受け４１４以外の構成要素が電磁弁１００と同じであるため、同様の構成要素には、同様の符号を付しその説明は省略する。

【0065】

図６（ａ）乃至図６（ｃ）に示すように、弁体受け４１４のフランジ部４１４ｂの出口ポート１１１ｂの方向に接触する接触面には、弁本体１１１との接触面の一部が削られた連通溝４１４ｇが設けられる。連通溝４１４ｇは、ここでは、４カ所の半円形状に形成され、この部分をろう材が通過できるため、弁体受け４１４のフランジ部４１４ｂの外周までろう材を確実に回り込ませることができる。なお、ここでは、弁体受け４１４に連通溝４１４ｇを形成したが、弁本体１１１のうち上述の接触面に正対する正対面に連通溝を形成するものとしても、同様の効果を得ることができる。また、連通溝４１４ｇの形状は、図６（ａ）乃至図６（ｃ）に示す形状には限定されない。

【0066】

図７（ａ）は、図６（ａ）乃至図６（ｃ）に示す弁体受けとは別の変形例４１４Ａを示す正面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す弁体受け４１４Ａの側面図であり、図７（ｃ）は、図７（ｂ）に示すＶＩＩＣ−ＶＩＩＣ線に沿った断面図であり、図７（ｄ）は、図７（ａ）に示すＶＩＩＤ−ＶＩＩＤ線に沿った断面図であり、図７（ｅ）は、図７（ｄ）に示す弁体受けとはさらに別の変形例４１４Ｂを示す断面図である。

【0067】

図７（ａ）乃至図７（ｄ）に示すように、弁体受け４１４Ａに、フランジ部４１４ｂの出口ポート１１１ｂの方向に接触する接触面の一辺を直線状に削った連通溝４１４Ａｇが設けられるものとしてもよく、図７（ｅ）に示すように、弁体受け４１４Ｂに、三カ所の連通溝４１４Ｂｇが設けられるものとしてもよい。このように、弁体受け４１４のフランジ部４１４ｂ及び弁本体１１１の接触面または正対面のいずれかの面に、ろう周りを安定させるための連通溝４１４ｇが設けられればよく、形状は限定されない。なお、図６（ａ）乃至図７（ｅ）に示す第７の実施形態において、図６（ａ）及び図７（ｂ）に示す上下方向、つまり出口ポート１１１ｂに抜ける方向に圧入部の隙間部が形成されるものとしてもよい。

【0068】

以上のように、本発明に係る弁装置の第４の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができるのと共に、弁体受けのフランジ部の外周までろう材を確実に回り込ませることができるという効果を奏する。

【0069】

次に、本発明に係る弁装置の第５の実施形態について説明する。

【0070】

図８は、本発明に係る弁装置の第５の実施形態である電磁弁５００の要部を示す断面図である。

【0071】

図８において、電磁弁５００は、図１乃至図３に示す電磁弁１００と比較して、弁本体１１１の代わりに、弁本体５１１が設けられることが異なり、それ以外の構成は電磁弁１００と同じである。同様の構成要素には、同様の符号を付し説明を省略する。

【0072】

図８に示すように、ここでは、弁本体５１１の出口ポート５１１ｂには、大径部と小径部が形成され、大径部において、第２の継手１０２と弁体受け１１４が当接する様に固定される。弁本体５１１の出口ポート５１１ｂの小径部には、弁体受け１１４が固定されるため、圧入部１１４ｅ付近にスパイラル溝５１１ｄが形成される。このときに、出口ポート５１１ｂに段差５１１ｅを設けることにより、スパイラル溝５１１ｄを段差５１１ｅの弁室５１１ｃ側の縮径された部分のみに形成すればよいため、スパイラル溝５１１ｄの加工が容易となる。

【0073】

以上のように、本発明に係る弁装置の第５の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができるのと共に、弁本体の加工しやすさが向上し製造工数を削減できるという効果を奏する。

【0074】

次に、本発明に係る弁装置の第６の実施形態について説明する。

【0075】

図９は、本発明に係る弁装置の第６の実施形態である電磁弁６００の要部を示す断面図である。

【0076】

図９において、電磁弁６００は、図１乃至図３に示す電磁弁１００と比較して、弁体受け１１４の代わりに、弁体受け６１４が設けられることが異なり、それ以外の構成は電磁弁１００と同じである。同様の構成要素には、同様の符号を付し説明を省略する。

【0077】

図９に示すように、ここでは、弁体受け６１４の弁ポート６１４ａには、テーパ部分６１４ａ１が形成される。テーパ部分６１４ａ１は、第２の継手１０２と弁体受け６１４が当接する部分の径が、第２の継手１０２の内径と略同径となり、対向する方向に向けて縮径されて、弁ポート６１４ａの円柱形状に延びる小径の直線部分６１４ａ２の部分に連通する形状に形成される。このように弁ポート６１４ａにテーパ部分６１４ａ１を設けることにより、弁体受け６１４と第２の継手１０２との隙間からろう材が浸透したときに、フィレットが形成されにくくなり、弁体受け６１４のろう付けが不要な箇所にろう材が流れて溜まるのを防ぐことができる。

【0078】

以上のように、本発明に係る弁装置の第６の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができるのと共に、弁体受けのろう付けが不要な箇所にろう材が流れて溜まるのを防ぐことができる。

【0079】

なお、以上の説明では、本発明の弁装置について、常閉型の流体制御用の電磁弁１００等を例にとり説明してきたが、これには限定されず、常閉型以外の電磁弁でも、また流体として気体、液体、その他流体を適用するものしてもよい。さらに、電磁弁以外の例えば流量制御弁、電動弁等、同様の構成を有する他の弁装置に適用するものとしてもよく、その場合にも同様の効果が期待される。

【0080】

以上説明したように、本発明によれば、弁本体の弁室内部の弁体との接触部に別部材である弁体受けを設け、このときに弁体受けを正確な位置に安定して固定でき、これによりプランジャのリフト量が安定するために、作動特性と流量特性が安定し、さらに、弁体受けをろう付けにより固定し、このときにろう回りが安定し、気密性能が改善される弁装置を提供できる。

【符号の説明】

【0081】

１００、２００、３００、４００、５００、６００ 弁装置（電磁弁）
１０１ 第１の継手
１０２ 第２の継手
１１０、２１０、３１０、５１０、６１０ 弁本体部
１１１、２１１、３１１、５１１、６１１ 弁本体
１１１ａ、２１１ａ、３１１ａ、５１１ａ、６１１ａ 入口ポート
１１１ｂ、２１１ｂ、３１１ｂ、５１１ｂ、６１１ｂ 出口ポート
１１１ｃ、２１１ｃ、３１１ｃ、５１１ｃ、６１１ｃ 弁室
１１１ｃ１、２１１ｃ１、３１１ｃ１、５１１ｃ１、６１１ｃ１ 側壁
１１１ｄ、３１４ｇ、５１１ｄ、６１１ｄ スパイラル溝
１１２ 弁体
１１４、２１４、３１４、４１４、４１４Ａ、４１４Ｂ、６１４ 弁体受け
１１４ａ、２１４ａ、３１４ａ、４１４ａ、６１４ａ 弁ポート
１１４ｂ、３１４ｂ、４１４ｂ、６１４ｂ フランジ部
１１４ｃ、２１４ｃ、３１４ｃ、４１４ｃ、６１４ｃ 弁座
１１４ｄ、２１４ｄ、３１４ｄ、４１４ｄ、６１４ｄ アンダーカット
１１４ｅ、３１４ｅ、４１４ｅ、６１４ｅ 圧入部
１１４ｆ、３１４ｆ、４１４ｆ、６１４ｆ 圧入ガイド部
１２０ プランジャユニット
１２１ プランジャチューブ
１２２ プランジャ
１２２ａ プランジャ室
１２２ｂ 縦方向の均圧孔
１２２ｃ 横方向の均圧孔
１２２ｄ 下端中空部
１２３ 吸引子
１２４ コイルスプリング
１２５ 弁体ホルダ
１２５ａ 通孔
１２６ 弁バネ
１３０ 電磁コイルアセンブリ
１３１ ボビン
１３２ コイル
１３３ ケーシング
１３４ ボルト
１３５ リード線
４１４ｇ、４１４Ａｇ、４１４Ｂｇ 連通溝
５１１ｅ 段差
６１４ａ１ テーパ部分
６１４ａ２ 直線部分

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】