特開2019-164205IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

基準位置から所定距離の範囲内に検出対象物が配されているか否かを検出する超近接スイッチ

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】検出精度が高い超近接スイッチを提供する。
【解決手段】透光体11を具備し、透光体11の所定の面F14の表側近傍に検出対象物Wが配されていることを検知する超近接スイッチ10であって、第1の光P1を照射して、近接場光E1が存在する層L1を、面F14の表側に発生させ、第1の光P1と波長が異なる第2の光P2を照射して、近接場光E2が存在する、層L1より厚い層L2を、層L1及び層L2が重複する領域を有する状態で、面F14の表側に発生させる照射手段12と、近接場光E1が検出対象物Wに反射されて生じる第1の散乱光Q1、及び、近接場光E2が検出対象物Wに反射されて生じる第2の散乱光Q2の検出に基づいて、層L2外、層L2内かつ層L1外の領域、又は、層L1内のいずれに検出対象物Wが配されているかを検知する検出手段13とを備える。
【選択図】図1

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、非接触式は高精度(例えば、サブミクロンオーダの精度)な検出ができないという課題があった。また、非接触式による高精度な検出は、ツールセッタに対してだけでなく、超近接スイッチに想定される広範囲の用途(例えば、光ディスクの読み書きを行うヘッドの位置検出や、半導体製品の製造工程における製品の位置検出)に対しても有効である。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、検出精度が高い超近接スイッチを提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

前記目的に沿う本発明に係る超近接スイッチは、透光体を具備し、該透光体の所定の面Fの表側近傍に検出対象物が配されていることを検知する超近接スイッチであって、第1の光を照射して、近接場光E1が存在する層L1を、前記面Fの表側に発生させ、前記第1の光と波長が異なる第2の光を照射して、近接場光E2が存在する、前記層L1より厚い層L2を、該層L1及び該層L2が重複する領域を有する状態で、前記面Fの表側に発・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明に係る超近接スイッチは、波長が異なる第1、第2の光を照射して、近接場光E1が存在する層L1と、近接場光E2が存在する、層L1より厚い層L2とを、透光体の面Fの表側に発生させ、近接場光E1が検出対象物に反射されて生じる第1の散乱光、及び、近接場光E2が検出対象物に反射されて生じる第2の散乱光の検出に基づいて、層L2外、層L2内かつ層L1外の領域、又は、層L1内のいずれに検出対象物が配されているかを検知するので、層L1、L2の厚みレベル(例えば、サブミクロンオーダ)の精度で検出対象物の配置を検出可能である。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の一実施の形態に係る超近接スイッチの説明図である。

【図2】(A)、(B)、(C)は検出対象物の位置と第1、第2の散乱光の発生の関係を示す説明図である。

【図3】検出手段の接続を示すブロック図である。

【図4】工具先端の位置と光の強度の計測値の関係を示すグラフである。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

10:超近接スイッチ、11:透光体、12:照射手段、13:検出手段、14:面、16:筺体、17、18:側面、19:円弧状面、20:センサ部、21:位置検知部、22:信号発信手段、L1、L2:層、P1、P2:光、Q1、Q2:散乱光、T:工具、W:検出対象物

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