特開 2019-192775 ワーク矯正方法およびワーク矯正装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2019-192775(P2019-192775A)

(43)【公開日】2019年10月31日

(54)【発明の名称】ワーク矯正方法およびワーク矯正装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/683 20060101AFI20191004BHJP

   H01L 21/301 20060101ALI20191004BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20191004BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/68 P

   H01L21/78 M

   H01L21/304 622J

【審査請求】未請求

【請求項の数】10

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】22

(21)【出願番号】特願2018-83886(P2018-83886)

(22)【出願日】2018年4月25日

(71)【出願人】

【識別番号】000003964

【氏名又は名称】日東電工株式会社

(71)【出願人】

【識別番号】394016601

【氏名又は名称】日東精機株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100093056

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 勉

(74)【代理人】

【識別番号】100142930

【弁理士】

【氏名又は名称】戸高 弘幸

(74)【代理人】

【識別番号】100175020

【弁理士】

【氏名又は名称】杉谷 知彦

(74)【代理人】

【識別番号】100180596

【弁理士】

【氏名又は名称】栗原 要

(74)【代理人】

【識別番号】100195349

【弁理士】

【氏名又は名称】青野 信喜

(72)【発明者】

【氏名】石井 直樹

【テーマコード（参考）】

5F057

5F063

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F057AA04

5F057BA21

5F057EC05

5F057EC15

5F057FA30

5F057FA31

5F057FA34

5F063AA04

5F063AA11

5F063DG23

5F063EE21

5F063FF41

5F063FF43

5F131AA02

5F131BA32

5F131BA53

5F131CA08

5F131CA09

5F131EB02

5F131EB05

5F131EB37

5F131EB53

5F131EB72

5F131EB89

5F131FA14

5F131FA32

5F131KA12

5F131KA33

5F131KB05

5F131KB42

(57)【要約】

【課題】ウエハや基板を例とする薄型のワークに変形や損傷を与えることなく、当該ワークを平坦に矯正できるワーク矯正方法およびワーク矯正装置を提供する。
【解決手段】保持テーブル９に載置させたウエハＷに対し、保持テーブル９に設けられている吸着孔１７
を介して吸着を行うとともに、ウエハＷの上方に設けられている気体噴射ノズル２７を介してウエハＷに気体Ｎを吹き付ける。吹き付けられた気体Ｎの圧力により、ウエハＷは保持テーブル９の載置面に向けて押圧されるので、ウエハＷの反りを確実に矯正して平坦化できる。ウエハＷを矯正するに際し、上向きに露出されているウエハＷの回路面に対して押圧プレートなどの部材が物理的に接触することがない。従って、物理的接触によってウエハＷの回路に損傷などの不具合が発生するという事態を確実に回避できる。
【選択図】図７

【特許請求の範囲】

【請求項1】

平坦な保持テーブルでワークを保持する保持過程と、
前記保持テーブルの上方に設けられている気体供給機構から前記ワークの上面に供給される気体の圧力により前記ワークを押圧させる気体供給過程と、
前記保持テーブルに設けられている吸着孔を介して前記ワークの下面を前記保持テーブルに吸着させる吸着過程と、
を備えることを特徴とするワーク矯正方法。

【請求項2】

請求項１に記載のワーク矯正方法において、
前記気体供給過程は、
複数設けられている前記気体供給機構を複数のブロックに分割し、前記気体供給機構から供給される気体の圧力を前記ブロックごとに独立制御する
ことを特徴とするワーク矯正方法。

【請求項3】

請求項２に記載のワーク矯正方法において、
前記気体供給過程は、
複数設けられている前記気体供給機構を前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割し、
前記気体供給機構から供給される気体の圧力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御する
ことを特徴とするワーク矯正方法。

【請求項4】

請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のワーク矯正方法において、
前記吸着過程は、
複数設けられている前記吸着孔を複数のブロックに分割し、前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を前記ブロックごとに独立制御する
ことを特徴とするワーク矯正方法。

【請求項5】

請求項４に記載のワーク矯正方法において、
前記吸着過程は、
複数設けられている前記吸着孔を前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割し、
前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御する
ことを特徴とするワーク矯正方法。

【請求項6】

ワークを保持する平坦な保持テーブルと、
前記保持テーブルの上方に設けられており、前記ワークの上面に気体を供給して前記気体の圧力により前記ワークを押圧させる気体供給機構と、
前記保持テーブルに設けられている吸着孔を介して前記ワークの下面を前記保持テーブルに吸着させる吸着機構と、
を備えることを特徴とするワーク矯正装置。

【請求項7】

請求項６に記載のワーク矯正装置において、
複数設けられている前記気体供給機構は複数のブロックに分割されており、
前記気体供給機構から供給される気体の圧力を前記ブロックごとに独立制御する供給制御機構を備える
ことを特徴とするワーク矯正装置。

【請求項8】

請求項７に記載のワーク矯正装置において、
複数設けられている前記気体供給機構は前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割されており、
前記供給制御機構は、
前記気体供給機構から供給される気体の圧力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御する
ことを特徴とするワーク矯正装置。

【請求項9】

請求項６ないし請求項８のいずれかに記載のワーク矯正装置において、
複数設けられている前記吸着孔は複数のブロックに分割されており、
前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を前記ブロックごとに独立制御する吸着制御機構を備える
ことを特徴とするワーク矯正装置。

【請求項10】

請求項９に記載のワーク矯正装置において、
複数設けられている前記吸着孔は前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割されており、
前記吸着制御機構は、
前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御する
ことを特徴とするワーク矯正装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体ウエハ（以下、適宜「ウエハ」という）や基板を例とする薄板状のワークに対して、粘着テープの貼り付け操作などの各種操作を行うに際し、ワークの反りを矯正して平坦化するためのワーク矯正方法およびワーク矯正装置に関する。

【背景技術】

【0002】

ウエハの表面に回路パターン形成処理を行った後、ウエハの裏面全体を均一に研削してさらに薄型化するバックグラインド処理が施される。当該バックグラインド処理を行う前に、回路を保護するべくウエハの表面全体に保護用の粘着テープ（保護テープ）を貼り付けている。また、バックグラインド処理を行った後、薄型化したウエハの裏面全体と当該ウエハの周囲を囲む形状のリングフレームとにわたって支持用の粘着テープ（ダイシングテープ）が貼り付けられる。

【0003】

ウエハに粘着テープを貼り付ける場合、ウエハを安定に保持する方法として、ウエハを平坦な保持テーブルに載置させた後に保持テーブルでウエハの下面全体を吸着する方法が一般的に用いられている。しかし、ウエハに対して粘着テープを貼り付ける工程において、ウエハに反りなどの歪みが発生している場合がある。

【0004】

この場合、保持テーブルが吸着できる対象はウエハの一部に限られるので、ウエハを安定に吸着保持することが困難となる。さらに、歪みが発生しているウエハの全面に対して均一かつ精度よく粘着テープを貼り付けることは困難である。

【0005】

そこで、ウエハに粘着テープを貼り付ける操作を行う前段階として、平坦な保持テーブルにウエハを載置させ、押圧プレートでウエハの全面を押圧することによってウエハの反りを矯正して平坦化させている（例えば、特許文献１を参照）。

【0006】

【特許文献1】特開２０１２−１１４４６５号公報

【発明の開示】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかしながら、上記従来装置では次のような問題がある。
すなわち、従来の矯正方法では、ウエハを矯正するためには押圧プレートをウエハに接触させる必要がある。そのため、一例として回路面が露出しているウエハを矯正対象とする場合、押圧プレートで接触・押圧させるとウエハの回路に変形や損傷が発生する等の問題が懸念される。

【0008】

従って、押圧プレートのような部材を機械的に接触させて押圧する操作が不適切な対象については押圧プレートを使用できないので、精度良く矯正して平坦化させることは困難である。

【0009】

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、ウエハや基板を例とする薄型のワークに変形や損傷を与えることなく、当該ワークを平坦に矯正できるワーク矯正方法およびワーク矯正装置を提供することを主たる目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0010】

この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明は、
平坦な保持テーブルでワークを保持する保持過程と、
前記保持テーブルの上方に設けられている気体供給機構から前記ワークの上面に供給される気体の圧力により前記ワークを押圧させる気体供給過程と、
前記保持テーブルに設けられている吸着孔を介して前記ワークの下面を前記保持テーブルに吸着させる吸着過程と、
を備えるワーク矯正方法であることを特徴とする。

【0011】

（作用・効果）この構成によれば、平坦な保持テーブルでワークを保持し、保持テーブルの上方に設けられている気体供給機構から供給される気体の圧力によりワークを押圧させる。そして、保持テーブルに設けられている吸着孔を介してワークの下面を保持テーブルに吸着させる。ワークは上面に供給される気体の圧力により押圧され、反りが矯正されていく。

【0012】

このとき、ワークの上面には気体が供給されるに留まり、プレートなどの部材が接触することがない。よって、回路面が上面に露出するようなワークについても、当該回路に不具合を発生させることなくワークを矯正して平坦化できる。

【0013】

また、上述した発明において、前記気体供給過程は、複数設けられている前記気体供給機構を複数のブロックに分割し、前記気体供給機構から供給される気体の圧力を前記ブロックごとに独立制御することが好ましい。

【0014】

（作用・効果）この構成によれば、複数設けられている気体供給機構を複数のブロックに分割し、気体供給機構から供給される気体の圧力をブロックごとに独立制御する。この場合、ワークのうち反りが大きい部分に対応する気体供給機構と、反りが小さい部分に対応する気体供給機構とをそれぞれ異なるブロックに分割し、ブロックごとにワークを押圧する気体の圧力を独立制御できる。

【0015】

そのため、ワークのうち反りの大きい部分に対して比較的高い圧力の気体を供給するので、反りを確実かつ速やかに矯正できる。一方、ワークのうち反りが小さい部分には比較的低い圧力の気体を供給するので、当該反りの小さい部分が過剰な圧力の気体で押圧されて新たに歪みが発生するという事態を回避できる。よって、ワークに新たな歪みを発生させることなく、反りを速やかに矯正して平坦化できる。

【0016】

また、上述した発明において、前記気体供給過程は、複数設けられている前記気体供給機構を前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割し、前記気体供給機構から供給される気体の圧力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御することが好ましい。

【0017】

（作用・効果）この構成によれば、気体供給機構をワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割し、気体供給機構から供給される気体の圧力を、ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう、ブロックごとに独立制御する。

【0018】

ワークの反りは、一般的に中心から外縁部に向かうにつれて反りの量が段階的に変化する形状となっている。そのため、気体供給機構から供給される気体の圧力を、ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するように制御することにより、ワークのうち反りの大きい部分については高圧の気体を供給して、反りを確実かつ速やかに矯正できる。一方、ワークのうち反りが小さい部分には比較的低い圧力の気体を供給し、過剰な圧力による新たな歪みの発生を回避する。よって、ワークに新たな歪みを発生させることなく、反りを速やかに矯正して平坦化できる。

【0019】

また、上述した発明において、前記吸着過程は、複数設けられている前記吸着孔を複数のブロックに分割し、前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を前記ブロックごとに独立制御することが好ましい。

【0020】

（作用・効果）この構成によれば、複数設けられている吸着孔を複数のブロックに分割し、吸着孔を介してワークを吸着する力をブロックごとに独立制御する。この場合、ワークのうち反りが大きい部分に対応する吸着孔と、反りが小さい部分に対応する吸着孔とをそれぞれ異なるブロックに分割し、ブロックごとにワークを吸着する力を独立制御できる。

【0021】

そのため、ワークのうち反りの大きい部分は比較的強い力で吸着されるので、反りを確実かつ速やかに矯正して吸着できる。一方、ワークのうち反りが小さい部分は比較的弱い力で吸着されるので、当該反りの小さい部分が過剰な力で吸着されて新たに歪みが発生するという事態を回避できる。よって、ワークに新たな歪みを発生させることなく、反りを速やかに矯正して平坦化できる。

【0022】

また、上述した発明において、前記吸着過程は、複数設けられている前記吸着孔を前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割し、前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御することが好ましい。

【0023】

（作用・効果）この構成によれば、複数の吸着孔をワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割し、吸着孔を介してワークを吸着する力を、ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう、ブロックごとに独立制御する。

【0024】

ワークの反りは、一般的に中心から外縁部に向かうにつれて反りの量が段階的に変化する形状となっている。そのため、ワークの中心から外縁部に向かうにつれて吸着力を段階的に変化するように制御することにより、ワークのうち反りの大きい部分は強い力で吸着されるので、反りを確実かつ速やかに矯正できる。一方、ワークのうち反りが小さい部分は比較的弱い力で吸着されるので、過剰な力で吸着されて新たに歪みが発生する事態を回避できる。よって、ワークに新たな歪みを発生させることなく、反りを速やかに矯正して平坦化できる。

【0025】

この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとってもよい。
すなわち、本発明は、ワークを保持する平坦な保持テーブルと、
前記保持テーブルの上方に設けられており、前記ワークの上面に気体を供給して前記気体の圧力により前記ワークを押圧させる気体供給機構と、
前記保持テーブルに設けられている吸着孔を介して前記ワークの下面を前記保持テーブルに吸着させる吸着機構と、
を備えるワーク矯正装置であることを特徴とする。

【0026】

（作用・効果）この構成によれば、平坦な保持テーブルでワークを保持し、保持テーブルの上方に設けられている気体供給機構から供給される気体の圧力によりワークを押圧させる。そして、保持テーブルに設けられている吸着孔を介してワークの下面を保持テーブルに吸着させる。

【0027】

このとき、ワークの上面に供給される気体によってワークを押圧させて反りを矯正するので、プレートなどの部材をワークの上面に接触させることなくワークの反りを矯正できる。よって、回路面が上面に露出するようなワークについても、当該回路に不具合を発生させることなくワークを矯正して平坦化できる。

【0028】

また、上述した発明において、複数設けられている前記気体供給機構は複数のブロックに分割されており、前記気体供給機構から供給される気体の圧力を前記ブロックごとに独立制御する供給制御機構を備えることが好ましい。

【0029】

（作用・効果）この構成によれば、複数設けられている気体供給機構を複数のブロックに分割し、気体供給機構から供給される気体の圧力は供給制御機構によってブロックごとに独立制御される。この場合、ワークのうち反りが大きい部分に対応する気体供給機構と、反りが小さい部分に対応する気体供給機構とをそれぞれ異なるブロックに分割し、ブロックごとにワークを押圧する気体の圧力を独立制御できる。よって、上記方法を好適に実行できる。

【0030】

また、上述した発明において、複数設けられている前記気体供給機構は前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割されており、前記供給制御機構は、前記気体供給機構から供給される気体の圧力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御することが好ましい。

【0031】

（作用・効果）この構成によれば、気体供給機構をワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割する。そして気体供給機構から供給される気体の圧力は、供給制御機構によってワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう、ブロックごとに独立制御される。

【0032】

ワークの反りは、一般的に中心から外縁部に向かうにつれて反りの量が段階的に変化する形状となっている。そのため、気体供給機構から供給される気体の圧力を、ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するように制御することにより、ワークのうち反りの大きい部分については高圧の気体を供給する一方、ワークのうち反りが小さい部分には比較的低い圧力の気体を供給できる。よって、ワークに新たな歪みを発生させることなく、反りを速やかに矯正して平坦化できる。

【0033】

また、上述した発明において、複数設けられている前記吸着孔は複数のブロックに分割されており、前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を前記ブロックごとに独立制御する吸着制御機構を備えることが好ましい。

【0034】

（作用・効果）この構成によれば、複数設けられている吸着孔を複数のブロックに分割し、吸着孔を介してワークを吸着する力は吸着制御機構によってブロックごとに独立制御される。この場合、ワークのうち反りが大きい部分に対応する吸着孔と、反りが小さい部分に対応する吸着孔とをそれぞれ異なるブロックに分割し、ブロックごとにワークを吸着する力を独立制御できる。よって、上記方法を好適に実行できる。

【0035】

また、上述した発明において、複数設けられている前記吸着孔は前記ワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割されており、前記吸着制御機構は、前記吸着孔を介して前記ワークを吸着する力を、前記ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう前記ブロックごとに独立制御することが好ましい。

【0036】

（作用・効果）この構成によれば、複数の吸着孔をワークの中心からの距離に応じて複数のブロックに分割し、吸着孔を介してワークを吸着する力は、ワークの中心から外縁部に向かうにつれて段階的に変化するよう、吸着制御機構によってブロックごとに独立制御される。

【0037】

ワークの反りは、一般的に中心から外縁部に向かうにつれて反りの量が段階的に変化する形状となっている。そのため、ワークの中心から外縁部に向かうにつれて吸着力を段階的に変化するように制御することにより、ワークのうち反りの大きい部分は強い力で吸着される一方、ワークのうち反りが小さい部分は比較的弱い力で吸着される。よって、ワークに新たな歪みを発生させることなく、反りを速やかに矯正して平坦化できる。

【発明の効果】

【0038】

本発明に係るワーク矯正方法およびワーク矯正装置によれば、保持テーブルの上方に設けられている気体供給機構から供給される気体の圧力によりワークを平坦な保持テーブルに押圧させるとともに、保持テーブルに設けられている吸着孔を介してワークの下面を保持テーブルに吸着させる。この場合、プレートなどの部材をワークの上面に接触させることなく、ワークの上面に供給される気体によってワークを押圧させる。よって、ワークに変形や損傷を与えることなく、当該ワークを平坦に矯正できる。

【図面の簡単な説明】

【0039】

【図1】実施例１に係るワーク矯正装置の基本構成を示す斜視図である。

【図2】実施例１に係るワーク矯正装置の要部を示す図である。（ａ）は保持テーブルの平面図であり、（ｂ）は保持テーブルの縦断面図である。

【図3】実施例１に係るワーク矯正装置の要部を示す図である。（ａ）は加圧機構の平面図であり、（ｂ）は加圧機構の縦断面図である。

【図4】ウエハに発生する一般的な反りの形状を示す図である。（ａ）は第１のパターンを示す縦断面図であり、（ｂ）は第２のパターンを示す縦断面図である。

【図5】実施例１に係るワーク矯正装置の動作を示す図である。（ａ）はウエハを保持テーブルの支持ピンで受け取る状態を示す縦断面図であり、（ｂ）はウエハを保持テーブルの載置面に載置された状態を示す縦断面図である。

【図6】実施例１に係るワーク矯正装置の動作を示す正面図である。（ａ）は保持テーブルによるウエハの吸引を実行している状態を示す縦断面図であり、（ｂ）は気体噴射ノズルによる気体の噴射を実行している状態を示す縦断面図である。

【図7】実施例１に係るワーク矯正装置の動作を示す正面図である。（ａ）はウエハの反りが矯正されていく状態を示す縦断面図であり、（ｂ）はウエハが平坦となり、保持テーブルに吸着されている状態を示す縦断面図である。

【図8】実施例２に係るワーク矯正装置の要部を示す図である。（ａ）は保持テーブルの平面図であり、（ｂ）は保持テーブルの縦断面図である。

【図9】実施例２に係るワーク矯正装置の要部を示す図である。（ａ）は加圧機構の平面図であり、（ｂ）は加圧機構の縦断面図である。

【図10】実施例２に係るワーク矯正装置の動作を示す図である。

【図11】実施例２に係るワーク矯正装置の動作を示す図である。

【図12】変形例に係るワーク矯正装置の構成を示す図である。（ａ）はリング状の支持部を備える変形例に係る保持テーブルの平面図であり、（ｂ）は矯正装置の縦断面図であり、（ｃ）はピン状の支持部を備える変形例に係る保持テーブルの平面図である。

【図13】変形例に係るワーク矯正装置の構成を示す図である。（ａ）は矯正装置の構成を示す縦断面図であり、（ｂ）は矯正装置において気体を噴射させる動作を示す縦断面図であり、（ｃ）は矯正装置において噴射された気体が外縁部へ向けて広がっていき、ウエハの中央部から外縁部にわたって平坦に矯正していく状態を示す縦断面図である。

【図14】変形例に係るワーク矯正装置の構成を示す図である。（ａ）は変形例において気体噴射ノズルを複数ブロックに分割する構成を示す図であり、（ｂ）はウエハに形成される反りの形状の一例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【実施例1】

【0040】

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。なお、本実施例では、矯正して平坦化させる対象であるワークとして、表面に回路パターンが形成された半導体ウエハＷ（以下、単に「ウエハＷ」と略称する）を用いる構成を例示して説明する。

【0041】

＜全体構成の説明＞
図１に示すように、実施例１に係るウエハ処理ユニット１は、ウエハ収納部３、ウエハ搬送機構５、および矯正装置７などを備えている。

【0042】

ウエハ収納部３は、一例としてウエハＷを収納するカセットＣを備えている。カセットＣには多数枚のウエハＷが、回路形成面（表面）を上向きにした水平姿勢で多段に差込み収納されている。

【0043】

ウエハ搬送機構５は、搬送アーム６を備えており、図示しない駆動機構によって水平進退、旋回、および昇降可能となるように構成されている。搬送アーム６の先端には馬蹄型のウエハ保持部６ａが設けられている。搬送アーム６は、カセットＣに多段収納されたウエハＷ同士の間隙を、ウエハ保持部６ａが進退可能に構成されている。

【0044】

ウエハ保持部６ａには吸着孔が設けられており、ウエハＷを裏面から真空吸着して保持するように構成されている。ウエハ搬送機構５は、駆動機構によって、搬送アーム６のウエハ保持部６ａの位置が調整される。そしてウエハ保持部６ａはウエハＷを、ウエハ収納部３のカセットＣから保持テーブル７へと搬送する。搬送されるウエハＷが辿る経路は、図１において矢印Ｋで示されている。

【0045】

矯正装置７は、保持テーブル９と加圧機構１１とを備えている。保持テーブル９は一例として金属製またはセラミック製のチャックテーブルであり、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すように、ウエハＷを載置させる平坦なウエハ載置部１３を備えている。ウエハ載置部１３には複数の支持ピン１５および吸着孔１７が備えられている。矯正装置７は本発明におけるワーク矯正装置に相当する。

【0046】

なお図２（ａ）において、ウエハＷが載置される位置を符号Ｒが付された点線で示している。本実施例では、ウエハＷの中心とウエハ載置部１３の中心とが一致するようにウエハＷを載置させるものとする。

【0047】

支持ピン１５は図４（ａ）に示すように、シリンダ１６によって出退昇降可能に構成されている。すなわちシリンダ１６によって上昇することにより、各々の支持ピン１５の先端は図４（ａ）に示すように、ウエハ載置部１３から突出する。またシリンダ１６によって下降することにより、各々の支持ピン１５の先端は図４（ｂ）に示すように、ウエハ載置部１３に内蔵される。

【0048】

吸着孔１７は図２（ａ）に示すように、ウエハ載置部１３の表面に複数設けられている。実施例１において、吸着孔１７の各々は図２（ｂ）に示すように、ウエハ載置部１３の下部で纏められ、電磁バルブ１８を備えた流路１９を介して真空装置２０と連通接続されている。

【0049】

電磁バルブ１８の開閉および真空装置２０の動作は、制御部２１によってそれぞれ制御されている。真空装置２０を用いて真空吸引を行うことにより、ウエハ載置部１３は載置されたウエハＷを吸着保持する。なお説明の便宜上、図２（ｂ）において、支持ピン１５およびシリンダ１６を省略している。

【0050】

加圧機構１１は、図１などに示すように、保持テーブル９の上方に設けられている。加圧機構１１は図３（ａ）に示すように、可動台２３と気体供給ユニット２５とを備えている。可動台２３は、図示しない支柱に沿って昇降可能に構成されている。

【0051】

気体供給ユニット２５は可動台２３の下部に配設されており、可動台２３の昇降移動によって気体供給ユニット２５も昇降移動する。気体供給ユニット２５は、保持テーブル９に載置されたウエハＷに対して気体を吹き付ける構成を有している。

【0052】

気体供給ユニット２５の形状および大きさはワーク（本実施例ではウエハＷ）の形状および大きさに応じて適宜調整できる。本実施例において、気体供給ユニット２５は図３（ｂ）に示すように、ウエハＷよりやや大きい径の円形となっている。気体供給ユニット２５の下面には気体噴射ノズル２７が配設されている。

【0053】

実施例１において、気体噴射ノズル２７は複数設けられている。各々の気体噴射ノズル２７は気体供給ユニット２５の上部で纏められており、電磁バルブ２９を備えた流路３０を介してポンプ３１と連通接続されている。

【0054】

すなわちポンプ３１は流路３０を介して、気体噴射ノズル２７へと気体を供給する。そして保持テーブル９上のウエハＷに対して、上方に位置する気体噴射ノズル２７から気体が吹き付けられるように構成されている。気体噴射ノズル２７は、本発明における気体供給機構に相当する。

【0055】

電磁バルブ２９の開閉およびポンプ３１の動作は、制御部２１によって統括制御される。なお制御部２１は、矯正装置７における各種動作の他、支持ピン１５の昇降移動や搬送アーム６の各種動作など、ウエハ処理装置１の各種動作についても統括制御する。制御部２１は、本発明における供給制御機構および吸着制御機構に相当する。

【0056】

ここで、ウエハＷの反り形状について説明する。ウエハＷに反りが発生する場合、ウエハＷは弓状に湾曲した形状、すなわち中央部から外縁部に向かうにつれて反りが大きくなる形状となることが一般的である。すなわち、反りが発生しているウエハＷを、回路形成面を上向きにして平坦なウエハ載置部１３に載置させた場合、正面視におけるウエハＷとウエハ載置部１３との位置関係は、図４（ａ）に示すパターン、または図４（ｂ）に示すパターンとなる。

【0057】

図４（ａ）に示す第１のパターンでは、ウエハＷの中央部においてウエハ載置部１３とウエハＷとが接している。そしてウエハＷの外縁部へ向かうに従って、ウエハＷはウエハ載置部１３からの浮き上がりが大きくなる。すなわちウエハＷとウエハ載置部１３の表面との距離Ｔは、ウエハＷの中央部から外縁部へと近づくに従って大きくなり、ウエハＷの外縁部において最大となる。

【0058】

一方、図４（ｂ）に示す第２のパターンでは、ウエハＷの外縁部においてウエハ載置部１３とウエハＷとが接している。そして、ウエハＷとウエハ載置部１３の表面との距離Ｔは、ウエハの外縁部からウエハＷの中央部へと近づくに従って大きくなり、ウエハＷの中央部において最大となる。なお実施例１において、ウエハＷには図４（ａ）に示す第１のパターンの反りが発生しているものとする。

【0059】

＜動作の説明＞
次に、実施例１に係る矯正装置７が備えられたウエハ処理装置１を用いて、ウエハＷを矯正して平坦化させるための一連の動作を説明する。

【0060】

ウエハ処理装置１の動作を開始すると、支持ピン１５の先端がウエハ載置部１３の載置面から突出するとともに、ウエハ搬送機構５の搬送アーム６がウエハ収納部３のカセットＣに挿入される。搬送アーム６のウエハ保持部６ａは、所定のウエハＷを裏面側から吸着保持して取り出し、矯正装置７の保持テーブル９上へと搬送する。

【0061】

ウエハ保持部６ａによって裏面吸着されているウエハＷは、図５（ａ）に示すように、保持テーブル９から突出している複数本の支持ピン１５に載置される。その後、図５（ｂ）に示すように、支持ピン１５が下降し、ウエハＷはウエハ載置部１３の上面に載置される。

【0062】

ウエハＷが保持テーブル９に載置されると、制御部２１は真空装置２０を作動させるとともに、電磁バルブ１８を開放する。当該制御により、ウエハ載置部１３に載置されているウエハＷの裏面は、吸着孔１７を介して吸引される。

【0063】

このとき、ウエハＷの中央部はウエハ載置部１３と接しているため、中心部におけるウエハＷの裏面はウエハ載置部１３によって安定に吸着保持される。ウエハＷの少なくとも一部が吸着保持されることにより、ウエハ載置部１３に載置されているウエハＷの位置を固定できる。一方、ウエハＷの外縁部はウエハ載置部１３から浮き上がっているため、外縁部におけるウエハＷの裏面はウエハ載置部１３の載置面に吸着されていない。すなわちこの時点ではウエハＷの裏面全体を吸着保持する状態には至っていない。

【0064】

そこで、制御部２１は保持テーブル９によるウエハＷの吸着を続行させつつ、加圧機構１１を制御することによってウエハＷを非接触で上方から加圧する操作を行う。すなわち制御部２１は可動部２３を下降させ、図６（ａ）に示すように、気体噴射ノズル２７の噴射口をウエハＷの表面へと近づける。さらに制御部２１は電磁バルブ２９を開放させるとともに、ポンプ３１を作動させ、気体噴射ノズル２７へと気体を供給させる。

【0065】

気体噴射ノズル２７の各々は図６（ｂ）に示すように、供給された気体をウエハＷの表面に向けて噴射させる。噴射された気体Ｎの圧力によって、ウエハＷはウエハ載置部１３の載置面へ向けて下方に押圧される。

【0066】

その結果、ウエハ載置部１３から浮き上がっていたウエハＷの外縁部は徐々にウエハ載置部１３の載置面へと近づいていく（図７（ａ））。すなわち、徐々にウエハＷの反りが矯正されて平坦になっていく。なお、このときウエハＷの中央部はウエハ載置部１３に吸着されているので、気体Ｎが吹き付けられることによってウエハＷの位置がずれるという事態を確実に防止できる。

【0067】

そして、ウエハＷの外縁部がウエハ載置部１３の載置面へと近づいていくことにより、ウエハＷの中央部のみならず、ウエハＷの外縁部も吸着孔１７を介して保持テーブル９に吸着され、ウエハＷは平坦化される（図７（ｂ））。ウエハＷを平坦化させることにより、ウエハＷの裏面全体がウエハ載置部１３に吸着される。よって、ウエハＷは保持テーブル９によって安定に吸着保持される。

【0068】

このように、気体噴射ノズル２７からウエハＷに気体Ｎを吹き付けることにより、非接触の状態すなわち押圧プレートなどの部材による機械的接触を行わない状態であっても、気体Ｎの圧力によってウエハの反りを精度よく矯正できる。

【0069】

ウエハＷを平坦化させてウエハＷの裏面全体を保持テーブル９に吸着させた後、気体噴射ノズル２７による気体Ｎの噴射と吸着孔１７を介した吸引とをさらに所定時間続行させる。十分にウエハＷの矯正が行われた後、制御部２１は電磁バルブ１８および２９を閉じるとともに、真空装置２０およびポンプ３１の作動を停止させる。以上の工程により、実施例１に係る矯正装置７が備えられたウエハ処理装置１を用いて、ウエハＷを矯正して平坦化させるための一連の動作は完了する。

【0070】

矯正過程が完了して平坦化されたウエハＷは、搬送アーム６などの搬送手段により矯正装置７から搬出され、ウエハＷに粘着テープを貼り付ける工程を例とする、以降の工程が行われる。以上で一巡の動作が終了し、以後同じ動作が繰り返される。

【0071】

＜実施例１の構成による効果＞
実施例１に係る構成では、保持テーブル９に載置させたウエハＷに対し、保持テーブル９に設けられている吸着孔を介して吸着を行うとともに、ウエハＷの上方に設けられている気体噴射ノズル２７を介してウエハＷに気体Ｎを吹き付ける。

【0072】

すなわち、吹き付けられた気体Ｎの圧力により、ウエハＷは保持テーブル９の載置面に向けて押圧される。従って、ウエハＷに対して十分な圧力を加えることができるので、ウエハＷの反りを確実に矯正して平坦化できる。

【0073】

またウエハＷを矯正するに際し、上向きに露出されているウエハＷの回路面に対して押圧プレートなどの部材が物理的に接触することがなく、気体Ｎが吹き付けられるに留まる。従って、物理的接触によってウエハＷの回路に損傷などの不具合が発生するという事態を確実に回避できる。よって、回路面が露出しているウエハＷなど従来の矯正装置では対応が困難なワークであっても、実施例１に係る矯正装置７は当該ワークを確実かつ精度よく矯正できる。

【0074】

なお、実施例１において、図４（ｂ）に示すような第２のパターンの反りが発生しているウエハＷを矯正する工程も、上述した第１のパターンの反りを矯正する工程と同様である。

【0075】

すなわち、搬送アーム６でウエハＷを吸着保持し、ウエハ収納部３から搬送装置７へと搬送する。そして上昇した状態の支持ピン１５を介してウエハＷを受け取り、支持ピン１５を下降させてウエハＷを保持テーブル９に載置させる。その後、真空装置２０を作動させて吸着孔１７を介した吸引を行うことにより、ウエハＷの外縁部が保持テーブル９のウエハ載置部１３に吸着される。

【0076】

ウエハＷの外縁部の吸着によりウエハＷの位置が固定されると、制御部２１はポンプ３１を作動させ、気体噴射ノズル２７から気体ＮをウエハＷの表面に吹き付ける。ウエハ載置部１３から浮き上がっていたウエハＷの中央部は、噴射された気体Ｎの圧力により押圧され、ウエハ載置部１３へと近づいていく。

【0077】

そして吸着孔１７によってウエハＷの中央部もウエハ載置部１３に吸着され、ウエハＷの裏面全体にわたって吸着保持される。保持テーブル９による吸着と気体噴射ノズル２７による気体Ｎの噴射とを所定時間行うことにより、第２のパターンの反りが発生しているウエハＷについても好適に矯正されて平坦化できる。

【実施例2】

【0078】

次に、本発明の実施例２を説明する。実施例１と実施例２において共通する構成については同一符号を付し、以下、実施例２に特徴的な構成について図面を用いて説明する。

【0079】

実施例１に係る矯正装置７では、吸着孔１７の各々および気体噴射ノズル２７の各々は、いずれも１つに纏められており単一の制御を受けている。一方、実施例２に係る矯正装置７は、吸着孔１７および気体噴射ノズル２７の少なくとも一方について、複数のブロックに分割されている。そしてブロックごとに纏められて当該ブロックごとに独立制御を受けるという点で実施例１の構成と相違する。

【0080】

実施例２において、吸着孔１７の各々を複数のブロックに分割する構成の一例を説明する。図８（ａ）に示すように、複数の吸着孔１７について、ウエハ載置部１３の中心からの距離、言い換えれば載置されるウエハＷの中心からの距離に応じて、吸着孔１７を複数のブロックに分割する。

【0081】

具体的には、ウエハ載置部１３の中心を共有する複数の同心円が形成されるように分割される。図８（ａ）に示される実施例２の構成において、吸着孔１７の各々は、最も中心部に近いブロックＢ１から、最も外縁部に近いブロックＢ４までの４つのブロックに分割される。

【0082】

そして、吸着孔１７の各々は、ブロックごとにそれぞれ独立したラインに纏められる。すなわち図８（ｂ）に示すように、吸着孔１７のうち、ブロックＢ１に属する吸着孔１７ａの各々はラインＬ１に纏められ、電磁バルブ１８ａを備えた流路１９ａを介して真空装置２０ａと連通接続されている。

【0083】

吸着孔１７のうち、ブロックＢ２に属する吸着孔１７ｂの各々はラインＬ２に纏められ、電磁バルブ１８ｂを備えた流路１９ｂを介して真空装置２０ｂと連通接続されている。ブロックＢ３に属する吸着孔１７ｃの各々は、ラインＬ３に纏められ、電磁バルブ１８ｃを備えた流路１９ｃを介して真空装置２０ｃと連通接続されている。ブロックＢ４に属する吸着孔１７ｃの各々はラインＬ４に纏められ、電磁バルブ１８ｄを備えた流路１９ｄを介して真空装置２０ｄと連通接続されている。

【0084】

ラインＬ１〜Ｌ４、および流路１９ａ〜１９ｄはそれぞれ独立している。また、制御部２１は、電磁バルブ１８ａ〜１８ｄを独立制御するとともに、真空装置２０ａ〜２０ｄを独立制御する。このように、吸着孔１７の各々をブロックごとに分割し、ブロックごとに制御することにより、ウエハ載置部１３の中央部における吸着孔１７を介した吸引力と、外縁部における吸着孔１７を介した吸引力とを独立に調整できる。

【0085】

次に、実施例２において、気体噴射ノズル２７の各々を複数のブロックに分割する構成の一例を説明する。図９（ａ）に示すように、複数の気体噴射ノズル２７について、気体供給ユニット２５の中心からの距離、言い換えれば載置されるウエハＷの中心に対面する位置からの距離に応じて、複数の気体噴射ノズル２７を複数のブロックに分割する。図９（ａ）において、気体噴射ノズル２７の各々は最も中心部に近いブロックＣ１から、最も外縁部に近いブロックＣ５までの５つのブロックに分割される。

【0086】

そして、気体噴射ノズル２７の各々は、ブロックごとにそれぞれ独立したラインに纏められる。すなわち図９（ｂ）に示すように、気体噴射ノズル２７のうち、ブロックＣ１に属する気体噴射ノズル２７ａの各々は、同じラインＬ１に纏められ、電磁バルブ２９ａを備えた流路３０ａを介してポンプ３１ａと連通接続されている。

【0087】

同様に、ブロックＣ２に属する気体噴射ノズル２７ｂの各々はラインＬ２に纏められ、電磁バルブ２９ｂを備えた流路３０ｂを介してポンプ３１ｂと連通接続されている。ブロックＣ３に属する気体噴射ノズル２７ｃの各々はラインＬ３に纏められ、電磁バルブ２９ｃを備えた流路３０ｃを介してポンプ３１ｃと連通接続されている。

【0088】

ブロックＣ４に属する気体噴射ノズル２７ｄの各々はラインＬ４に纏められ、電磁バルブ２９ｄを備えた流路３０ｄを介してポンプ３１ｄと連通接続されている。ブロックＣ５に属する気体噴射ノズル２７ｅの各々はラインＬ５に纏められ、電磁バルブ２９ｅを備えた流路３０ｅを介してポンプ３１ｅと連通接続されている。

【0089】

制御部２１は、電磁バルブ２９ａ〜２９ｅを独立制御するとともに、ポンプ３１ａ〜３１ｅを独立制御する。このように、気体噴射ノズル２７の各々をブロックごとに分割し、ブロックごとに制御することにより、気体Ｎの噴射によりウエハＷの中央部に対して作用する圧力と、ウエハＷの外縁部に対して作用する圧力とを独立に調整できる。

【0090】

また、実施例２に係る矯正装置７はセンサ３５を備えている。センサ３５は、ウエハ載置部１３に載置されたウエハＷの反りの形状を検知する。また、センサ３５の例として、図８（ｂ）に示すような、ウエハ載置部１３の周囲に配設された光学センサや超音波センサ、またはウエハ載置部１３に配設された接触センサなどが挙げられる。一例としてセンサ３５が接触センサである場合、ウエハＷのうち中央部がウエハ載置部１３と接触している場合、ウエハＷの反りの形状は図４（ａ）に示す第１のパターンであると検知できる。

【0091】

センサ３５が検知した、ウエハＷの反りの形状に関する情報は制御部２１に送信される。制御部２１は反りの形状に関する情報に基づいて、ブロックＢ１〜Ｂ４の各々における吸着孔１７の吸引力と、ブロックＣ１〜Ｃ５の各々における気体噴射ノズル２７の噴射力とを独立して制御できる。

【0092】

次に、実施例２に係る矯正装置７が備えられたウエハ処理装置１を用いて、ウエハＷを矯正して平坦化させるための一連の動作を説明する。なお実施例２においても実施例１と同様に、ウエハＷには図４（ａ）に示す第１のパターンの反りが発生しているものとする。

【0093】

ウエハＷを保持テーブル９に載置させるまでの工程は実施例１と実施例２とは共通する。すなわち、ウエハ処理装置１の動作を開始すると、支持ピン１５の先端をウエハ載置部１３の載置面から突出させるとともに、ウエハ収納部３に収納されていたウエハＷを保持テーブル９へと搬送させる。そして保持テーブル９から突出している支持ピン１５にウエハＷを載置させる。その後、支持ピン１５が下降し、ウエハＷはウエハ載置部１３の上面に載置される。

【0094】

ウエハＷが保持テーブル９に載置されると、センサ３５が作動してウエハＷの反りの形状が検知される。この場合、ウエハＷの反りの形状は第１のパターンである旨の情報が制御部２１へと送信される。すなわち、保持テーブル９に載置されたウエハＷは、中央部においてウエハ載置部１３の載置面に接している。

【0095】

制御部２１は真空装置２０ａ〜２０ｄの各々を作動させるとともに、電磁バルブ１８ａ〜１８ｄを開放する。当該制御により、ウエハＷのうち少なくとも中央部は吸着孔１７を介してウエハ載置部１３に吸着される。

【0096】

その後、制御部２１はさらにポンプ３１ａ〜３１ｅの各々を作動させるとともに、電磁バルブ２９ａ〜２９ｅを開放させ、気体噴射ノズル２７ａ〜２７ｅの各々に気体を供給する。このとき、制御部２１はウエハＷの反りの形状に応じて、ポンプ３１ａ〜３１ｅの各々と電磁バルブ２９ａ〜２９ｅの各々とを独立に制御する。

【0097】

ウエハＷの反りが第１のパターンである場合、ウエハＷの中央部と比べて外縁部の方がウエハ載置部１３から浮き上がっている。すなわち、ウエハＷの中央部と比べて外縁部の方をより強く押圧する必要がある。そこで制御部２１は、ウエハＷの外縁部に近づくにつれて気体噴射ノズル２７の噴射力を段階的に強くするように制御する。

【0098】

すなわち図１０に示すように、気体噴射ノズル２７ａ〜２７ｅの各々から吹き付けられる気体Ｎ１〜Ｎ５のうち、気体噴射ノズル２７ａから噴射される気体Ｎ１の圧力を最も低くする。そして、気体噴射ノズル２７ｂから噴射される気体Ｎ２、気体噴射ノズル２７ｃから噴射される気体Ｎ３、気体噴射ノズル２７ｄから噴射される気体Ｎ４、気体噴射ノズル２７ｅから噴射される気体Ｎ５の順に、噴射される気体Ｎの圧力を段階的に変化させる。すなわち、気体噴射ノズル２７ｅから噴射される気体Ｎ５の圧力が最も高くなるように制御される。

【0099】

ウエハＷの中央部には気体噴射ノズル２７ａから噴射される気体Ｎ１が吹き付けられ。ウエハＷの外縁部には気体噴射ノズル２７ｅから噴射される気体Ｎ５が吹き付けられる。そのため、気体Ｎ５の圧力を最も高くすることにより、ウエハ載置部１３から大きく浮き上がっているウエハＷの外縁部は気体Ｎ５によってより強く押圧され、速やかにウエハ載置部１３へと近づく。

【0100】

また、制御部２１は吸着孔１７の各々についても同様の制御を行う。すなわち真空装置２０ａ〜２０ｄの各々と電磁バルブ１８ａ〜１８ｄの各々とを独立に制御し、吸着孔１７ａ〜１７ｅのうち、吸着孔１７ａの吸引力を最も弱くさせる。そして吸着孔１７ｂ、吸着孔１７ｃ、吸着孔１７ｄの順に吸引力を段階的に変化させていき、吸着孔１７ｄの吸引力を最も強くさせる。

【0101】

吸着孔１７ｄの吸引力を最も強く制御することにより、気体Ｎ５によってより強く押圧されてウエハ載置部１３へと近づいていたウエハＷの外縁部は、より確実かつ速やかに吸着孔１７ｄによって吸着される。従って、ウエハＷの中心からの距離に応じて吸着孔１７の吸引力と気体噴射ノズル２７の噴射力とを独立制御することにより、最も反りの大きいウエハＷの外縁部をより確実かつ速やかに矯正し、ウエハＷの全体を平坦化できる。

【0102】

実施例１と同様、平坦化されたウエハＷの裏面全体を保持テーブル９で吸着しつつ、気体噴射ノズル２７による気体Ｎの噴射を所定時間行うことにより、ウエハＷを矯正する一連の過程は完了する。

【0103】

なお、センサ３５によって検知されたウエハＷの反りの形状が、図４（ｂ）に示すような第２のパターンで合った場合、制御部２１による各構成の制御は図１１に示す通りとなる。

【0104】

ウエハＷの反りが第２のパターンである場合、ウエハＷの外縁部と比べて中央部の方がウエハ載置部１３から浮き上がっている。すなわち、ウエハＷの外縁部と比べて中央部の方をより強く押圧する必要がある。

【0105】

そこで制御部２１は、ウエハＷの中央部に近づくにつれて気体噴射ノズル２７の噴射力を段階的に強くするように制御する。すなわち、気体噴射ノズル２７ａ〜２７ｅの各々から吹き付けられる気体Ｎ１〜Ｎ５のうち、気体噴射ノズル２７ａから噴射される気体Ｎ１の圧力を最も高くする。

【0106】

そして、気体Ｎ２、気体Ｎ３、気体Ｎ４、気体Ｎ５の順に、噴射される気体Ｎの圧力を段階的に変化させ、気体噴射ノズル２７ｅから噴射される気体Ｎ５の圧力が最も低くなるように制御される。気体Ｎ１の圧力を最も高くすることにより、ウエハ載置部１３から大きく浮き上がっているウエハＷの中央部は気体Ｎ１によってより強く押圧され、速やかにウエハ載置部１３へと近づくこととなる。

【0107】

一方、既にウエハ載置部１３と近接しているウエハＷの外縁部は、低圧の気体Ｎ５によって押圧されるので、過度に高い圧力がウエハＷの外縁部に作用し、当該外縁部がウエハ載置部１３に押し当てられて歪むという事態を回避できる。

【0108】

また、制御部２１は吸着孔１７の各々についても同様の制御を行う。すなわち真空装置２０ａ〜２０ｄの各々と電磁バルブ１８ａ〜１８ｄの各々とを独立に制御し、吸着孔１７ａ〜１７ｄのうち、吸着孔１７ｄの吸引力を最も弱くさせる。

【0109】

そして吸着孔１７ｃ、吸着孔１７ｂ、吸着孔１７ａの順に吸引力を段階的に変化させていき、吸着孔１７ａの吸引力を最も強くさせる。吸着孔１７ａの吸引力を最も強く制御することにより、気体Ｎ１によってより強く押圧されてウエハ載置部１３へと近づいていたウエハＷの中央部を、より確実かつ速やかに吸着できる。よって、第２のパターンに沿った反りについても精度良く矯正できる。

【0110】

＜実施例２の構成による効果＞
実施例２に係る矯正装置７は、気体噴射ノズル２７の各々を複数のブロックに分割し、噴射される気体の圧力をブロックごとに独立制御する。独立制御することにより、ウエハＷのうち反りが比較的小さい部分には低圧の気体Ｎを吹き付けて押圧する一方、反りが比較的大きい部分には高圧の気体Ｎを吹き付けて押圧することができる。

【0111】

このように、反りの大きさに応じて気体噴射ノズル２７から吹き付けられる気体の圧力を調節することにより、ウエハＷのうち反りの大きい部分については高圧の気体を吹き付けることにより、反りが大きくとも確実かつ速やかに当該反りを矯正できる。一方、反りの小さい部分については低圧の気体を吹き付けることにより、反りの小さい部分に対して過度に大きい圧力が作用することにより、ウエハＷの当該部分に歪みが新たに発生する事態を回避できる。従って、より精度良くウエハＷの反りを矯正して平坦化できる。

【0112】

また、一端側の外縁部と他端側の外縁部など、反りの量が略同じ部位における気体噴射ノズル２７の各々は同じブロックに纏められて共通の制御を受ける。従って、ブロックごとに独立制御する構成とすることにより、気体噴射ノズル２７ごとに独立制御する構成と比べて制御機構を単純化できる。

【0113】

さらに、実施例２では吸着孔１７の各々についても複数のブロックに分割し、吸引力をブロックごとに独立制御する。そのため、ウエハＷ全体のうち、反りが比較的大きい部分をより強い力で吸引するので、当該吸引力によって反りが大きい部分を確実かつ速やかに平坦となるよう矯正し、吸着孔１７に吸着させることができる。

【0114】

一方、ウエハＷ全体のうち反りが比較的小さい部分については比較的弱い力で吸引するので、過度に強い力で吸引することによって、反りの小さい部分が過剰な力で保持テーブル９に吸着されて新たに歪みが発生するという事態を回避できる。従って、ウエハＷの反りを矯正する精度を向上できる。

【0115】

実施例２において好ましい構成として、センサ３５を用いてウエハＷの反りの形状を予め検知しておき、当該反りの形状に応じて気体噴射ノズル２７から噴射される気体の圧力を独立制御する。予めウエハＷの反りの形状を検知することにより、ウエハＷの反りの形状に対して、各々の部分に対して適切な大きさの圧力を気体噴射ノズル２７によって作用させることができる。よって、さらに精度よくウエハＷの反りを矯正して平坦化できる。

【0116】

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

【0117】

（１）上記各実施例に係る構成において、保持テーブル９または加圧機構１１に位置合わせ用の支持部が設けられていることが好ましい。

【0118】

図１２（ａ）には、保持テーブル９に支持部４５が立設されている構成を例示している。支持部４５は一例としてリング状であり、その内径はウエハＷの径よりわずかに大きくなるように構成されている。また、ウエハ載置部１３と中心を共有している。そのため、ウエハ載置部１３に載置されたウエハＷは支持部４５によって位置合わせされる。

【0119】

また、所定の高さＤを備える支持部４５を立設させることにより、気体供給ユニット２５を下降させて気体噴射ノズル２７を保持テーブル９上のウエハＷに近づける際に、支持部４５の先端が気体供給ユニット２５に当接するため、気体噴射ノズル２７とウエハＷとの距離が過度に近づくことを防止できる。すなわち、支持部４５は保持テーブル９上におけるウエハＷの位置ズレを防止するに留まらず、上下方向（ｚ方向）における気体噴射ノズル２７とウエハＷとの間の位置合わせも行う。

【0120】

支持部４５には図１２（ａ）および図１２（ｂ）に示すように、気体排出孔４７が設けられている。そのため、リング状の支持部４５によってウエハＷが囲まれた状態で気体噴射ノズル２７から気体Ｎが吹き付けられた場合であっても、気体Ｎを気体排出孔４７から排出できる。なお、ウエハＷの位置合わせを行える限りにおいて、支持部４５の形状はリング状に限ることはなく、一例として図１２（ｃ）に示すようなピン状であってもよい。

【0121】

（２）上記各実施例に係る構成において、複数の気体噴射ノズル２７が設けられている構成を例示しているが、気体噴射ノズル２７は１つでもよい。この場合、図１３（ａ）に示すように、気体噴射ノズル２７はウエハＷの中央部に対向する位置に設けられることが好ましい。

【0122】

当該変形例の構成において、気体噴射ノズル２７からウエハＷに向けて気体Ｎを噴射することにより、図１３（ｂ）のように気体ＮはウエハＷの中央部に吹き付けられ、ウエハＷの中央部がまず気体Ｎによってウエハ載置部１３へ押圧される。

【0123】

その後、図１３（ｃ）に示すように、気体ＮはウエハＷの上面に沿って広がるように流れ、ウエハＷの中間部および外縁部をウエハ載置部１３へと押圧する。その結果、ウエハＷは全面にわたってウエハ載置部１３に吸着保持されて平坦化する。矯正装置７に支持部４５が設けられている場合、気体Ｎは気体排出孔４７から矯正装置７の外部へと排出される。このように、気体噴射ノズル２７の数に関わらず、ウエハＷを非接触の状態で精度よく矯正できる。

【0124】

（３）上記実施例２および実施例２をベースとする各変形例において、吸着孔１７または気体噴射ノズル２７を、中心からの距離に応じて複数のブロックに分割する構成を例示している。しかし、吸着孔１７または気体噴射ノズル２７を複数のブロックに分割する構成はこれに限られない。

【0125】

複数のブロックに分割する構成の他の一例として、図１４（ａ）に示すように、ｘ方向またはｙ方向に並ぶ１列または複数列の気体噴射ノズル２７を１つのブロックとして、気体噴射ノズル２７の各々を複数のブロックＥ１〜Ｅ５に分割する構成が挙げられる。

【0126】

このような変形例に係るブロック分割を行って当該ブロックごとに独立制御を行うことにより、図４（ａ）および図４（ｂ）に示す一般的な形状とは異なる形状の反りがウエハＷに発生している場合であっても、精度良く当該反りを矯正できる。

【0127】

一例として、図１４（ｂ）に示すように、ｘ方向に波打つような形状の反りが発生しているウエハＷに対し、ウエハＷの各部分に発生している反りの大きさに応じて、気体噴射ノズル２７から吹き付けられる気体Ｎの圧力を適宜調整できる。よって、当該波打つ形状の反りを矯正し、ウエハＷを平坦化できる。

【0128】

（４）上記各実施例および各変形例に係る構成において、反りなどの歪みを矯正して平坦化させる対象であるワークとして、表面に形成された回路パターンが露出している状態のウエハＷを用いる場合を例示したがこれに限られない。

【0129】

矯正の対象となるワークとして用いられる構成としては、ウエハＷの他にガラスやセラミック、有機材料などで構成される基板などが挙げられる。また、ワークの形状も円形に限ることはなく、ノッチやオリエンテーションフラットを備えるウエハの形状に沿った、凹部や直線部を含む略円形状や、基板などの形状に応じた、矩形状、略矩形状、多角形状など種々の形状のワークについても本発明の構成を適用できる。

【0130】

この場合、ウエハ載置部１３および気体供給ユニット２５の形状、並びに吸着孔１７の配置および気体噴射ノズル２７の配置は、ワークの形状に応じて適宜変更できる。

【符号の説明】

【0131】

１ … ウエハ処理装置
３ … ウエハ収納部
５ … ウエハ搬送機構
６ … 搬送アーム
６ａ … ウエハ保持部
７ … 矯正装置
９ … 保持テーブル
１１ … 加圧機構
１３ … ウエハ載置部
１５ … 支持ピン
１７ … 吸着孔
２０ … 真空装置
２１ … 制御部
２７ … 気体噴射ノズル
３１ … ポンプ
Ｗ … 半導体ウエハ
Ｃ … カセット

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】