【図1A】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1B】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1C】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1D】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1E】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1F】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1G】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1H】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1I】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1J】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1K】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1L】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1M】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1N】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1O】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1P】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1Q】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1R】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図1S】製造の連続的段階で示される、例示の集積回路の断面図である。

【図2A】図１Ａ〜図１Ｓの集積回路の断面図であり、単結晶領域及び非結晶領域を形成する、また、後続の放射誘導再結晶化プロセスのための、代替の方法を示す。

【図2B】図１Ａ〜図１Ｓの集積回路の断面図であり、単結晶領域及び非結晶領域を形成する、また、後続の放射誘導再結晶化プロセスのための、代替の方法を示す。

【図2C】図１Ａ〜図１Ｓの集積回路の断面図であり、単結晶領域及び非結晶領域を形成する、また、後続の放射誘導再結晶化プロセスのための、代替の方法を示す。

【図2D】図１Ａ〜図１Ｓの集積回路の断面図であり、単結晶領域及び非結晶領域を形成する、また、後続の放射誘導再結晶化プロセスのための、代替の方法を示す。

【図2E】図１Ａ〜図１Ｓの集積回路の断面図であり、単結晶領域及び非結晶領域を形成する、また、後続の放射誘導再結晶化プロセスのための、代替の方法を示す。

【図2F】図１Ａ〜図１Ｓの集積回路の断面図であり、単結晶領域及び非結晶領域を形成する、また、後続の放射誘導再結晶化プロセスのための、代替の方法を示す。

【図2G】図１Ａ〜図１Ｓの集積回路の断面図であり、単結晶領域及び非結晶領域を形成する、また、後続の放射誘導再結晶化プロセスのための、代替の方法を示す。