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特開2019-24101チップ内蔵型印刷回路基板および半導体パッケージ
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】特開2019-24101(P2019-24101A)
(43)【公開日】2019年2月14日
(54)【発明の名称】チップ内蔵型印刷回路基板および半導体パッケージ
(51)【国際特許分類】
   H05K 3/46 20060101AFI20190118BHJP
   H01L 23/12 20060101ALI20190118BHJP
   H01L 25/10 20060101ALI20190118BHJP
   H01L 25/11 20060101ALI20190118BHJP
   H01L 25/18 20060101ALI20190118BHJP
   H01L 23/36 20060101ALI20190118BHJP
   H05K 1/02 20060101ALI20190118BHJP
【FI】
   H05K3/46 Q
   H05K3/46 U
   H01L23/12 501P
   H01L25/14 Z
   H01L23/12 J
   H01L23/36 Z
   H05K1/02 Q
【審査請求】有
【請求項の数】16
【出願形態】OL
【全頁数】20
(21)【出願番号】特願2018-172433(P2018-172433)
(22)【出願日】2018年9月14日
(62)【分割の表示】特願2013-244798(P2013-244798)の分割
【原出願日】2013年11月27日
(31)【優先権主張番号】10-2012-0143615
(32)【優先日】2012年12月11日
(33)【優先権主張国】KR
(71)【出願人】
【識別番号】594023722
【氏名又は名称】サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド.
(74)【代理人】
【識別番号】110000877
【氏名又は名称】龍華国際特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】ホン・スク・チャン
(72)【発明者】
【氏名】ビュン・ジョン・ス
(72)【発明者】
【氏名】パク・サン・カブ
(72)【発明者】
【氏名】ヨム・クァン・ソプ
【テーマコード(参考)】
5E316
5E338
5F136
【Fターム(参考)】
5E316AA02
5E316AA43
5E316CC08
5E316CC09
5E316CC10
5E316CC13
5E316CC32
5E316CC38
5E316DD03
5E316EE31
5E316FF07
5E316FF09
5E316FF14
5E316GG15
5E316GG17
5E316GG18
5E316HH17
5E316JJ06
5E338AA03
5E338AA16
5E338BB03
5E338CC08
5E338EE02
5F136BA30
5F136BB18
5F136DA03
5F136EA01
5F136FA02
5F136FA03
5F136GA40
(57)【要約】
【課題】本発明は、チップ内蔵型印刷回路基板及びそれを用いた半導体パッケージ、並び
にチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法に関する。
【解決手段】本発明によるチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージは、Po
P構造の上、下部半導体パッケージを含み、下部半導体パッケージは、内部に所定の回路
パターンを有するベース基板と、前記回路パターンに電気的に連結され、一面が前記ベー
ス基板の上面に露出するようにベース基板に内蔵設置される電子部品と、前記電子部品の
露出面に設けられ、電子部品から発生する熱を外部に放出する放熱部材と、を含む。この
ような本発明によると、熱放出機能に優れた半導体パッケージ製品を製造することができ
、これにより製品に対する信頼度を増すことができる。
【選択図】図3
【特許請求の範囲】
【請求項1】
内部に所定の回路パターンを有するベース基板と、
前記回路パターンに電気的に連結され、一面が前記ベース基板の上面に露出するように
ベース基板に内蔵設置される電子部品と、
前記電子部品の露出面に設けられ、電子部品から発生する熱を外部に放出する放熱部材
と、を含む、チップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項2】
前記ベース基板の内部に前記回路パターンを互いに接続させるビア構造物をさらに有し
ており、前記ベース基板の上面上に前記ビア構造物に連結され、追加の印刷回路基板又は
半導体パッケージに電気的に接続するためのボールパッドをさらに含む、請求項1に記載
のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項3】
前記放熱部材は熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質で構成される、請求項1に記載の
チップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項4】
前記放熱部材は銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの合金で構成される、請
求項3に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項5】
前記放熱部材は放熱性に優れた金属で構成され、前記ボールパッドは前記放熱部材とは
異なる金属である電気伝導度に優れた金属で構成される、請求項2に記載のチップ内蔵型
印刷回路基板。
【請求項6】
前記放熱部材はAlで構成され、前記ボールパッドはCu、Au、Ptのうち何れか一
つの金属で構成される、請求項5に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項7】
前記放熱部材が設けられた面の反対側の前記ベース基板の表面に露出した回路パターン
の間の空間に形成される回路保護用絶縁材をさらに含む、請求項1に記載のチップ内蔵型
印刷回路基板。
【請求項8】
前記回路保護用絶縁材はソルダレジストで構成される、請求項7に記載のチップ内蔵型
印刷回路基板。
【請求項9】
パッケージオンパッケージ構造の半導体パッケージにおける下部に位置してベース機能
を行う下部半導体パッケージと、
前記下部半導体パッケージ上に積層されて下部半導体パッケージとともに全体的に一つ
の一体化したパッケージオンパッケージ構造の半導体パッケージを構成する上部半導体パ
ッケージと、を含み、
前記下部半導体パッケージは、
内部に所定の回路パターンを有するベース基板と、
前記回路パターンに電気的に連結され、一面が前記ベース基板の上面に露出するように
ベース基板に内蔵設置される電子部品と、
前記電子部品の露出面に設けられ、電子部品から発生する熱を外部に放出する放熱部材
と、を含む、チップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージ。
【請求項10】
前記ベース基板の内部に前記回路パターンを互いに接続させるビア構造物をさらに有し
ており、前記ベース基板の上面上に前記ビア構造物に連結され、追加の印刷回路基板又は
半導体パッケージに電気的に接続するためのボールパッドをさらに含む、請求項9に記載
のチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージ。
【請求項11】
前記放熱部材は熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質で構成される、請求項9に記載の
チップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージ。
【請求項12】
前記放熱部材は銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの合金で構成される、請
求項11に記載のチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージ。
【請求項13】
前記放熱部材は放熱性に優れた金属で構成され、前記ボールパッドは前記放熱部材とは
異なる金属である電気伝導度に優れた金属で構成される、請求項10に記載のチップ内蔵
型印刷回路基板を用いた半導体パッケージ。
【請求項14】
前記放熱部材はAlで構成され、前記ボールパッドはCu、Au、Ptのうち何れか一
つの金属で構成される、請求項13に記載のチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パ
ッケージ。
【請求項15】
前記放熱部材が設けられた面の反対側の前記ベース基板の表面に露出した回路パターン
の間の空間に形成される回路保護用絶縁材をさらに含む、請求項9に記載のチップ内蔵型
印刷回路基板を用いた半導体パッケージ。
【請求項16】
前記回路保護用絶縁材はソルダレジストで構成される、請求項15に記載のチップ内蔵
型印刷回路基板を用いた半導体パッケージ。
【請求項17】
放熱部材の一面に電子部品を接合する段階と、
前記放熱部材の前記一面上に前記電子部品が埋め込まれるように絶縁層を形成する段階
と、
前記絶縁層の内部に前記電子部品に電気的に連結される回路パターンを形成する段階と

前記放熱部材をエッチングして前記電子部品に接触する放熱パターンを形成する段階と
、を含む、チップ内蔵型印刷回路基板の製造方法。
【請求項18】
前記絶縁層を形成する段階及び前記回路パターンを形成する段階は、複数回繰り返して
行われる、請求項17に記載のチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法。
【請求項19】
前記絶縁層上に前記回路パターンの少なくとも一部に連結されるボールパッドを形成す
る段階をさらに含む、請求項17に記載のチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法。
【請求項20】
前記ボールパッドは前記放熱パターンと同時に形成される、請求項19に記載のチップ
内蔵型印刷回路基板の製造方法。
【請求項21】
所定の回路パターンが形成されたベース基板を準備する段階と、
前記ベース基板の上部を部分的に除去して前記回路パターンの一部を露出するキャビテ
ィを形成する段階と、
前記回路パターンに電気的に連結されるように電子部品を前記キャビティの内部に挿入
する段階と、
前記ベース基板の上面及び前記電子部品の露出面上に放熱部材を形成する段階と、
前記放熱部材をエッチングして前記電子部品の露出面上に放熱パターンを形成する段階
と、を含む、チップ内蔵型印刷回路基板の製造方法。
【請求項22】
前記ベース基板上に前記回路パターンの少なくとも一部に連結されるボールパッドを形
成する段階をさらに含む、請求項21に記載のチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法。
【請求項23】
前記ボールパッドは前記放熱パターンと同時に形成される、請求項22に記載のチップ
内蔵型印刷回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、チップ内蔵型印刷回路基板及びそれを用いた半導体パッケージ、並びにチッ
プ内蔵型印刷回路基板の製造方法に関し、特に、基板に内蔵したチップに対応する部分の
基板の表面に放熱手段を設けることで放熱機能を向上させることができるチップ内蔵型印
刷回路基板及びそれを用いた半導体パッケージ、並びにチップ内蔵型印刷回路基板の製造
方法に関する。
【背景技術】
【0002】
電子製品(例えば、携帯電話)の高機能化による接続可能性(connectivit
y)の増加及び通信周波数の増加に伴い、PCBに二重コア又は四重コアなどが採択され
、AP(application processor)パッケージの放熱に対する解決
策が求められている。
【0003】
図1は従来PoP構造の半導体パッケージの例を示す図面である。
【0004】
図1に図示されたように、従来PoP構造の半導体パッケージは、電子部品(例えば、
AP(application processor)チップ)112、122がモール
ディング材113、123などにより塗布された構造を有することができる。また、基板
111、121内に樹脂(resin)により電子部品112、122が埋め込まれた構
造を有することもできる。
【0005】
従って、電子部品112、122から発生する熱がスムーズに放出されることができず
、そのため発生熱による誤動作や素子の劣化の問題がある。図1において、参照符号11
0は上部半導体パッケージを示し、120は下部半導体パッケージを示す。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】韓国公開特許第10‐2011‐0111232号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明は、前記のような事項を勘案して導き出されたものであり、基板に内蔵したチッ
プからの熱を効果的に放出させることができるチップ内蔵型印刷回路基板及びそれを用い
た半導体パッケージ、並びにチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法を提供することを目的
とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
前記の目的を果たすために本発明によるチップ内蔵型印刷回路基板は、内部に所定の回
路パターンを有するベース基板と、前記回路パターンに電気的に連結され、一面が前記ベ
ース基板の上面に露出するようにベース基板に内蔵設置される電子部品と、前記電子部品
の露出面に設けられ、電子部品から発生する熱を外部に放出する放熱部材と、を含む点を
特徴とする。
【0009】
ここで、前記ベース基板の内部に前記回路パターンを互いに接続させるビア構造物をさ
らに有しており、前記ベース基板の上面上に前記ビア構造物に連結され、追加の印刷回路
基板又は半導体パッケージに電気的に接続するためのボールパッドをさらに含むことがで
きる。
【0010】
また、前記放熱部材としては熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質が用いられることが
できる。
【0011】
この際、前記放熱部材としては銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの合金が
用いられることができる。
【0012】
また、前記放熱部材は放熱性に優れた金属(例えば、Al)で構成され、前記ボールパ
ッドは前記放熱部材とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属(例えば、Cu、Au
、Ptなど)で構成されることができる。
【0013】
この際、前記放熱部材はAlで構成され、前記ボールパッドはCu、Au、Ptのうち
何れか一つの金属で構成されることができる。
【0014】
また、前記放熱部材が設けられた面の反対側の前記ベース基板の表面に露出した回路パ
ターンの間の空間に形成される回路保護用絶縁材をさらに含むことができる。
【0015】
この際、前記回路保護用絶縁材としてはソルダレジストが用いられることができる。
【0016】
また、前記の目的を果たすために本発明によるチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導
体パッケージは、PoP構造の半導体パッケージにおける下部に位置してベース機能を行
う下部半導体パッケージと、前記下部半導体パッケージ上に積層されて下部半導体パッケ
ージとともに全体的に一つの一体化したPoP構造の半導体パッケージを構成する上部半
導体パッケージと、を含み、前記下部半導体パッケージは、内部に所定の回路パターンを
有するベース基板と、前記回路パターンに電気的に連結され、一面が前記ベース基板の上
面に露出するようにベース基板に内蔵設置される電子部品と、前記電子部品の露出面に設
けられ、電子部品から発生する熱を外部に放出する放熱部材と、を含む点を特徴とする。
【0017】
ここで、前記ベース基板の内部に前記回路パターンを互いに接続させるビア構造物をさ
らに有しており、前記ベース基板の上面上に前記ビア構造物に連結され、追加の印刷回路
基板又は半導体パッケージに電気的に接続するためのボールパッドをさらに含むことがで
きる。
【0018】
また、前記放熱部材としては熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質が用いられることが
できる。
【0019】
この際、前記放熱部材としては銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの合金が
用いられることができる。
【0020】
また、前記放熱部材は放熱性に優れた金属(例えば、Al)で構成され、前記ボールパ
ッドは前記放熱部材とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属(例えば、Cu、Au
、Ptなど)で構成されることができる。
【0021】
この際、前記放熱部材はAlで構成され、前記ボールパッドはCu、Au、Ptのうち
何れか一つの金属で構成されることができる。
【0022】
また、前記放熱部材が設けられた面の反対側の前記ベース基板の表面に露出した回路パ
ターンの間の空間に形成される回路保護用絶縁材をさらに含むことができる。
【0023】
この際、前記回路保護用絶縁材としてはソルダレジストが用いられることができる。
【0024】
また、前記の目的を果たすために本発明の一形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製
造方法は、放熱部材の一面に電子部品を接合する段階と、前記放熱部材の前記一面上に前
記電子部品が埋め込まれるように絶縁層を形成する段階と、前記絶縁層の内部に前記電子
部品に電気的に連結される回路パターンを形成する段階と、前記放熱部材をエッチングし
て前記電子部品に接触する放熱パターンを形成する段階と、を含む点を特徴とする。
【0025】
ここで、前記絶縁層を形成する段階及び前記回路パターンを形成する段階は、複数回繰
り返して行われることができる。
【0026】
また、前記絶縁層上に前記回路パターンの少なくとも一部に連結されるボールパッドを
形成する段階をさらに含むことができる。
【0027】
また、前記ボールパッドは前記放熱パターンと同時に形成されることができる。
【0028】
また、前記の目的を果たすために本発明の他の形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の
製造方法は、所定の回路パターンが形成されたベース基板を準備する段階と、前記ベース
基板の上部を部分的に除去して前記回路パターンの一部を露出するキャビティを形成する
段階と、前記回路パターンに電気的に連結されるように電子部品を前記キャビティの内部
に挿入する段階と、前記ベース基板の上面及び前記電子部品の露出面上に放熱部材を形成
する段階と、前記放熱部材をエッチングして前記電子部品の露出面上に放熱パターンを形
成する段階と、を含む点を特徴とする。
【0029】
ここで、前記ベース基板上に前記回路パターンの少なくとも一部に連結されるボールパ
ッドを形成する段階をさらに含むことができる。
【0030】
また、前記ボールパッドは前記放熱パターンと同時に形成されることができる。
【発明の効果】
【0031】
このような本発明によると、電子部品の一面を印刷回路基板の外部に露出するように印
刷回路基板に内蔵し、その内蔵した電子部品の露出部に放熱部材がすぐ接触するように設
けられることで電子部品から発生する熱を外部に効果的に放出させることができる。
【0032】
また、このような構造の半導体内蔵型印刷回路基板を下部パッケージとして用いて、そ
の上に上部パッケージを積層して全体的に一体化した一つの半導体パッケージを構成する
ことで熱放出機能に優れた半導体パッケージ製品を製造することができ、これにより製品
に対する信頼度を増すことができる。
【図面の簡単な説明】
【0033】
図1】従来PoP構造の半導体パッケージの例を示す図面である。
図2】本発明の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の構造を示す図面である。
図3】本発明の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージの構造を示す図面である。
図4】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法の実行過程を示すフローチャートである。
図5a】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5b】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5c】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5d】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5e】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5f】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5g】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5h】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5i】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5j】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図5k】本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図6】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法の実行過程を示すフローチャートである。
図7a】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7b】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7c】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7d】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7e】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7f】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7g】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7h】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7i】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7j】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
図7k】本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に説明するための図面である。
【発明を実施するための形態】
【0034】
本明細書及び特許請求の範囲に用いられた用語や単語は、通常的又は辞書的な意味に限
定して解釈してはならず、発明者が自分の発明を最善の方法で説明するために用語の概念
を適切に定義することができるという原則に即して本発明の技術的思想に合致する意味と
概念に解釈しなければならない。
【0035】
明細書全体において、ある部分がある構成要素を「含む」とするときに、これは特に反
対の記載がない限り、他の構成要素を除くものではなく、他の構成要素をさらに含むこと
ができるということを意味する。また、明細書に記載の「…部」、「…器」、「モジュー
ル」、「装置」などの用語は、少なくとも一つの機能や動作を処理する単位を意味し、こ
れはハードウェアやソフトウェア又はハードウェア及びソフトウェアの結合により具現す
ることができる。
【0036】
以下、添付の図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。
【0037】
図2は本発明の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の構造を示す図面である。
【0038】
図2を参照すると、本発明によるチップ内蔵型印刷回路基板は、ベース基板303と、
電子部品302と、放熱部材301と、を含んで構成される。
【0039】
前記ベース基板303は内部に所定の回路パターン304を有する。このようなベース
基板303は、単層構造又はマルチレイヤー(multi‐layer)構造に構成され
ることができる。
【0040】
前記電子部品302は、前記回路パターン304に電気的に連結され、一面が前記ベー
ス基板303の上面に露出するようにベース基板に内蔵設置される。ここで、このような
電子部品302は、半導体チップ、ICチップなどであることができる。
【0041】
前記放熱部材301は電子部品の露出面に設けられ、電子部品から発生する熱を外部に
放出する。
【0042】
ここで、前記ベース基板303の内部に前記回路パターン304を互いに接続させるビ
ア構造物(回路パターン304と一体に連結されており、別途の番号を付けない)をさら
に有しており、前記ベース基板303の上面上に前記ビア構造物に連結され、追加の印刷
回路基板又は半導体パッケージに電気的に接続するためのボールパッド301pをさらに
含むことができる。
【0043】
また、前記放熱部材301としては熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質が用いられる
ことができる。
【0044】
この際、前記放熱部材301としては銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの
合金が用いられることができる。
【0045】
また、前記放熱部材301は放熱性に優れた金属(例えば、Al)で構成され、前記ボ
ールパッド301pは前記放熱部材301とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属
(例えば、Cu、Au、Ptなど)で構成されることができる。
【0046】
この際、前記放熱部材はAlで構成され、前記ボールパッドはCu、Au、Ptのうち
何れか一つの金属で構成されることができる。
【0047】
また、前記放熱部材301が設けられた面の反対側の前記ベース基板303の表面に露
出した回路パターン304の間の空間に形成される回路保護用絶縁材305をさらに含む
ことができる。
【0048】
この際、前記回路保護用絶縁材305としてはソルダレジストが用いられることができ
る。
【0049】
図3は本発明の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージの
構造を示す図面である。
【0050】
図3を参照すると、本発明によるチップ内蔵型印刷回路基板を用いた半導体パッケージ
は、下部半導体パッケージ320と、上部半導体パッケージ310と、を含んで構成され
る。
【0051】
前記下部半導体パッケージ320はPoP(package on package:
パッケージオンパッケージ)構造の半導体パッケージにおける下部に位置してベース機能
を行う。
【0052】
前記上部半導体パッケージ310は、前記下部半導体パッケージ320上に積層されて
下部半導体パッケージ320とともに全体的に一つの一体化したPoP構造の半導体パッ
ケージを構成する。
【0053】
ここで、前記下部半導体パッケージ320は、内部に所定の回路パターン304を有す
るベース基板303と、前記回路パターン304に電気的に連結され、一面が前記ベース
基板303の上面に露出するようにベース基板に内蔵設置される電子部品302と、前記
電子部品302の露出面に設けられ、電子部品302から発生する熱を外部に放出する放
熱部材301と、を含む。
【0054】
ここで、前記ベース基板303の内部に前記回路パターンを互いに接続させるビア構造
物(回路パターン304と一体に連結されており、別途の番号を付けない)をさらに有し
ており、前記ベース基板303の上面上に前記ビア構造物に連結され、追加の印刷回路基
板又は半導体パッケージに電気的に接続するためのボールパッド301pをさらに含むこ
とができる。
【0055】
また、前記放熱部材301としては熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質が用いられる
ことができる。
【0056】
この際、前記放熱部材301としては銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの
合金が用いられることができる。
【0057】
また、前記放熱部材301は放熱性に優れた金属(例えば、Al)で構成され、前記ボ
ールパッド301pは前記放熱部材301とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属
(例えば、Cu、Au、Ptなど)で構成されることができる。
【0058】
この際、前記放熱部材301はAlで構成され、前記ボールパッド301pはCu、A
u、Ptのうち何れか一つの金属で構成されることができる。
【0059】
また、前記放熱部材301が設けられた面の反対側の前記ベース基板303の表面に露
出した回路パターン304の間の空間に形成される回路保護用絶縁材305をさらに含む
ことができる。
【0060】
この際、前記回路保護用絶縁材305としてはソルダレジストが用いられることができ
る。
【0061】
図3において、参照符号311は基板を示し、312は電子部品を示し、313はモー
ルディング材を示す。
【0062】
以下、本発明によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造過程について説明する。
【0063】
図4は本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法の実行過程を示
すフローチャートであり、図5aから図5kは本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印
刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に示す図面である。
【0064】
図4及び図5aから図5kを参照すると、本発明の一実施形態によるチップ内蔵型印刷
回路基板の製造方法により、先ず、放熱部材301の一面に電子部品302を接合する(
段階S401、図5a‐5b)。この際、接合のために接着剤や樹脂(resin)など
が用いられることができる。
【0065】
電子部品302の接合が完了すると、その電子部品302が接合された放熱部材301
に電子部品302が埋め込まれるように絶縁材を1次塗布して絶縁材層303(ここで、
製造過程における絶縁材層は基板の製造が完了した状態ではベース基板そのものとなるた
め、上述したベース基板と同一の参照符号303を用いている)を形成した後、その絶縁
材層303に前記電子部品302及び放熱部材301が露出するようにビアホール303
hを形成する(段階S402、図5c)。
【0066】
その後、導電性物質で前記ビアホール303hを充填すると同時にビアホールに電気的
に連結される(即ち、前記電子部品302に電気的に連結される)1次回路パターン30
4を形成する(段階S403、図5d)。
【0067】
その後、前記絶縁材層303形成→ビアホール303h形成→ビアホール充填及び回路
パターン304形成過程を積層法により複数回繰り返して行う(段階S404、図5e〜
図5j)。
【0068】
即ち、図5eのように、前記1次回路パターン304が形成された絶縁材層303上に
1次回路パターン304が埋め込まれるように絶縁材を2次塗布して絶縁材層303を積
層形成した後、図5fのように、その積層形成された絶縁材層303(同一の絶縁材層で
あるため、同一の参照符号を用いる)に前記1次回路パターン304が露出するようにビ
アホール303hを形成する。
【0069】
その後、図5gのように、前記ビアホール303hに導電性物質を充填すると同時に2
次回路パターン304(1次回路パターンと一つの回路パターンで連結されるため、同一
の参照符号を用いる)を形成する。
【0070】
その後、図5hのように、前記2次回路パターン304が形成された絶縁材層303上
に2次回路パターン304が埋め込まれるように絶縁材を3次塗布して絶縁材層303を
積層形成した後、図5iのように、その積層形成された絶縁材層303に前記2次回路パ
ターン304が露出するようにビアホール303hを形成する。
【0071】
その後、図5jのように、前記ビアホール303hに導電性物質を充填すると同時に3
次回路パターン304を形成する。
【0072】
ここで、以上のような「絶縁材層形成→ビアホール形成→ビアホール充填及び回路パタ
ーン形成」の過程は、製造される基板の仕様(specification)によって複
数回繰り返して行われ、本実施形態では便宜上、3回繰り返すことに説明する。
【0073】
以上により3次回路パターン304の形成が完了すると、図5kのように、前記放熱部
材301をエッチングして前記電子部品302及びビアホール303hにそれぞれ対応す
る放熱パターン(電子部品302と直接接触している放熱部材301の部分)及びボール
パッド301pを形成する(段階S405)。この際、前記放熱パターンとボールパッド
301pは、互いに同一の物質である場合には同時にパターニングが行われ、互いに異な
る物質である場合にはボールパッド301pは別にパターニングが行われる。
【0074】
ここで、好ましくは、前記絶縁材層303の表面に露出した回路パターン304を保護
するための回路保護用絶縁材305を塗布する段階(S406)をさらに含むことができ
る。この際、前記回路保護用絶縁材305としてはソルダレジストが用いられることがで
きる。
【0075】
ここで、以上のような回路保護用絶縁材305の塗布工程と、前記放熱パターン及びボ
ールパッド301pの形成工程は同時に行われてもよく、回路保護用絶縁材305の塗布
工程が先に行われてもよい。
【0076】
また、前記絶縁材層303を形成するための絶縁材としては熱硬化性樹脂が用いられる
ことができる。
【0077】
この際、前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂などを含
むことができる。
【0078】
また、前記ビアホール303hを形成するために乾式エッチングが用いられることがで
きる。
【0079】
この際、前記乾式エッチングのためにエキシマレーザやCOレーザによる加工方式が
用いられることができる。
【0080】
また、前記ビアホール303hの充填及び回路パターン304の形成のための導電性物
質としてはAu、Al、Cuなどが用いられることができる。
【0081】
また、前記ビアホール303hへの導電性物質充填及び回路パターン304の形成のた
めに、電解メッキ方式とマスクを用いたフォトリソグラフィが用いられることができる。
【0082】
また、前記放熱部材301としては熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質が用いられる
ことができる。
【0083】
この際、前記放熱部材301としては銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの
合金が用いられることができる。
【0084】
また、前記放熱部材301は放熱性に優れた金属(例えば、Al)で構成され、前記ボ
ールパッド301pは前記放熱部材301とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属
(例えば、Cu、Au、Ptなど)で構成されることができる。
【0085】
この際、前記放熱部材301はAlで構成され、前記ボールパッド301pはCu、A
u、Ptのうち何れか一つの金属で構成されることができる。
【0086】
一方、図6は本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法の実行
過程を示すフローチャートであり、図7aから図7kは本発明の他の実施形態によるチッ
プ内蔵型印刷回路基板の製造方法により印刷回路基板を製造する過程を順に示す図面であ
る。
【0087】
図6を参照すると、本発明の他の実施形態によるチップ内蔵型印刷回路基板の製造方法
により、先ず所定の回路パターン304が形成されたベース基板303(これは基板の製
造過程では絶縁材層303に該当し、そのため絶縁材層と同一の参照符号「303」で記
載する)を準備する。ここで、所定の回路パターン304が形成されたベース基板303
を準備する過程について図7aから図7hを参照して詳細に説明する。
【0088】
先ず、所定の絶縁材を用いて1次絶縁材層303を形成し、1次絶縁材層303の内部
に1次ビアホール303hを形成する(段階S601)。
【0089】
その後、図7bのように、導電性物質で前記ビアホール303hを充填すると同時に絶
縁材層303の表面にビアホールに電気的に連結される1次回路パターン304を形成す
る(段階S602)。
【0090】
以降、前記絶縁材層303形成→ビアホール303h形成→ビアホール充填及び回路パ
ターン304形成過程を積層法により複数回繰り返して行う(段階S603、図7c〜図
7h)。
【0091】
即ち、図7cのように、前記1次回路パターン304が形成された絶縁材層303上に
1次回路パターン304が埋め込まれるように絶縁材を2次塗布して絶縁材層303を積
層形成した後、図7dのように、その積層形成された絶縁材層303(同一の絶縁材層で
あるため、同一の参照符号を用いる)に前記1次回路パターン304が露出するようにビ
アホール303hを形成する。
【0092】
その後、図7eのように、前記ビアホール303hに導電性物質を充填すると同時に2
次回路パターン304(1次回路パターンと一つの回路パターンで連結されるため、同一
の参照符号を用いる)を形成する。
【0093】
その後、図7fのように、前記2次回路パターン304が形成された絶縁材層303上
に2次回路パターン304が埋め込まれるように絶縁材を3次塗布して絶縁材層303を
積層形成した後、図7gのように、その積層形成された絶縁材層303に前記2次回路パ
ターン304が露出するようにビアホール303hを形成する。
【0094】
その後、図7hのように、前記ビアホール303hに導電性物質を充填すると同時に3
次回路パターン304を形成する。
【0095】
ここで、以上のような「絶縁材層形成→ビアホール形成→ビアホール充填及び回路パタ
ーン形成」の過程は、上述した一実施形態の場合(図5a〜図5k)と同様に、製造され
る基板の仕様(specification)によって複数回繰り返して行われ、本実施
形態では便宜上、3回繰り返すことに説明する。
【0096】
このようにして3次回路パターン304の形成が完了すると、前記ベース基板303の
上部を部分的に除去して前記回路パターン304の一部を露出するキャビティを形成する
。即ち、図7iのように、前記絶縁材層303の一側面に電子部品挿入のための所定大き
さのキャビティ303cを形成する(段階S604)。
【0097】
その後、図7jのように、前記回路パターン304に電気的に連結されるように前記キ
ャビティ303c内に電子部品302を載置した後、絶縁材層303の表面全体に(即ち
、前記ベース基板303の上面及び前記電子部品302の露出面上に)、放熱部材301
を形成する(段階S605)。
【0098】
その後、図7kのように、前記放熱部材301をエッチングして前記電子部品302及
びビアホールにそれぞれ対応する放熱パターン(電子部品302と直接接触している放熱
部材301の部分)及びボールパッド301pを形成する(段階S606)。この際、前
記放熱パターンとボールパッド301pが互いに同一の物質である場合には同時にパター
ニングが行われ、互いに異なる物質である場合にはボールパッド301pは別にパターニ
ングが行われる。
【0099】
ここで、好ましくは、前記絶縁材層303の表面に露出した回路パターン304を保護
するための回路保護用絶縁材305を塗布する段階(S607)をさらに含むことができ
る。
【0100】
この際、前記回路保護用絶縁材305としてはソルダレジストが用いられることができ
る。
【0101】
また、前記絶縁材層303を形成するための絶縁材としては熱硬化性樹脂が用いられる
ことができる。
【0102】
この際、前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂
、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂などを含
むことができる。
【0103】
また、前記ビアホール303hを形成するために乾式エッチングが用いられることがで
きる。
【0104】
この際、前記乾式エッチングのためにエキシマレーザやCOレーザによる加工方式が
用いられることができる。
【0105】
また、前記ビアホール303hの充填及び回路パターン304の形成のための導電性物
質としては、Au、Al、Cuなどが用いられることができる。
【0106】
また、前記ビアホール303hへの導電性物質充填及び回路パターン304の形成のた
めに、電解メッキ方式とマスクを用いたフォトリソグラフィが用いられることができる。
【0107】
また、前記放熱部材301としては熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質が用いられる
ことができる。
【0108】
この際、前記放熱部材301としては銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの
合金が用いられることができる。
【0109】
また、前記放熱部材301は放熱性に優れた金属(例えば、Al)で構成され、前記ボ
ールパッド301pは前記放熱部材301とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属
(例えば、Cu、Au、Ptなど)で構成されることができる。
【0110】
この際、前記放熱部材301はAlで構成され、前記ボールパッド301pはCu、A
u、Ptのうち何れか一つの金属で構成されることができる。
【0111】
以上の説明のように、本発明による印刷回路基板及び半導体パッケージは、電子部品の
一面が印刷回路基板の外部に露出するように印刷回路基板に内蔵し、その内蔵した電子部
品の露出部に放熱部材がすぐ接触されるように設けられることで電子部品から発生する熱
を外部に効果的に放出させることができる。
【0112】
また、このような構造の半導体内蔵型印刷回路基板を下部パッケージとして用いて、そ
の上に上部パッケージを積層して全体的に一体化した一つの半導体パッケージを構成する
ことで熱放出機能に優れた半導体パッケージ製品を製造することができ、それにより製品
に対する信頼度を増すことができる。
【0113】
以上、好ましい実施形態を参照して本発明について詳細に説明したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様に変更、応用す
ることができることは当該技術分野における通常の技術者にとって自明である。従って、
本発明の真正な保護範囲は添付の特許請求の範囲により解釈しなければならず、それと同
等な範囲内にある全ての技術的思想は本発明の権利範囲に含まれると解釈しなければなら
ない。
【符号の説明】
【0114】
301 放熱部材
302 電子部品
303 絶縁材層
304回路パターン
305 回路保護用絶縁材
301p ボールパッド
303c キャビティ
303h ビアホール
310 上部半導体パッケージ
320 下部半導体パッケージ
311 基板
312 電子部品
313 モールディング材
図1
図2
図3
図4
図5a
図5b
図5c
図5d
図5e
図5f
図5g
図5h
図5i
図5j
図5k
図6
図7a
図7b
図7c
図7d
図7e
図7f
図7g
図7h
図7i
図7j
図7k
【手続補正書】
【提出日】2018年9月14日
【手続補正1】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項1】
内部に所定の回路パターンを有するベース基板と、
前記回路パターンに電気的に連結され、一面が前記ベース基板の上面に露出するようにベース基板に内蔵設置される電子部品と、
前記電子部品の露出面に設けられ放熱部材と
を備え、
前記放熱部材は、前記放熱部材の下面が前記ベース基板の前記上面に接触するように、前記電子部品の前記露出面上で前記ベース基板の前記上面へと延ばされている、
チップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項2】
前記ベース基板の内部ビア構造物をさらに有しており、
前記ベース基板の前記上面に形成され、前記ビア構造物に連結されているボールパッドをさらに備える、
請求項1に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項3】
前記放熱部材は熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質で構成される、請求項1に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項4】
前記放熱部材は銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの合金で構成される、請求項3に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項5】
前記放熱部材は放熱性に優れた金属で構成され、前記ボールパッドは前記放熱部材とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属で構成される、請求項2に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項6】
前記放熱部材はAlで構成され、前記ボールパッドはCu、Au、Ptのうち何れか一つの金属で構成される、請求項5に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項7】
前記放熱部材が設けられた面の反対側の前記ベース基板の表面に露出した回路パターンの間の空間に形成される回路保護用絶縁材をさらに含む、請求項1に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項8】
前記回路保護用絶縁材はソルダレジストで構成される、請求項7に記載のチップ内蔵型印刷回路基板。
【請求項9】
パッケージオンパッケージ(PoP)構造を有する半導体パッケージ下部に位置しベースとして機能する下部半導体パッケージと、
前記下部半導体パッケージ上に積層され、前記下部半導体パッケージとともに、パッケージオンパッケージ(PoP)構造を有する全体的に一つの一体化し半導体パッケージを構成する上部半導体パッケージと
を備え、
前記下部半導体パッケージは、
内部に所定の回路パターンを有するベース基板と、
前記回路パターンに電気的に連結され、一面が前記ベース基板の上面に露出するようにベース基板に内蔵設置される電子部品と、
前記電子部品の露出面に設けられ放熱部材と
を有し、
前記放熱部材は、前記放熱部材の下面が前記ベース基板の前記上面に接触するように、前記電子部品の前記露出面上で前記ベース基板の前記上面へと延ばされている、

チップ内蔵型印刷回路基板(PCB)を用いた半導体パッケージ。
【請求項10】
前記ベース基板は、内部にビア構造物をさらに含んでおり
前記ベース基板の前記上面において前記ビア構造物に連結されているボールパッドをさらに備える、請求項9に記載半導体パッケージ。
【請求項11】
前記放熱部材は熱伝導性及び電気伝導性に優れた材質で構成される、請求項9に記載半導体パッケージ。
【請求項12】
前記放熱部材は銅(Cu)、アルミニウム(Al)又はこれらの合金で構成される、請求項11に記載半導体パッケージ。
【請求項13】
前記放熱部材は放熱性に優れた金属で構成され、前記ボールパッドは前記放熱部材とは異なる金属である電気伝導度に優れた金属で構成される、請求項10に記載半導体パッケージ。
【請求項14】
前記放熱部材はAlで構成され、前記ボールパッドはCu、Au、Ptのうち何れか一つの金属で構成される、請求項13に記載半導体パッケージ。
【請求項15】
前記放熱部材が設けられた面の反対側の前記ベース基板の表面に露出した回路パターンの間の空間に形成される回路保護用絶縁材をさらに含む、請求項9に記載半導体パッケージ。
【請求項16】
前記回路保護用絶縁材はソルダレジストで構成される、請求項15に記載半導体パッケージ。