特開2019-41755(P2019-41755A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ 学校法人早稲田大学の特許一覧 ▶ 第一工業製薬株式会社の特許一覧

特開2019-41755チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム
<>
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000003
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000004
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000005
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000006
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000007
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000008
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000009
  • 特開2019041755-チキソトロピー性を有するゲルを用いる多層3次元細胞培養足場システム 図000010
< >