特開2020-166043(P2020-166043A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特開2020-166043レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法
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  • 特開2020166043-レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法 図000018
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