特開2020-201235IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

検査装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】測定対象物の清浄表面の元素分析を実現する。
【解決手段】測定対象物にレーザ光を照射する照射部と、レーザ光を第１パルス光および第２パルス光に分割して、第１パルス光を測定対象物に照射した後、測定対象物に第２パルス光を照射する分割部と、測定対象物への第２パルス光の照射により生じた発光を検出する検出部とを備える検査装置を提供する。分割部は、第１パルス光のパルス幅を第２パルス光のパルス幅よりも長くするパルス幅調整部を有してよい。
【選択図】図１

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、特許文献１および特許文献２に記載の方法では、測定対象物の表面が清浄でない場合、正確に元素分析できない。特許文献３ではレーザ照射部が１台であるので、レーザ照射部の繰り返し周波数の範囲内では、測定対象物が停止している場合しか使用できない。特許文献４では、２台のレーザ照射部を設ける必要がある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の第１の態様においては、測定対象物にレーザ光を照射する照射部と、レーザ光を第１パルス光および第２パルス光に分割して、第１パルス光を測定対象物に照射した後、測定対象物に第２パルス光を照射する分割部と、測定対象物への第２パルス光の照射により生じた発光を検出する検出部とを備える検査装置を提供する。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】実施例１に係る検査装置１００の構成の概要を示す。

【図2】パルス光のパルス幅および照射タイミングを説明するための図である。

【図3】比較例に係る検査装置で用いられるパルス光のパルス幅および照射タイミングを示す。

【図4】実施例２に係る検査装置１００の構成の概要を示す。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

１０・・・照射部、２０・・・分割部、２１・・・ビームスプリッタ、２２・・・ミラー、２３・・・ミラー、２４・・・ミラー、２５・・・パルス幅調整部、３０・・・検出部、３１・・・レンズ、３２・・・受光調整部、３３・・・分光カメラ、４０・・・動作制御部、４１・・・レーザ制御部、４２・・・遅延発生器、４３・・・処理部、５０・・・バンドパスフイルタ、６０・・・レンズ、７０・・・測定対象物、８０・・・ガス吹付ノズル、８１・・・ガス供給部、１００・・・検査装置

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