【実施例】
【0018】
以下に実施例を掲げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、環式ジオール化合物の各種測定は以下の方法により測定した。また、特に言及していない化合物は試薬を使用した。
【0019】
<使用化合物>
9−フルオレノン:東京化成工業株式会社製
p−トルエンスルホン酸一水和物:ナカライテスク株式会社製
メタノール:ナカライテスク株式会社製
ジペンタエリスリトール:東京化成工業株式会社製
【0020】
<ガスクロマトグラフィー(GC)による分析>
9−フルオレノンジメチルアセタールの純度(GC面積%)はガスクロマトグラフィー(GC)により測定した。
【0021】
[測定条件]
機器:島津製作所製 GC−2010
カラム:アジレント・テクノロジー株式会社製DB−1 30mx0.25mm×0.25μm
カラム温度:100〜320℃(昇温速度15℃/min)
インジェクション温度/検出器温度:250℃/325℃
検出器:FID
キャリアガス:ヘリウム
ガス線速度:30cm/sec
試料:1質量%のアセト二トリル溶液
注入量:1μl
【0022】
<赤外吸収スペクトル(IRスペクトル)>
環式ジオール化合物のIRスペクトルは、赤外分光分析装置(株式会社パーキンエルマージャパン製Spectrum400)を用い、ATR法(減衰全反射法)で行った。
【0023】
<プロトン核磁気共鳴スペクトル(
1H−NMR)>
環式ジオール化合物の
1H−NMRは、重DMSOに溶かした後、核磁気共鳴装置(Bruker社製DRX−500)を用い、
1H−NMR(500MHz)測定で行った。
【0024】
[実施例1]
還流冷却管を装着した1L4ツ口フラスコに9−フルオレノン35.0g(194.2mmol )、オルト蟻酸トリメチル57.0g(537.1mmol)、p−トルエンスルホン酸一水和物1.80g(9.5mmol)、メタノール325.0g(10.1mol )を仕込み、50℃で5時間攪拌した後、トリエチルアミンを加えて中和した。メタノール溶媒を減圧留去し、得られた濃縮粗物に、酢酸エチル115gおよび5%炭酸水素ナトリウム水115gを加え攪拌した。分層後、水層を除去し、有機層を60gの水で2回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧留去して、純度98.8GC面積%の9−フルオレノンジメチルアセタールを得た。得られた9−フルオレノンジメチルアセタールはさらなる精製を行うことなく、次の反応に用いた。
【0025】
還流冷却管付きディーンスタークトラップを装着した200mLナスフラスコにジペンタエリスリトール10.3(40.5mmol)、9−フルオレノンジメチルアセタール8.0g(35.4mmol)、p−トルエンスルホン酸一水和物38mg(0.22mmol)、トルエン29.4g、N,N−ジメチルホルムアミド55.9gを仕込み、系を窒素置換した後、昇温してトルエン還流下で、5.5時間攪拌した。反応混合物を室温に戻し、トリエチルアミンで中和し、水150gを加えて攪拌した。分層後、有機層と水層に分け、水層を酢酸エチル150mlで3回抽出し、酢酸エチルと先に分けていた有機層とを合わせた。100mlの水で洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた有機層から酢酸エチルを減圧留去し、粗ビス(9−フルオレノン)ジペンタエリスリトールジアセタールを得た。得られた粗ビス(9−フルオレノン)ジペンタエリスリトールジアセタールをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−n−ヘキサン混合溶媒)法により、ビス(9−フルオレノン)ジペンタエリスリトールジアセタールを単離した。
【0026】
得られたビス(9−フルオレノン)ジペンタエリスリトールジアセタールについて、IRスペクトル及び
1H−NMRスペクトルを測定した。得られた結果を、
図1及び
図2に示した。図中に示される下記特性ピークよりビス(9−フルオレノン)ジペンタエリスリトールジアセタールであることを確認した。
【0027】
IR(cm
-1):3499,3044,2967,2944,2890,1610,1481,1466,1450,1185,1119,1069,1004,760,733,688
【0028】
1H−NMR(500MHz,ppm):3.74(d,4H),3.76(s,4H),4.18(d,4H),4.27(d,4H),5.04(t,2H),7.25(dd,2H),7.32(dd,2H),7.40(d,2H),7.44(d,2H),7.74(d,2H),7.75(d,2H),7.83(dd,4H)
(なお、2.5ppm付近のピークは溶媒の重DMSOに由来するピークである。また、1.15ppm,1.96ppm,4.00ppm付近のピークは残存溶媒の酢酸エチルに由来するピークであり、3.36ppm付近のピークは重DMSO中の水に由来するピークである。)