特開 2020-51977 測定装置、プログラム及び測定装置の制御方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2020-51977(P2020-51977A)

(43)【公開日】2020年4月2日

(54)【発明の名称】測定装置、プログラム及び測定装置の制御方法

(51)【国際特許分類】

   G01N 23/223 20060101AFI20200306BHJP

【ＦＩ】

   G01N23/223

【審査請求】有

【請求項の数】8

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】21

(21)【出願番号】特願2018-183775(P2018-183775)

(22)【出願日】2018年9月28日

(71)【出願人】

【識別番号】000250339

【氏名又は名称】株式会社リガク

(74)【代理人】

【識別番号】110000154

【氏名又は名称】特許業務法人はるか国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】青木 悠

(72)【発明者】

【氏名】井上 達也

(72)【発明者】

【氏名】藤村 聖史

(72)【発明者】

【氏名】喜多 広明

【テーマコード（参考）】

2G001

【Ｆターム（参考）】

2G001AA01

2G001BA04

2G001BA15

2G001BA29

2G001CA01

2G001GA01

2G001GA06

2G001GA13

2G001HA05

2G001JA08

2G001JA09

2G001JA12

2G001JA16

2G001KA01

2G001KA11

2G001LA11

2G001MA08

2G001NA07

2G001NA15

(57)【要約】      （修正有）

【課題】他の測定装置によって得られた測定結果を簡便に入力でき、かつ、入力ミスを防止することのできる測定装置、測定方法及び測定プログラムを提供する。
【解決手段】他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置であって、他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得部と、出力データ中のユーザの指定位置を取得する指定位置取得部と、出力データ取得部が取得した出力データに含まれる、指定位置の他装置測定結果を取得する他装置測定結果取得部と、取得される他装置測定結果を用いて自らの測定結果を取得する測定結果取得部と、指定位置を示す位置データを記憶する位置データ記憶部と、を含み、他装置測定結果取得部は、出力データ取得部が他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に位置データ記憶部に位置データが記憶されていれば該位置データが示す指定位置に含まれる他装置測定結果を取得する。
【選択図】図２

【特許請求の範囲】

【請求項1】

他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置であって、
前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得部と、
前記出力データ中のユーザの指定位置を取得する指定位置取得部と、
前記出力データ取得部が取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する他装置測定結果取得部と、
取得される他装置測定結果を用いて前記自らの測定結果を取得する測定結果取得部と、
前記指定位置を示す位置データを記憶する位置データ記憶部と、を含み、
前記他装置測定結果取得部は、前記出力データ取得部が前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する、
ことを特徴とする測定装置。

【請求項2】

前記測定装置はさらに、前記出力データに含まれる前記他装置測定結果を表示する表示部を有し、
前記指定位置取得部は、表示された前記他装置測定結果のうちユーザに指定された前記他装置測定結果が表された位置を、前記位置データとして取得する
ことを特徴とする請求項１に記載の測定装置。

【請求項3】

前記測定装置はさらに、前記位置データが記憶される際に取得された前記出力データと、前記他の出力データと、の様式が異なる場合に、ユーザに警告を発する警告部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の測定装置。

【請求項4】

前記測定装置は、試料の表面に１次Ｘ線を照射することによって発生した蛍光Ｘ線により試料の分析を行う蛍光Ｘ線分析装置であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の測定装置。

【請求項5】

前記試料は、表面に薄膜が形成された基板であって、
前記他装置測定結果は、前記他の測定装置に測定された前記薄膜の膜厚、または密度、または前記薄膜に含まれる元素の濃度である、
ことを特徴とする請求項４に記載の測定装置。

【請求項6】

前記出力データは、前記薄膜の膜厚と関連付けて、前記膜厚が測定された前記基板における測定位置を含み、
蛍光Ｘ線分析装置である前記測定装置は、前記測定位置に１次Ｘ線を照射し、発生した蛍光Ｘ線により前記薄膜に含まれる元素の濃度、または前記薄膜の密度を分析する、
ことを特徴とする請求項５に記載の測定装置。

【請求項7】

他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置に用いられるコンピュータで実行されるプログラムであって、
前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得ステップと、
前記出力データ中のユーザの指定位置を取得する指定位置取得ステップと、
前記自らの測定結果を取得するために、前記出力データ取得ステップで取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する第１の他装置測定結果取得ステップと、
前記指定位置を示す位置データを位置データ記憶部に記憶する位置データ記憶ステップと、
前記出力データ取得ステップで前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する第２の他装置測定結果取得ステップと、
を前記コンピュータに実行させるプログラム。

【請求項8】

他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置の制御方法であって、
前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得ステップと、
前記出力データ中のユーザの指定位置を取得する指定位置取得ステップと、
前記出力データ取得ステップで取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する第１の他装置測定結果取得ステップと、
取得される他装置測定結果を用いて前記自らの測定結果を取得する測定結果取得ステップと、
前記指定位置を示す位置データを位置データ記憶部に記憶する位置データ記憶ステップと、
前記出力データ取得ステップで前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する第２の他装置測定結果取得ステップと、
を有することを特徴とする測定装置の制御方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、測定装置、プログラム及び測定装置の制御方法に関する。

【背景技術】

【0002】

異なる測定手法で得られた測定結果を組み合わせて試料の特性を測定する装置や方法には様々なものがある。例えば、特許文献１は、エリプソメータと蛍光Ｘ線分析を組み合わせることにより試料の厚みなどを計測する装置を開示している。特許文献２は、Ｘ線反射率法によって測定した薄膜の膜厚及び蛍光Ｘ線測定法によって測定した薄膜の構成元素量から薄膜の密度を測定する方法を開示している。特許文献３は、全反射臨界角度から薄膜の密度を測定した上で、当該密度と蛍光Ｘ線分析法で測定した付着量を用いて膜厚を測定する方法を開示している。特許文献４は、レーザ塵埃分析装置によるウェハ上の塵埃位置データを用い、蛍光Ｘ線分析装置により試料の表面に存在する元素を定性または定量分析する試料表面の検査方法を開示している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１２−３２２３９号公報

【特許文献2】特開２００２−３９９６９号公報

【特許文献3】特開平１０−３１８７３７号公報

【特許文献4】特開平１１−３１６２０１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

測定データの様式等を共通化した複数の測定装置を、ホストコンピューター等を介して全体的なシステムとして構築すれば、各装置の測定データを組み合わせて利用することができるが、多大な費用を必要とする。また、異なる測定手法を合わせ持つ複合装置を用いれば、各手法での測定データを組み合わせた測定結果を容易に得ることができるが、合わせ持つ測定手法が限定的な上、測定装置も非常に高価なため、一般的には別個の測定装置が用いられる。一般的に用いられる測定装置は、測定結果を電子データで取り出せるものが多いが、各測定装置から取り出される電子データの様式は多種多様である。そのため、第１の測定装置と第２の測定装置から取り出される電子データの様式が異なる場合、第１の測定装置から取り出された電子データを、そのまま第２の測定装置での測定に用いることは困難であった。多くの場合、ユーザが、第１の測定装置から取り出された電子データに含まれる測定結果を第２の測定装置に手作業で入力等することによって、当該測定データを第２の測定装置の測定に用いていた。特に試料上の測定位置の座標系や単位系等が異なる場合、煩雑な換算が必要であった。当該作業は非効率であり、また、ヒューマンエラーが起こりやすいという問題があった。

【0005】

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、他の測定装置によって得られた測定結果を簡便に入力でき、かつ、入力ミスを防止することのできる測定装置、測定方法及び測定プログラムを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

請求項１に記載の測定装置は、他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置であって、前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得部と、前記出力データ中のユーザの指定位置を取得する指定位置取得部と、前記出力データ取得部が取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する他装置測定結果取得部と、取得される他装置測定結果を用いて前記自らの測定結果を取得する測定結果取得部と、前記指定位置を示す位置データを記憶する位置データ記憶部と、を含み、前記他装置測定結果取得部は、前記出力データ取得部が前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する、ことを特徴とする。

【0007】

請求項２に記載の測定装置は、請求項１に記載の測定装置において、前記測定装置はさらに、前記出力データに含まれる前記他装置測定結果を表示する表示部を有し、前記指定位置取得部は、表示された前記他装置測定結果のうちユーザに指定された前記他装置測定結果が表された位置を、前記位置データとして取得することを特徴とする。

【0008】

請求項３に記載の測定装置は、請求項１または２に記載の測定装置において、前記測定装置はさらに、前記位置データが記憶される際に取得された前記出力データと、前記他の出力データと、の様式が異なる場合に、ユーザに警告を発する警告部を有することを特徴とする。

【0009】

請求項４に記載の測定装置は、請求項１乃至３いずれかに記載の測定装置において、前記測定装置は、試料の表面に１次Ｘ線を照射することによって発生した蛍光Ｘ線により試料の分析を行う蛍光Ｘ線分析装置であることを特徴とする。

【0010】

請求項５に記載の測定装置は、請求項４に記載の測定装置において、前記試料は、表面に薄膜が形成された基板であって、前記他装置測定結果は、前記他の測定装置に測定された前記薄膜の膜厚、または密度、または前記薄膜に含まれる元素の濃度である、ことを特徴とする。

【0011】

請求項６に記載の測定装置は、請求項５に記載の測定装置において、前記出力データは、前記薄膜の膜厚と関連付けて、前記膜厚が測定された前記基板における測定位置を含み、蛍光Ｘ線分析装置である前記測定装置は、前記測定位置に１次Ｘ線を照射し、発生した蛍光Ｘ線により前記薄膜に含まれる元素の濃度、または前記薄膜の密度を分析する、ことを特徴とする。

【0012】

請求項７に記載の測定プログラムは、他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置に用いられるコンピュータで実行されるプログラムであって、前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得ステップと、前記出力データ中のユーザの指定位置を取得する指定位置取得ステップと、前記自らの測定結果を取得するために、前記出力データ取得ステップで取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する第１の他装置測定結果取得ステップと、前記指定位置を示す位置データを位置データ記憶部に記憶する位置データ記憶ステップと、前記出力データ取得ステップで前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する第２の他装置測定結果取得ステップと、を前記コンピュータに実行させることを特徴とする。

【0013】

請求項８に記載の制御方法は、他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置の制御方法であって、前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得ステップと、前記出力データ中のユーザの指定位置を取得する指定位置取得ステップと、前記出力データ取得ステップで取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する第１の他装置測定結果取得ステップと、取得される他装置測定結果を用いて前記自らの測定結果を取得する測定結果取得ステップと、前記指定位置を示す位置データを位置データ記憶部に記憶する位置データ記憶ステップと、前記出力データ取得ステップで前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する第２の他装置測定結果取得ステップと、を有することを特徴とする。

【発明の効果】

【0014】

請求項１乃至３、７及び８に記載の発明によれば、他の測定装置によって得られた測定結果を簡便に入力でき、かつ、入力ミスを防止することができる。

【0015】

請求項４乃至６に記載の発明によれば、蛍光Ｘ線分析装置を用いた測定において、他の測定装置で測定された測定結果を簡便に用いることが出来る。

【0016】

請求項６に記載の発明によれば、入力ミスの可能性をユーザが容易に認識することができる。

【図面の簡単な説明】

【0017】

【図1】本発明の実施形態に係る測定装置を概略的に示す図である。

【図2】情報処理部の機能的構成を示す図である。

【図3】インポート画面の一例を示す図である。

【図4】インポート画面の一例を示す図である。

【図5】基板上の測定点を示す図である。

【図6】インポート画面の一例を示す図である。

【図7】測定装置の制御方法を示すフローチャートである。

【図8】測定装置の制御方法を示すフローチャートである。

【図9】インポート画面の一例を示す図である。

【図10】インポート画面の一例を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0018】

以下、本発明を実施するための好適な実施の形態（以下、実施形態という）を説明する。図１は本発明に係る測定装置１００を概略的に示す図である。以下、測定装置１００が試料１０２の表面に１次Ｘ線１０４を照射することによって発生した蛍光Ｘ線１０６により試料１０２の分析を行う蛍光Ｘ線分析装置である例を用いて説明する。なお、測定装置１００は、蛍光Ｘ線分析装置以外の装置であってもよい。

【0019】

測定装置１００は、他の測定装置によって得られる測定結果（以下、他装置測定結果とする）を用いて自らの測定結果を得る。具体的には、例えば、測定装置１００が蛍光Ｘ線分析装置である場合、蛍光Ｘ線分析装置は、試料１０２の測定位置に１次Ｘ線１０４を照射し、発生した蛍光Ｘ線１０６により試料１０２の分析を行う。試料１０２は、例えば、表面に薄膜が形成されたウェハや磁気ディスク等の基板である。この際、蛍光Ｘ線分析装置は、薄膜に含まれる元素の内、分析対象となる元素の単位面積当たりの付着量（薄膜中の含有量）を得る。

【0020】

しかし、例えば、基板がＳｉウェハで薄膜がＳｉ酸化膜等のＳｉを含む膜の場合、基板（Ｓｉウェハ）のＳｉと薄膜に含まれるＳｉを分離して測定できないため、薄膜に含まれるＢ（ボロン）やＰ（リン）等の濃度を正確に測定することができない。そのため、蛍光Ｘ線分析装置は、他の測定装置であるエリプソメータ等によって測定された薄膜の膜厚を用いて、薄膜に含まれる元素の濃度を算出する。

【0021】

また、他の測定装置によって測定された薄膜の膜厚で付着量を除算することで、測定装置１００は、自らの測定結果として薄膜の密度を得る。また、様々な材質の基板上に形成されためっきやコーティングを分析する場合、測定装置１００は、他の測定装置から、膜厚や、蛍光Ｘ線分析では測定できない元素や、精度良く測定できない元素の付着量を取得する。そして、測定装置１００は、取得した膜厚や元素や付着量を用いて自らの測定結果を得る。

【0022】

図１に示すように、測定装置１００は、Ｘ線源１０８と、試料台１１０と、分光素子１１２と、検出器１１４と、試料移動手段１１６と、計数部１１８と、表示部１２０と、警告部１２２と、情報処理部１２４と、を有する。

【0023】

Ｘ線源１０８は、試料１０２の表面に１次Ｘ線１０４を照射する。また、１次Ｘ線１０４が照射された試料１０２からは、蛍光Ｘ線１０６が発生する。

【0024】

試料台１１０は、試料１０２が配置される。具体的には、例えば、試料台１１０は、試料移動手段１１６により、試料１０２上の測定位置を移動させる。具体的には、例えば、試料移動手段１１６は、ＸＹステージやｒθステージ等の移動ステージであり、情報処理部１２４の指示に応じて、試料１０２の所定の測定点に１次Ｘ線１０４が照射される位置に試料台１１０を移動させる。

【0025】

分光素子１１２は、試料１０２から発生した蛍光Ｘ線１０６が入射されて測定対象波長の蛍光Ｘ線を回折し、分光する。

【0026】

検出器１１４は、分光素子１１２で分光された蛍光Ｘ線を検出する。また、検出器１１４は、プリアンプ等（図示なし）を通じ、計数部１１８に検出した信号を出力する。

【0027】

計数部１１８は、検出器１１４によって検出された蛍光Ｘ線に基づいて、計数結果を出力する。具体的には、例えば、計数部１１８は、検出器１１４の出力信号を、設定された波高値に応じて計数する。情報処理部１２４は、計数部１１８の計数結果に基づいて、検量線法やＦＰ（ファンダメンタルパラメータ）法により、試料１０２に含まれる元素の定量分析等を行う。

【0028】

複数の元素を分析する場合には、各元素による蛍光Ｘ線毎に対応する分光素子１１２と検出器１１４を用いる。ゴニオメータ（図示なし）と一組の分光素子１１２及び検出器１１４を一定の角度関係を保って回動させ、複数の元素による蛍光Ｘ線を順次測定してもよい。また、例えば、検出器１１４にエネルギー分解能が高いＳＤＤ、及び計数部１１８にマルチチャンネルアナライザを用い、各元素による蛍光Ｘ線に基づく信号を電気的に分別し、分光素子１１２を用いずに、複数の元素を分析してもよい。

【0029】

表示部１２０は、例えば、液晶表示装置や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置や、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）等の表示装置である。表示部１２０は、出力データに含まれる他装置測定結果を表示する。具体的には、例えば、表示部１２０は、測定装置１００の測定条件や測定結果の他、出力データに含まれる他装置測定結果を測定装置１００が行う測定の条件に入力するために表示される画面（以下、インポート画面とする）や、ユーザに対する警告メッセージ等を表示する。

【0030】

警告部１２２は、位置データが記憶される際に取得された出力データと、他の出力データと、の様式が異なる場合に、ユーザに警告を発する。具体的には、例えば、警告部１２２は、位置データが記憶される際に取得された出力データと、他の出力データと、の様式が異なる場合に、様式が異なる旨のメッセージを表示部１２０に表示する。また、警告部１２２は、音を発することで、ユーザに注意を促してもよい。出力データの様式については後述する。

【0031】

情報処理部１２４は、測定装置１００の動作を制御する。具体的には、例えば、情報処理部１２４は、他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置１００に用いられるコンピュータ（Personal Computer）である。情報処理部１２４は、試料移動手段１１６やＸ線源１０８の出力等を制御する。また、情報処理部１２４は、数値として取得する他装置測定結果の桁数を、四捨五入等により調整する機能を有してもよい。

【0032】

図２は、情報処理部１２４の機能的構成を説明する為のブロック図である。情報処理部１２４は、出力データ取得部２０２と、指定位置取得部２０４と、他装置測定結果取得部２０６と、測定結果取得部２０８と、位置データ記憶部２１０と、を有する。

【0033】

出力データ取得部２０２は、他装置測定結果を含む他の測定装置によって得られた出力データを取得する。具体的には、例えば、他装置測定結果は、エリプソメータで測定された薄膜の膜厚である。出力データは、当該エリプソメータが測定した膜厚を表す数値を含む電子データである。出力データは、エリプソメータによる測定が行われると、その測定結果として出力される。出力データは、当該膜厚を表す複数の数値がカンマ区切りで羅列されたCSV(Comma-Separated Values)ファイルである。出力データは、測定条件等を表す文字列を含んでいてもよい。出力データ取得部２０２は、上記のようなエリプソメータが出力した膜厚を表す数値を含んだCSVファイルを取得する。

【0034】

出力データの様式は、他の様式であってもよい。例えば、出力データは、タブで区切られたTSV(Tab-Separated Values)ファイルや、スペースで区切られたSSV(Space-Separated Values) ファイルであってもよい。また、他装置測定結果は、薄膜の膜厚、または密度、または薄膜に含まれる元素の濃度等であってもよい。

【0035】

出力データ取得部２０２が出力データを取得すると、表示部１２０は、当該出力データに含まれる他装置測定結果を表示する。具体的には、図３及び図４を用いて説明する。

【0036】

図３及び図４は、インポート画面の一例である。インポート画面は、ユーザがジョブを作成または編集する際に、他装置測定結果を測定に反映させる場合に表示される。ジョブは、測定対象となる１または複数の試料１０２と、当該試料１０２に対して行われる測定条件と、が関連付けられた一連の測定条件である。下記では、１枚のウェハである試料１０２に対して５ヶ所で測定を行う際の測定条件を含むジョブの例について説明する。

【0037】

インポート画面は、例えば、出力データ表示フィールド３０２と、管理テーブル３０４と、全ての測定条件に参照と記載されたチェックボックス３０６と、各種ボタンと、が表示される。各種ボタンは、クリップボードから貼り付けボタン３０８、ＣＳＶファイルからインポートボタン３１０、全ての参照をクリアボタン３１２、ＯＫボタン３１４、Ｃａｎｃｅｌボタン３１６等を含む。

【0038】

図３及び図４に示す実施例では、出力データ取得部２０２は、ユーザがクリップボードから貼り付けボタン３０８、又は、ＣＳＶファイルからインポートボタン３１０を押下した場合に、出力データを取得する。

【0039】

具体的には、例えば、ユーザがテキストエディタ等のソフトウェアで他の測定装置によって得られた出力データにアクセスしたとする。そして、ユーザが当該出力データの一部または全部を選択し、選択された領域の他装置測定結果をクリップボードにコピーしたとする。当該状態で、ユーザがクリップボードから貼り付けボタン３０８を押下した場合、出力データ取得部２０２は、クリップボードにコピーされた出力データを取得する。図４に示すように、出力データ表示フィールド３０２には、取得された出力データが表示される。

【0040】

なお、出力データ表示フィールド３０２に表示される文字列及び数値は、マトリクス状に表示されることが望ましい。具体的には、例えば図４に示すように、出力データがCSVファイルである場合、文字列や数値は、出力データに含まれる改行ごとに異なる行に表示される。また、文字列や数値は、カンマごとに異なる列に表示される。出力データがTSVファイルやSSVファイルである場合、文字列や数値は、タブやスペースごとに異なる列に表示される。

【0041】

また、マトリクスの各行及び各列は、マトリクスにおいて各枠の位置を特定する座標が付される。具体的には、例えば、マトリクスの各行は、上から順に１乃至ｎ（ｎは自然数）の値が付される。また、マトリクスの各列は、左から右に向かって、Ａから始まってアルファベット順の値が付される。

【0042】

図４に示す出力データ表示フィールド３０２の１行目乃至８行目は、他の測定装置における測定条件等が表示されている。１０行目以降は、測定回数、Thickness（膜厚）、ＸＹ座標系における測定位置等の測定条件及び他装置測定結果が表示されている。すなわち上記実施例では、出力データは、薄膜の膜厚と関連付けて、膜厚が測定されたウェハにおける測定位置を含んでいる。

【0043】

管理テーブル３０４は、Ｎｏ．フィールドと、測定条件フィールドと、他装置測定結果フィールドと、位置データフィールドと、を含む。Ｎｏ．フィールドは、複数回の測定を行う場合に、当該測定の順序を表すフィールドである。具体的には、例えばＮｏ．フィールドが１である場合、当該測定が１番目に行われることを示す。

【0044】

測定条件フィールドは、測定装置１００が行う測定の条件を表すフィールドである。具体的には、例えば、試料１０２がウェハであって、ユーザがウェハの複数の位置で元素分析を行う場合について説明する。この場合、測定条件フィールドに入力される値は、ウェハの位置を表す情報である。例えばｒθ座標系の場合、測定条件フィールドが(0,0)である場合、ウェハの中心にＸ線が照射される。また、測定条件フィールドが(45,90)である場合、ウェハの中心から45mm離れた位置であって、試料台１１０の中心、即ちウェハの中心を軸とし、ウェハの所定の配置に対して90度回転した位置にＸ線が照射される。

【0045】

また、測定条件フィールドの値は、ユーザによる手入力または予め保存されたファイルを読込む等の方法によって設定される。図４に示した実施例では、測定条件フィールドには、上から順にｒθ座標系で(0,0)、(45,0)、(45,90)、(45,180)、(45,270)という値が設定されている。測定結果を用いたい他の測定装置が、例えばＸＹ座標系で測定位置を現している場合、上記の設定位置は図５に示すように、Ａ(0,0)、Ｂ(0,-45)、Ｃ(45,0)、Ｄ(0,45)、Ｅ(-45,0)となる。試料１０２毎、測定毎に該当するパラメータを毎回確認して手入力する従来の作業は煩雑であった。

【0046】

他装置測定結果フィールドは、測定装置１００が行う測定に用いられるパラメータを表すフィールドである。測定装置１００が行う測定に用いられるパラメータは、例えば、測定結果取得部２０８が測定結果を取得する際に行う処理に用いるパラメータや、測定条件フィールドが表す測定条件以外の測定条件を表すパラメータ、である。

【0047】

測定結果を取得する際に行う処理に用いるパラメータが、他装置測定結果フィールドに設定される場合、当該パラメータは、例えば膜厚である。具体的には、上記のように測定装置１００が蛍光Ｘ線分析装置である場合、測定結果取得部２０８は、まず分析対象となるＢやＰ等の元素の付着量を得る。当該付着量は、検出器１１４が検出した蛍光Ｘ線１０６の強度に基づいて取得した値である。測定結果取得部２０８は、他の測定装置で測定されたＳｉ酸化膜の膜厚から膜の主成分であるSiO₂の付着量を算出し、薄膜中のＢやＰ等の元素の濃度を得る。また、付着量から密度を算出する場合、密度は、付着量を膜厚で除算することで得られる。測定結果取得部２０８が取得した付着量から薄膜の密度、含有する元素の濃度を算出するために必要なパラメータとして、他装置測定結果フィールドには、他の測定装置で測定された薄膜の膜厚が設定される。

【0048】

他装置測定結果フィールドには、他の測定装置で測定された薄膜の密度を設定してもよい。この場合、膜厚は、付着量を密度で除算することで得られる。一般的には、密度は文献値を用いて計算されるが、実際の試料１０２の測定点で測定された密度を用いることで、より精度良く膜厚を算出することができる。また、他の測定装置で測定された密度により、測定条件として設定される検量線を、予め登録された複数の検量線から選択して元素の濃度を分析することもできる。検証等のために、他の測定装置で測定された元素の付着量や濃度を設定してもよい。

【0049】

また、例えば、測定条件が他装置測定結果フィールドに設定される場合、当該パラメータは、例えば表面ラフネスの値である。具体的には、Ｘ線源１０８が照射するＸ線の照射径が小さい場合、表面ラフネスの大きさは元素分析の精度に影響を与える。そのため、表面ラフネスが測定精度に与える影響を軽減するため、Ｘ線の照射径を大きくする必要がある。表面ラフネスに依存しない照射径のＸ線を照射するために必要なパラメータとして、他装置測定結果フィールドには、表面ラフネスの値が設定される。

【0050】

他装置測定結果フィールドは、ユーザが入力することによって値が設定されてもよいし、他装置測定結果取得部２０６が取得した他装置測定結果が設定されてもよい。図３に示す例では、インポート画面を立ち上げた後、他装置測定結果フィールドは、ユーザにより全て１００という値が設定されている。また、他装置測定結果フィールドは、複数あってもよい。

【0051】

位置データフィールドは、指定位置を表すフィールドである。指定位置は、出力データ表示フィールド３０２に表示された出力データ中のユーザが指定した位置である。具体的には、例えば、ユーザは、管理テーブル３０４上で所望の行（測定条件を設定する対象）を選択した状態で、出力データ表示フィールド３０２上で所望の枠を選択する。この場合、管理テーブル３０４上で選択された行の位置データフィールドに、出力データ表示フィールド３０２上で選択された枠を示す座標が設定される。

【0052】

なお、全ての測定に参照と記載されたチェックボックス３０６にチェックが入っている場合は、管理テーブル３０４の全ての他装置測定結果フィールドに、出力データ表示フィールド３０２上で選択されたパラメータ値が設定され、位置データフィールドに、出力データ表示フィールド３０２上で選択された枠を示す座標が設定される。また、全ての参照をクリアボタン３１２が押下されると、位置データフィールドに設定された全ての値は削除される。

【0053】

出力データ中のユーザの指定位置を取得する動作は、指定位置取得部２０４が行う。具体的には、例えば、指定位置取得部２０４は、表示された出力データのうち、ユーザに指定された他装置測定結果が表された位置を、指定位置として取得する。例えば図６に示すように、ユーザが、管理テーブル３０４上で１行目から５行目をそれぞれ順に選択した状態で、出力データ表示フィールド３０２上でＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７の枠を順に選択したとする。この場合、指定位置取得部２０４は、それぞれ選択された管理テーブル３０４の行と関連付けて、出力データ表示フィールド３０２上で選択された座標を指定位置として取得する。管理テーブル３０４の位置データフィールドには、１行目から順に、取得されたＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７の値が設定される。

【0054】

他装置測定結果取得部２０６は、出力データ取得部２０２が取得した出力データに含まれる、指定位置の他装置測定結果を取得する。具体的には上記の場合、他装置測定結果取得部２０６は、Ｂ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７の枠に表された他装置測定結果を取得する。すなわち、他装置測定結果取得部２０６は、管理テーブル３０４の１行目乃至５行目の他装置測定結果フィールドの値として、順に１００，１０２，１０３，１００，１０１という値を取得する。また、他装置測定結果フィールドには、１行目から５行目まで順に１００，１０２，１０３，１００，１０１という値が設定される。

【0055】

また、他装置測定結果取得部２０６は、出力データ取得部２０２が他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に位置データ記憶部２１０に位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる他装置測定結果を取得する。当該動作については、後述する。

【0056】

測定結果取得部２０８は、取得される他装置測定結果を用いて自らの測定結果を取得する。具体的には、例えば、測定結果取得部２０８は、分析対象となる元素の付着量や濃度、薄膜の膜厚や密度を取得する。

【0057】

位置データ記憶部２１０は、指定位置を示す位置データを記憶する。具体的には上記の場合、位置データ記憶部２１０は、Ｂ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７という値を記憶する。

【0058】

ここで、上記実施例では、出力データは、薄膜の膜厚と関連付けて、膜厚が測定されたウェハにおける測定位置を含んでいる。また、管理テーブル３０４に含まれる測定条件フィールドは、ウェハ上の測定位置が設定されている。そこで、ユーザは、管理テーブル３０４に含まれる測定位置と、出力データに含まれる測定位置と、を対応させることで、他の測定装置によって得られた測定結果を簡便に入力でき、かつ、入力ミスを防止することができる。

【0059】

また、本発明に係る測定装置１００と、他の測定装置は出力データの様式が異なることが通常である。具体的には、図４及び図６に示すように、測定条件フィールドに設定される測定位置と、出力データに含まれる測定位置と、は座標系（ＸＹ座標系とrθ座標系等）が異なっている。ユーザは当該座標系の相違を考慮して、出力データ表示フィールド３０２上の枠を選択することにより、様式が異なっても測定結果を簡便に入力できる。また、本座標系の相違に限らず、単位が異なる場合であっても本発明は有用である。

【0060】

以上の各設定値や指定位置は、ＯＫボタン３１４を押下されることで反映される。ＯＫボタン３１４が押下されたときに、位置データ記憶部２１０は、指定位置を示す位置データを記憶してもよい。また、キャンセルボタンが押下されると、各設定値や指定位置が反映されずにインポート画面は閉じられる。

【0061】

続いて、他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置１００の制御方法について、図７及び図８のフローチャート説明する。

【0062】

図７は、ジョブが位置データを含まない場合における、測定装置１００の制御方法を表すフローチャートである。ジョブが位置データを含まない場合、インポート画面が呼び出された時に位置データフィールドの値が全て空白（null値）である。

【0063】

まず、ユーザはジョブを編集する際に、インポート画面を呼び出す（Ｓ７０２：呼び出しステップ）。具体的には、表示部１２０は、ユーザの操作によって、図３に示すようなインポート画面を表示する。

【0064】

次に、出力データ取得部２０２は、他装置測定結果を含む他の測定装置によって得られた出力データを取得する（Ｓ７０４：出力データ取得ステップ）。具体的には、例えば、ユーザがクリップボードから貼り付けボタン３０８、または、ＣＳＶファイルからインポートボタン３１０を押下することで、出力データ取得部２０２は、エリプソメータが出力した出力データを取得する。取得された出力データに含まれる文字列及び数値は、図４に示すように、出力データ表示フィールド３０２に表示される。

【0065】

次に、指定位置取得部２０４は、出力データ中のユーザの指定位置を取得する（Ｓ７０６：指定位置取得ステップ）。具体的には、例えば、図６に示すように、指定位置取得部２０４は、管理テーブル３０４の１行目乃至５行目と関連付けて、出力データ表示フィールド３０２上で選択されたＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７を指定位置として取得する。

【0066】

次に、他装置測定結果取得部２０６は、出力データ取得部２０２が取得した出力データに含まれる、指定位置の他装置測定結果を取得する（Ｓ７０８：第１の他装置測定結果取得ステップ）。具体的には、他装置測定結果取得部２０６は、出力データ表示フィールド３０２上のＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７にそれぞれ対応する１００，１０２，１０３，１００，１０１という値を取得する。

【0067】

他装置測定結果フィールドには、出力データ表示フィールド３０２のＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７に表示された他装置測定結果が設定される。すなわち、他装置測定結果フィールドの１行目から５行目まで順に、１００，１０２，１０３，１００，１０１という値が設定される。

【0068】

次に、位置データ記憶部２１０は、指定位置を示す位置データを位置データ記憶部２１０に記憶する（Ｓ７１０：位置データ記憶ステップ）。具体的には、位置データ記憶部２１０は、Ｓ７０６で取得された指定位置であるＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７という座標を、管理テーブル３０４の１行目乃至５行目と関連付けて、記憶する。当該ステップは、ユーザがＯＫボタン３１４を押した場合や、編集中のジョブを保存した場合に行われる。

【0069】

次に、測定結果取得部２０８は、取得される他装置測定結果を用いて自らの測定結果を取得する（Ｓ７１２：測定結果取得ステップ）。具体的には、図１に示された各部が動作することにより、測定結果取得部２０８は、ウェハの表面に形成された薄膜の付着量を取得する。この際、試料移動手段１１６（rθステージ）は、ジョブに含まれる測定位置に基づいてウェハが配置された試料台１１０を移動し、ウェハの各座標に１次Ｘ線１０４を照射する。これにより、測定結果取得部２０８は、１次Ｘ線１０４が照射された各位置における付着量を取得する。測定結果取得部２０８は、各測定位置における付着量と、他装置測定結果フィールドの対応する位置に設定されたパラメータを用い、自らの測定結果として膜の密度や膜に含まれる元素の濃度を取得する。

【0070】

より具体的には、ジョブに含まれる１行目乃至５行目の測定において、測定結果取得部２０８は、各測定位置における付着量と、１００，１０２，１０３，１００，１０１という設定されたパラメータを用い、各測定位置における元素の濃度等を取得する。これにより、測定結果取得部２０８は、他の測定装置であるエリプソメータ等によって測定された薄膜の膜厚を用いて、自らの測定結果として薄膜に含まれる元素の濃度等を得ることができる。

【0071】

上記測定装置１００及び測定方法によれば、ユーザは、出力データフィールドに表示された他装置測定結果を選択するだけで、自らの測定結果を得ることができる。従って、ユーザの入力ミスにより、誤った測定結果が得られてしまうことを防止できる。

【0072】

続いて、ジョブが位置データを含む場合について説明する。図８は、ジョブが位置データを含む場合において、測定装置１００の制御方法を表すフローチャートである。ジョブが位置データを含む場合、インポート画面が呼び出された時に位置データフィールドに値が設定されている。当該値は、位置データ記憶部２１０に記憶された値である。

【0073】

まず、ユーザはジョブを編集する際に、インポート画面を呼び出す（Ｓ８０２：呼び出しステップ）。具体的には、表示部１２０は、ユーザの操作によって、図９に示すようなインポート画面を表示する。図９に示すように、図３と異なり、位置データフィールドには、一度指定された指定位置が設定されている。図７で示したフローチャートを実行する際に、編集中のジョブと関連付けた位置データが記憶されている。ジョブを再度編集する際に、Ｓ８０２でインポート画面が呼び出されると、位置データフィールドに保存された位置データが設定される。

【0074】

次に、出力データ取得部２０２は、出力データ取得部２０２が他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する（Ｓ８０４：他の出力データ取得ステップ）。具体的には、例えば、ユーザがクリップボードから貼り付けボタン３０８、または、ＣＳＶファイルからインポートボタン３１０を押下することで、出力データ取得部２０２は、エリプソメータが出力した他の出力データを取得する。

【0075】

ここで、出力データ取得部２０２は、Ｓ７０４で取得された出力データと異なる出力データを取得する。異なる出力データは、例えば、新たにジョブに設定する試料１０２であり、位置データを設定した試料１０２とは異なる試料１０２を測定した結果、出力されたデータである。また、同じ試料１０２を異なる測定装置で測定した結果、出力されるデータであってもよい。出力データが異なる為、出力データ表示フィールド３０２に表示される文字列及び数値は、図６と図１０とで異なる。

【0076】

次に、他装置測定結果取得部２０６は、既に位置データ記憶部２１０に位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる他装置測定結果を取得する（Ｓ８０６：第２の他装置測定結果取得ステップ）。具体的には、位置データフィールドには、１行目から５行目まで順に、Ｂ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７の値が設定されている。すなわち、位置データ記憶部２１０に、当該各値が位置データとして記憶されている。従って、他装置測定結果取得部２０６は、Ｂ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７という位置データが示す指定位置に含まれる９０，９２，９３，９０，９１という他装置測定結果を取得する。また、他装置測定結果フィールドには、１行目から５行目まで順に、９０，９２，９３，９０，９１という値が設定される。

【0077】

次に、測定結果取得部２０８は、取得される他装置測定結果を用いて自らの測定結果を取得する（Ｓ８０８：自らの測定結果取得ステップ）。具体的には、Ｓ７１２と同様に、図１に示された各部が動作することにより、測定結果取得部２０８は、ウェハの表面の各測定位置に形成された薄膜の付着量を取得する。また、測定結果取得部２０８は、各測定位置における付着量と、他装置測定結果フィールドの対応する位置に設定されたパラメータを用いて自らの測定結果を取得する。すなわち、測定結果取得部２０８は、各測定位置での元素の付着量と９０，９２，９３，９０，９１という膜厚を用い、各測定位置における薄膜中の元素の濃度等を取得する。

【0078】

Ｓ８０４で取得した他の出力データが、他装置測定結果を含まない場合もある。具体的には、例えば、Ｓ７０４とＳ８０４で読み込んだ出力データの様式が異なり、出力データ表示フィールド３０２のＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７という枠に他装置測定結果が含まれていない（例えばnull値）場合がある。また、数値であるべき他装置測定結果がテキストデータで合ったり、数値の桁数等が全く異なる場合がある。この場合、警告部１２２は、ユーザに警告を発する。これにより、ユーザは、読込んだ出力データが誤りであると認識することができる。

【0079】

以上により、ユーザが指定位置を含むジョブを作成し、次に当該ジョブを用いて測定を行う場合、再度位置を指定しなくとも、他装置測定結果を反映した測定を行うことができる。従って、上記測定装置１００及び測定方法によれば、より簡便に、入力ミスなく、他装置測定結果を反映した測定を行うことができる。

【0080】

本発明は、上記の実施例に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。上記構成やジョブは一例であって、これに限定されるものではない。上記の実施例で示した構成と実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成する構成で置き換えてもよい。

【0081】

例えば、測定装置１００が蛍光Ｘ線分析装置である場合について説明を行ったが、測定装置１００は他の装置であってもよい。例えば、測定装置１００は、長さ、質量、時間、電流、温度、物質量、光度などを測定する装置であってもよい。

【0082】

また、他の測定装置がエリプソメータである場合について説明したが、他の測定装置はエリプソメータ以外の測定機器であってもよい。具体的には、例えば、他の測定装置は、Ｘ線反射率法によって薄膜の膜厚を測定するＸ線反射率測定装置や、ウェハ上の塵埃位置データを取得するレーザ塵埃分析装置であってもよい。

【0083】

さらに、他の測定装置と測定装置１００の組み合わせは、エリプソメータと蛍光Ｘ線分析装置に限られず、他の組み合わせであってもよい。具体的には、他の測定装置であるレーザ塵埃分析装置と、測定装置１００である全反射蛍光Ｘ線分析装置とを組み合わせてもよい。この場合、レーザ塵埃分析装置によって得られるウェハ上の塵埃位置データを用いて、全反射蛍光Ｘ線分析装置は、塵埃位置データが示すウェハ上の位置における薄膜の分析結果を得る。

【0084】

また、例えば、他の測定装置である蛍光Ｘ線分析装置と、測定装置１００であるエリプソメータとを組み合わせてもよい。この場合、蛍光Ｘ線分析装置によって得られる元素の濃度や薄膜の密度等のデータを用いて、エリプソメータは薄膜の膜厚を得る。

【0085】

さらに、例えば、他の測定装置である蛍光Ｘ線分析装置と、測定装置１００である反射率計とを組み合わせてもよい。この場合、蛍光Ｘ線分析装置によって得られる元素の濃度や薄膜の密度等のデータを用いて、反射率計は、薄膜の反射率を得る。以上のように、測定装置１００が他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得るのであれば、測定装置１００と他の装置測定は、様々の組合せで利用できる。

【0086】

また、上記において、他装置測定結果及び自らの測定結果が数値データであり、自らの測定結果が他装置測定結果を用いて算出される実施例について説明したが、これに限られない。測定装置１００は、他装置測定結果である数値データを自らの測定結果と対比できるように表示または出力してもよい。例えば、測定装置１００は、自らの測定結果のみから算出された元素付着量を示す数値データ及び測定位置を示す数値データと、他の測定装置から取得した対応する測定位置における膜厚を示す数値データと、を一連の自らの測定結果の数値表やマッピング図として表示または出力してもよい。また、他装置測定結果及び自らの測定結果は数値データに限られず、テキストデータ、画像データ、音声データ等の情報処理部１２４が扱うことのできるデータであれば他のデータであってもよい。例えば、他の測定装置及び測定装置１００が他装置測定結果及び自らの測定結果をマッピング表示する場合、他装置測定結果及び自らの測定結果は画像データであってもよい。より、具体的には、他の測定装置であるレーザ塵埃分析装置はウェハ上の塵埃位置を示す画像データを取得し、測定装置１００である蛍光Ｘ線分析装置はウェハ上の各測定位置における元素の濃度等の測定結果をマッピング表示してもよい。この場合、測定装置１００は、各測定位置における元素の濃度等の測定結果に他装置測定結果を重ね合わせた画像データを自らの測定結果として取得し、表示してもよい。

【0087】

また、読み込まれる出力データは、測定装置１００の内部の記憶装置に記憶されていてもよいし、測定装置１００とネットワークを介して接続された記憶装置に記憶されていてもよい。

【0088】

また、位置データフィールド設定される値は、出力データ表示フィールド３０２上で選択された位置を表す値であれば、出力データ表示フィールド３０２上で選択された枠に付された座標でなくてもよい。また、上記は、測定装置１００の測定データと他の測定装置の測定データを関連付けるデータとして試料上の位置データを用いた例で説明したが、試料自体のIDやロット番号等を用いてもよい。

【0089】

また、上記は、測定装置１００及び測定方法について説明したが、本発明は、他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置１００に用いられるコンピュータで実行されるプログラムであってもよい。当該コンピュータは、例えば情報処理部１２４である。当該プログラムは、情報処理部１２４の内部に配置された記憶部またはネットワークを介して測定装置１００と接続された記憶部に記憶される。

【符号の説明】

【0090】

１００ 測定装置、１０２ 試料、１０４ １次Ｘ線、１０６ 蛍光Ｘ線、１０８ Ｘ線源、１１０ 試料台、１１２ 分光素子、１１４ 検出器、１１６ 試料移動手段、１１８ 計数部、１２０ 表示部、１２２ 警告部、１２４ 情報処理部、２０２ 出力データ取得部、２０４ 指定位置取得部、２０６ 他装置測定結果取得部、２０８ 測定結果取得部、２１０ 位置データ記憶部、３０２ 出力データ表示フィールド、３０４ 管理テーブル、３０６ チェックボックス、３０８ クリップボードから貼り付けボタン、３１０ ＣＳＶファイルからインポートボタン、３１２ 全ての参照をクリアボタン、３１４ ＯＫボタン、３１６ Ｃａｎｃｅｌボタン。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【手続補正書】

【提出日】2019年12月5日

【手続補正1】

【補正対象書類名】特許請求の範囲

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

【請求項1】

他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置であって、
前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得部と、
ユーザの指定により、前記出力データの中で前記他装置測定結果が表されたアドレスを表す指定位置を取得する指定位置取得部と、
前記出力データ取得部が取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する他装置測定結果取得部と、
取得される他装置測定結果を用いて前記自らの測定結果を取得する測定結果取得部と、
前記指定位置を示す位置データを記憶する位置データ記憶部と、を含み、
前記他装置測定結果取得部は、前記出力データ取得部が前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する、
ことを特徴とする測定装置。

【請求項2】

前記測定装置はさらに、前記出力データに含まれる前記他装置測定結果を表示する表示部を有し、
前記指定位置取得部は、表示された前記他装置測定結果のうちユーザに指定された前記他装置測定結果が表された位置を、前記位置データとして取得する
ことを特徴とする請求項１に記載の測定装置。

【請求項3】

前記測定装置はさらに、前記位置データが記憶される際に取得された前記出力データと、前記他の出力データと、の様式が異なる場合に、ユーザに警告を発する警告部を有することを特徴とする請求項１または２に記載の測定装置。

【請求項4】

前記測定装置は、試料の表面に１次Ｘ線を照射することによって発生した蛍光Ｘ線により試料の分析を行う蛍光Ｘ線分析装置であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の測定装置。

【請求項5】

前記試料は、表面に薄膜が形成された基板であって、
前記他装置測定結果は、前記他の測定装置に測定された前記薄膜の膜厚、または密度、または前記薄膜に含まれる元素の濃度である、
ことを特徴とする請求項４に記載の測定装置。

【請求項6】

前記出力データは、前記薄膜の膜厚と関連付けて、前記膜厚が測定された前記基板における測定位置を含み、
蛍光Ｘ線分析装置である前記測定装置は、前記測定位置に１次Ｘ線を照射し、発生した蛍光Ｘ線により前記薄膜に含まれる元素の濃度、または前記薄膜の密度を分析する、
ことを特徴とする請求項５に記載の測定装置。

【請求項7】

他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置に用いられるコンピュータで実行されるプログラムであって、
前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得ステップと、
ユーザの指定により、前記出力データの中で前記他装置測定結果が表されたアドレスを表す指定位置を取得する指定位置取得ステップと、
前記自らの測定結果を取得するために、前記出力データ取得ステップで取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する第１の他装置測定結果取得ステップと、
前記指定位置を示す位置データを位置データ記憶部に記憶する位置データ記憶ステップと、
前記出力データ取得ステップで前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する第２の他装置測定結果取得ステップと、
を前記コンピュータに実行させるプログラム。

【請求項8】

他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置の制御方法であって、
前記他装置測定結果を含む前記他の測定装置によって得られた出力データを取得する出力データ取得ステップと、
ユーザの指定により、前記出力データの中で前記他装置測定結果が表されたアドレスを表す指定位置を取得する指定位置取得ステップと、
前記出力データ取得ステップで取得した前記出力データに含まれる、前記指定位置の他装置測定結果を取得する第１の他装置測定結果取得ステップと、
取得される他装置測定結果を用いて前記自らの測定結果を取得する測定結果取得ステップと、
前記指定位置を示す位置データを位置データ記憶部に記憶する位置データ記憶ステップと、
前記出力データ取得ステップで前記他の測定装置によって得られた他の出力データを取得する場合に、既に前記位置データ記憶部に前記位置データが記憶されていれば、該位置データが示す指定位置に含まれる前記他装置測定結果を取得する第２の他装置測定結果取得ステップと、
を有することを特徴とする測定装置の制御方法。

【手続補正2】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６１

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0061】

続いて、他の測定装置によって得られる他装置測定結果を用いて自らの測定結果を得る測定装置１００の制御方法について、図７及び図８のフローチャートを用いて説明する。

【手続補正3】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００７８

【補正方法】変更

【補正の内容】

【0078】

Ｓ８０４で取得した他の出力データが、他装置測定結果を含まない場合もある。具体的には、例えば、Ｓ７０４とＳ８０４で読み込んだ出力データの様式が異なり、出力データ表示フィールド３０２のＢ１０，Ｂ１２，Ｂ１３，Ｂ１６，Ｂ１７という枠に他装置測定結果が含まれていない（例えばnull値）場合がある。また、数値であるべき他装置測定結果がテキストデータであったり、数値の桁数等が全く異なる場合がある。この場合、警告部１２２は、ユーザに警告を発する。これにより、ユーザは、読込んだ出力データが誤りであると認識することができる。