特開2020-80295(P2020-80295A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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  • 特開2020080295-隔壁を具えた光電機構の製作方法 図000003
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】特開2020-80295(P2020-80295A)
(43)【公開日】2020年5月28日
(54)【発明の名称】隔壁を具えた光電機構の製作方法
(51)【国際特許分類】
   H01H 11/00 20060101AFI20200501BHJP
   H01H 35/00 20060101ALI20200501BHJP
【FI】
   H01H11/00 Z
   H01H35/00 V
【審査請求】有
【請求項の数】6
【出願形態】OL
【全頁数】7
(21)【出願番号】特願2018-227113(P2018-227113)
(22)【出願日】2018年12月4日
(31)【優先権主張番号】107140201
(32)【優先日】2018年11月13日
(33)【優先権主張国】TW
(71)【出願人】
【識別番号】518088288
【氏名又は名称】同泰電子科技股▲分▼有限公司
(71)【出願人】
【識別番号】518198875
【氏名又は名称】鷹克實業有限公司
(74)【代理人】
【識別番号】110000660
【氏名又は名称】Knowledge Partners 特許業務法人
(74)【代理人】
【識別番号】100117466
【弁理士】
【氏名又は名称】岩上 渉
(72)【発明者】
【氏名】李 遠智
(72)【発明者】
【氏名】李 家銘
(72)【発明者】
【氏名】丁 ▲楡▼軒
【テーマコード(参考)】
5G023
5G055
【Fターム(参考)】
5G023CA41
5G055AA11
5G055AB02
5G055AC01
5G055AD12
5G055AD25
5G055AE03
(57)【要約】
【課題】 隔壁を具えた光電機構の製作方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、隔壁の加工精度を向上すると共にコストを削減できる光電機構の製作方法を開示し、前記製作方法は基板を用意するステップと、実装面を露出するため、少なくとも1個の開口部を備えた隔壁膜を前記基板の実装面に積層するステップと、前記少なくとも1個の開口部内に少なくとも1個の光電ユニットを設け、前記光電ユニットが発光ユニット及び受光ユニットのうちのいずれか1つであり、かつ前記隔壁膜が前記光電ユニットより高いステップとを含む。
【選択図】 図5
【特許請求の範囲】
【請求項1】
基板を用意するステップと、
実装面を露出するため、少なくとも1個の開口部を備えた隔壁膜を前記基板の前記実装面に積層するステップと、
前記実装面に少なくとも1個の光電ユニットを設け、前記少なくとも1個の光電ユニットは前記少なくともの1個の開口部内に位置し、かつ前記光電ユニットが発光ユニット及び受光ユニットのうちのいずれか1つであり、前記隔壁膜が前記光電ユニットより高いステップと
を含むことを特徴とする、隔壁を具えた光電機構の製作方法。
【請求項2】
前記隔壁膜が前記実装面に積層された時、前記隔壁膜の少なくとも一部は半硬化状態となり、かつ前記隔壁膜の半硬化状態の部分が前記実装面に接触することを特徴とする、請求項1に記載の隔壁を具えた光電機構の製作方法。
【請求項3】
前記隔壁膜が前記実装面に積層された時、前記隔壁膜の一部は硬化状態となり、かつ前記隔壁膜の硬化状態の部分が前記実装面に接触しないことを特徴とする、請求項2に記載の隔壁を具えた光電機構の製作方法。
【請求項4】
前記少なくとも1個の開口部は、前記隔壁膜が前記実装面に積層される前に形成されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の隔壁を具えた光電機構の製作方法。
【請求項5】
前記少なくとも1個の開口部は、前記隔壁膜が前記実装面に積層してから形成されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の隔壁を具えた光電機構の製作方法。
【請求項6】
前記少なくとも1個の開口部内に前記光電ユニットを設けた後、更に前記少なくとも1個の開口部内にゲルを塗布することを特徴とする、請求項1又は2に記載の隔壁を具えた光電機構の製作方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光電機構の製作方法に関し、特に、光電機構上において隔壁を形成する製作方法に関する。
【背景技術】
【0002】
従来の光センサは、発光ユニットと受光ユニットとを含み、発光ユニットから発せられた光が検出物体で反射された後、受光ユニットで受けると共に検出信号を出力できる。発光ユニットから発せられた光が受光ユニットに直接伝送されるのを防止するため、従来の光センサでは発光ユニットと受光ユニットとの間に隔壁を設けることで、発光ユニットに所定の方向にのみ光を発せさせ、また受光ユニットにも所定の方向からきた光のみを検出させることで、光センサの信頼性を向上していた。
【0003】
従来の光センサの隔壁の多くは、射出成形(injection molding)等のモールド方式で形成されてきたが、この製造工程には、(1)容易にゲルのはみ出しという問題が生じることにより、歩留まりが低下し、(2)容易に型ずれ(mold shift)により精度に影響を及ぼし、かつ小型化に不利であり、(3)異なる隔壁形状に応じて各々金型を製作することにより、コストが増えるという欠点があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
そこで、本発明は上記のような従来技術の問題点に鑑みて、精度を向上すると共にコストを削減できる光電機構の製作方法を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
上記目的を達成するため、本発明に係る隔壁を具えた光電機構の製作方法は、基板を用意するステップと、実装面を露出するため、少なくとも1個の開口部を備えた隔壁膜を前記基板の実装面に積層するステップと、前記実装面に少なくとも1個の光電ユニットを設け、前記少なくとも1個の光電ユニットは前記少なくともの1個の開口部内に位置し、かつ前記光電ユニットが発光ユニット及び受光ユニットのうちのいずれか1つであり、前記隔壁膜が前記光電ユニットより高いステップとを含む。
【発明の効果】
【0006】
上記方法を通じて形成された隔壁の精度は高く、加工コストが削減でき、かつ光電機構の回路設計の自由度も高めることができ、開口部の位置或いは形状を変更しても従来技術のように製作し直し或いは金型を改修する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【0007】
図1】本発明の実施例1に係る製作方法を示す模式図である。
図2】本発明の実施例1に係る製作方法を示す模式図である。
図3】本発明の実施例1に係る製作方法を示す模式図である。
図4】本発明の実施例1に係る製作方法を示す模式図である。
図5】本発明の実施例1に係る製作方法を示す模式図である。
図6】本発明の実施例2に係る製作方法を示す模式図である。
図7】本発明の実施例2に係る製作方法を示す模式図である。
図8】本発明の実施例2に係る製作方法を示す模式図である。
図9】本発明の実施例2に係る製作方法を示す模式図である。
図10】本発明の実施例2に係る製作した光電機構の上面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
本発明は、隔壁を具えた光電機構の製作方法であり、前記光電機構が発光装置、受光装置又は発光と受光機能を同時に備えた装置とすることができ、例えば従来技術の光センサであり、前記光センサがリモコン、測距儀に活用できるが、これに限定されない。
【0009】
図1図2図3を参照すると、本発明の一実施例において、前記製作方法は次のステップを含む。基板10を用意し、前記基板10は回路が既製されている回路基板或いはLED用のリードフレームとすることができ、例を挙げると、基板10は絶縁基材と、絶縁基材に形成された回路構造と、コンタクトパッドとを備え、前記絶縁基材が例えばエポキシ樹脂、ガラス布(woven glass)、ポリエステル或いは回路基板製作によく使用されている基材の材質である。次に、隔壁膜20を基板10の実装面11に積層し、前記隔壁膜20は少なくとも1個の開口部21(本実施例の開口部の個数は、2個)を備え、開口部21が隔壁膜20を基板10に積層した後、レーザーカット方法で形成され、実装面11が開口部21から露出でき、開口部21内において前記回路構造或いはコンタクトパッドを覆うことができる。好ましい実施形態において、隔壁膜20の主要成分は、エポキシ樹脂で、かつ隔壁膜20が基板10に積層される前に、半硬化状態(partial curing stage)とし、すなわち、隔壁膜20内の高分子の架橋が不完全で、隔壁膜20が基板10に積層されてから熱硬化、光硬化を通じて隔壁膜20を硬化状態(full curing stage)に移行し、隔壁膜20内の高分子を完全に架橋にさせ、硬化状態の隔壁膜は以上で述べた光センサの隔壁の光遮断と類似した機能を持つ。好ましい実施形態において、半硬化状態の隔壁膜20は、基板10に積層される前に、キャリアフィルムに形成され、キャリアフィルムが隔壁膜20を基板10に積層した後に除去され、また前記キャリアフィルムはポリエチレンテレフタレート(PET)或いはその他のポリエステル薄膜、ポリイミド薄膜、ポリアミドイミド薄膜、ポリプロピレン薄膜、ポリスチレン薄膜とすることができる。好ましい実施形態において、隔壁膜20は、黒色とすることで大部分の光を吸収できる。
【0010】
次に、図4を参照すると、各開口部21内に光電ユニット30が設けられ、光電ユニット30は、発光ユニット及び受光ユニットのうちのいずれか1つであり、本実施例において、図4の右側にある光電ユニットが発光ユニットであり、図4の左側にある光電ユニットが受光ユニットであり、かつ隔壁膜20は光電ユニットより高いことで光を遮断し、必要がある場合、光電ユニット30が基板10上の回路構造或いはコンタクトパッドと電気的な接続を形成し、前記電気的な接続は例えばワイヤボンディング(wire bonding)で実現し、光電ユニットがフリップチップLEDの場合、又はその他適切な場合において、ワイヤボンディングステップを省略できる。発光ユニットはLEDの場合、受光ユニットがCCD或いはCMOSの場合、発光ユニットが光を発射するために用いられ、受光ユニットが光を検出するために用いられ、前記光が可視光或いは不可視光とすることができ、例えば赤外線である。
【0011】
次に、図5を参照すると、開口部内にゲルを塗布し、塗布するゲル40は、透明ゲル或いは蛍光性ゲルのような透光ゲルとすることができ、前記光電ユニットを保護するために用いられ、及び/或いは予め選択された波長の光を発するために用いられ、すなわち、製作した光電機構は基板10と、少なくとも1個の開口部21を備えた隔壁膜20が基板10に積層された実装面11と、実装面11上に形成されると共に開口部21内に位置する少なくとも1個の光電ユニット30と、開口部21内に形成されたゲル40と、備える。
【0012】
図6乃至図10を参照すると、本発明の他の実施例において、前記製作方法との相違点は、隔壁膜20が基板10に積層する前に、硬化状態の部分22と半硬化状態の部分23とを備え、硬化状態の部分22がその後実装面11に接触せず、半硬化状態の部分23が積層した後で実装面11に接触し;かつ本実施例の隔壁膜20が基板10に積層する前に、更に穴あけ又はその他の方式で前記開口部21を形成し、開口部21が硬化状態の部分22及び半硬化状態の部分23を貫通し;隔壁膜20が基板10に積層されてから熱硬化、光硬化を通じて半硬化状態の部分23を硬化状態(full curing stage)に移行することである。本実施例において、半硬化状態の部分は、ゲルのような機能を持ち、熱硬化、光硬化過程において、隔壁膜20を基板10上に固定させる。好ましい実施形態において、硬化状態の部分22、半硬化状態の部分23及び基板10の絶縁基材は、同じ材質で製造されることで、基板10と隔壁膜20に同一の熱膨張係数を持たせ、その後の熱処理時においてクラック(cracking)を防止し、製造工程の信頼性向上に役立つ。
【符号の説明】
【0013】
10 基板
11 実装面
20 隔壁膜
21 開口部
22 硬化状態の部分
23 半硬化状態の部分
30 光電ユニット
40 ゲル
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10