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特開 2021-161010出願番号 特願 2020-67151
ベーサル窒素を選択的に導入した含窒素炭素材料およびその製造方法
出願人 国立大学法人 千葉大学（識別番号 304021831）
2026年 特許公開件数ランキング 540位 53件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 849位 30件（※）
出願人 株式会社日本触媒（識別番号 4628）
2026年 特許公開件数ランキング 447位 53件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 223位 101件（※）
公報発行日 2021年10月11
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2021-161010 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
ベーサル窒素を選択的に導入した含窒素炭素材料およびその製造方法
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】ベーサル面に窒素原子が導入されて構造が精密に制御された含窒素炭素材料を提供する。また、そのような含窒素炭素材料を、温和な条件で簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】本発明の実施形態による含窒素炭素材料は、窒素原子を有する含窒素炭素材料であって、Ｎ１ｓＸＰＳ分析において、該含窒素炭素材料中の全窒素原子のピークに対する、ベーサル窒素原子のピークの割合が、８０％以上である。本発明の実施形態による含窒素炭素材料の製造方法は、含窒素炭素材料を製造する方法であって、２つ以上の隣接した環構造が共有する原子の少なくとも１つが窒素原子である縮環化合物（Ａ）を加熱する加熱工程（Ｉ）を含む。
【選択図】図１
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の課題は、ベーサル面に窒素原子が導入されて構造が精密に制御された含窒素炭素材料を提供することにある。また、そのような含窒素炭素材料を、温和な条件で簡便に製造する方法を提供することにある。課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の実施形態による含窒素炭素材料は、
窒素原子を有する含窒素炭素材料であって、
Ｎ１ｓＸＰＳ分析において、該含窒素炭素材料中の全窒素原子のピークに対する、ベーサル窒素原子のピークの割合が、８０％以上である。
【発明の効果】
本発明によれば、ベーサル面に窒素原子が導入されて構造が精密に制御された含窒素炭素材料を提供することができる。また、そのような含窒素炭素材料を、温和な条件で簡便に製造する方法を提供することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】実施例１で得られた含窒素炭素材料（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）のＮ１ｓＸＰＳ分析のＸＰＳスペクトル図である。
【図2】実施例１で得られた含窒素炭素材料（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）のラマン分光分析のラマンスペクトル図である。
【図3】実施例１で得られた含窒素炭素材料（１ａ）、（１ｂ）、（１ｃ）のＩＲ分析のＩＲスペクトル図である。
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
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