特開 2021-180304 基板支持装置及び基板支持方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】公開特許公報(A)

(11)【公開番号】特開2021-180304(P2021-180304A)

(43)【公開日】2021年11月18日

(54)【発明の名称】基板支持装置及び基板支持方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/677 20060101AFI20211022BHJP

   B65G 49/06 20060101ALI20211022BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/68 A

   B65G49/06 A

【審査請求】未請求

【請求項の数】17

【出願形態】ＯＬ

【全頁数】20

(21)【出願番号】特願2021-74675(P2021-74675)

(22)【出願日】2021年4月27日

(31)【優先権主張番号】10-2020-0057034

(32)【優先日】2020年5月13日

(33)【優先権主張国】KR

(71)【出願人】

【識別番号】510223380

【氏名又は名称】エーピー システムズ インコーポレイテッド

(74)【代理人】

【識別番号】110001427

【氏名又は名称】特許業務法人前田特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】オム テジュン

(72)【発明者】

【氏名】パク ジェヒョン

(72)【発明者】

【氏名】キム ジョンウォン

(72)【発明者】

【氏名】イム ミンジュン

【テーマコード（参考）】

5F131

【Ｆターム（参考）】

5F131AA03

5F131AA13

5F131AA32

5F131AA33

5F131BA13

5F131CA32

5F131DA02

5F131DA22

5F131DA42

5F131EA05

5F131EA13

5F131EA23

(57)【要約】      （修正有）

【課題】基板の搬入及び搬出の作業を速やかに行うことができ、基板を安定的に支持することができる他、基板を処理する工程の効率性を向上させることのできる基板支持装置及び基板支持方法を提供する。
【解決手段】搬送ユニットにより運ばれる基板が載置可能な基板支持装置であって、ベースプレート１１０と、ベースプレートの上に離間して設けられる複数の第１の載置部材を有する第１の載置部と、第１の載置部材同士の間に配置されて上下に移動可能な第２の載置部と、第１の受け台１４１と第２の受け台１４３により柱部材１４２とクランプ１４４がそれぞれ支持される、上側に移動した第２の載置部を固定可能な固定部１４０と、を備える。基板の搬入及び搬出の作業を速やかに行いながら、基板を安定的に支持することができる。
【選択図】図４

【特許請求の範囲】

【請求項1】

搬送ユニットにより運ばれる基板が載置可能な基板支持装置であって、
ベースプレートと、
前記基板は載置され、かつ、前記搬送ユニットは通過できるように、前記ベースプレートの上に離間して設けられる複数の第１の載置部材を有する第１の載置部と、
少なくとも一部が前記第１の載置部材同士の間に配置されて上下に移動可能なように、前記ベースプレートの上に設けられる第２の載置部と、
前記第２の載置部が上側に移動した位置において前記第２の載置部を固定可能な固定部と、
を備える基板支持装置。

【請求項2】

前記第２の載置部は、
複数配備されて互いに離間し、前記第１の載置部材同士の間にそれぞれ配置される第２の載置部材と、
前記第２の載置部材と連結される連結部材と、
前記連結部材を上下に移動させ得るように、前記ベースプレートと前記連結部材との間に設けられる駆動部材と、
を備える請求項１に記載の基板支持装置。

【請求項3】

前記固定部は、
前記第２の載置部とともに上下に移動可能なように、前記第２の載置部に連結される柱部材と、
前記柱部材をクランプ可能なように、前記柱部材が移動する経路に配置されるクランプと、
を備える請求項１又は請求項２に記載の基板支持装置。

【請求項4】

前記クランプは、
前記柱部材が貫通可能な貫通口を有する凸部材と、
前記貫通口の内部に嵌入された前記柱部材に密着可能なように、前記凸部材の内部空間に移動自在に設けられる密着部材と、
を備える請求項３に記載の基板支持装置。

【請求項5】

前記密着部材は、前記柱部材の移動方向と交わる方向に移動可能であり、
前記柱部材と前記密着部材のうちのどちらか一方の少なくとも一部に溝が形成され、他方の少なくとも一部が前記溝に嵌入可能である請求項４に記載の基板支持装置。

【請求項6】

前記溝は、前記密着部材が移動する方向に対して傾斜を有するか、あるいは、凹状に形成される請求項５に記載の基板支持装置。

【請求項7】

前記第１の載置部材と前記第２の載置部材とをレベリング可能なレベル調節部をさらに備える請求項２に記載の基板支持装置。

【請求項8】

前記レベル調節部は、
前記第１の載置部材のそれぞれの上下方向の位置を調節可能なように設けられる第１のレベル調節部材と、
前記第２の載置部材のそれぞれの上下方向の位置を調節可能なように、前記連結部材と前記第２の載置部材との間に設けられる第２のレベル調節部材と、
を備える請求項７に記載の基板支持装置。

【請求項9】

前記第１の載置部は、
前記第１の載置部材を支持するように、前記ベースプレートに設けられる支持台をさらに備え、
前記第１のレベル調節部材は、
前記ベースプレートと前記第１の載置部材との間の間隔を調節可能なように、前記ベースプレートと前記第１の載置部材との間に設けられる第１のレベル器と、
前記支持台と前記第１の載置部材との間の間隔を調節可能なように、前記支持台と前記第１の載置部材との間に設けられる第２のレベル器と、
を備える請求項８に記載の基板支持装置。

【請求項10】

前記第１の載置部と前記第２の載置部は、前記ベースプレートの上部面に連結され、
前記レベル調節部は、
前記ベースプレートの位置別の高さを調節可能な第３のレベル調節部材と、
前記ベースプレートと前記第１の載置部材との間の間隔を位置別に調節可能な第４のレベル調節部材と、
を備える請求項７乃至請求項９のいずれか一項に記載の基板支持装置。

【請求項11】

前記レベル調節部は、
前記第１の載置部材と前記第２の載置部材のそれぞれの水平具合を感知可能な感知器をさらに備える請求項８又は請求項９に記載の基板支持装置。

【請求項12】

前記ベースプレートが配置される高さを調節可能な高さ調節部をさらに備える請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の基板支持装置。

【請求項13】

前記高さ調節部は、
前記ベースプレートの下部に連結される支持部材と、
前記支持部材を上下に移動させ得るように、前記支持部材と連結される昇降部材と、
前記基板の厚さに応じて、前記昇降部材の作動を制御可能な制御器と、
を備える請求項１２に記載の基板支持装置。

【請求項14】

搬送ユニットにより運ばれる基板を基板支持装置に支持する方法であって、
互いに離間する複数の第１の載置部材よりも、前記第１の載置部材同士の間に設けられる第２の載置部材の方の位置が低くなるように、前記第２の載置部材を一方向に移動する手順と、
前記第１の載置部材同士の間の空間に前記搬送ユニットを通過させつつ、前記搬送ユニットに支持された基板を前記第１の載置部材の上に移載する手順と、
前記第１の載置部材同士の間の空間の外側に前記搬送ユニットを移動する手順と、
一方向とは反対の方向に前記第２の載置部材を移動して、前記第２の載置部材を基板に接触させる手順と、
基板と接触させられた位置に前記第２の載置部材を固定する手順と、
を含む基板支持方法。

【請求項15】

前記第２の載置部材を固定する手順は、
前記第２の載置部材につれて移動する柱部材をクランプして、前記第２の載置部材の移動を制限する手順を含む請求項１４に記載の基板支持方法。

【請求項16】

前記第１の載置部材の上に基板を載置する前に、
前記第１の載置部材と前記第２の載置部材の水平具合を検査する手順と、
前記第１の載置部材と前記第２の載置部材をレベリングする手順と、
をさらに含む請求項１４又は請求項１５に記載の基板支持方法。

【請求項17】

前記第２の載置部材を固定した後、
前記基板支持装置の上側に配置されて基板を処理する基板処理装置と、前記第１の載置部材及び前記第２の載置部材の上に載置された基板との間の距離を調節する手順をさらに含む請求項１４乃至請求項１６のいずれか一項に記載の基板支持方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板支持装置及び基板支持方法に係り、さらに詳しくは、基板の搬入及び搬出の作業を速やかに行いながら、基板を安定的に支持することのできる基板支持装置及び基板支持方法に関する。

【背景技術】

【0002】

次世代ディスプレイとしてのフレキシブル・ディスプレイ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ）への取り組みが盛んに行われている。フレキシブル・ディスプレイは、軽量薄型であるだけではなく、衝撃にも強く、自由に撓ませたり曲げたりすることのできる多種多様な形状に製作可能であるというメリットがある。

【0003】

このとき、フレキシブル・ディスプレイを実現する一つの方法を用いて、薄膜トランジスター（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）回路と発光素子である有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）を特定の構造にフィルムの上に形成するが、フィルムの取り扱い性が容易ではないため、キャリアガラス（Ｃａｒｒｉｅｒ Ｇｌａｓｓ）にフィルムを貼り付けた状態で薄膜トランジスターの形成工程を行う。したがって、フィルムの上に薄膜トランジスターを形成した後、レーザーリフトオフ（ＬＬＯ：Ｌａｓｅｒ Ｌｉｆｔ Ｏｆｆ）装置を用いて、キャリアガラスからフィルムを剥がし出す工程を行う。すなわち、レーザーの照射によりキャリアガラスとフィルムとの間の接着剤にエネルギーを加えて接着力を減少させ、キャリアガラスとフィルムとを引き離して取り除くことができる。

【0004】

従来には、吸着機を用いて、キャリアガラスをレーザーリフトオフ装置に配備されるテーブル（Ｔａｂｌｅ）に搬入又は搬出をする作業を行っていた。例えば、キャリアガラスを搬入する作業は、キャリアガラスを支持する搬送ロボットを吸着機の下側に移動させる手順、キャリアガラスを上側に移動させて吸着機に吸着させる手順、搬送ロボットを吸着機の外側に移動させる手順、吸着機を下側に移動させてキャリアガラスをテーブルに載置する手順、吸着機とキャリアガラスとを引き離し、吸着機を上側に移動させる手順をこ順を行うことにより行われる。キャリアガラスを搬出する作業は、キャリアガラスを搬入する作業の逆順に行われる。

【0005】

このように、キャリアガラスの搬入又は搬出を行うに際して、吸着機にキャリアガラスを吸着させたり分離したりする作業を行うことを余儀なくされるため、キャリアガラスを搬入又は搬出する作業を行う上で長い時間がかかる。したがって、レーザーリフトオフ処理工程が遅れてしまうという不都合がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】大韓民国公開特許第２０１７−０１２１９４４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明は、基板の搬入及び搬出の作業を速やかに行うことのできる基板支持装置及び基板支持方法を提供する。

【0008】

本発明は、基板を安定的に支持することのできる基板支持装置及び基板支持方法を提供する。

【0009】

本発明は、基板を処理する工程の効率性を向上させることのできる基板支持装置及び基板支持方法を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0010】

本発明は、搬送ユニットにより運ばれる基板が載置可能な基板支持装置であって、ベースプレートと、前記基板は載置され、かつ、前記搬送ユニットは通過できるように、前記ベースプレートの上に離間して設けられる複数の第１の載置部材を有する第１の載置部と、少なくとも一部が前記第１の載置部材同士の間に配置されて上下に移動可能なように、前記ベースプレートの上に設けられる第２の載置部と、前記第２の載置部が上側に移動した位置において前記第２の載置部を固定可能な固定部と、を備える。

【0011】

前記第２の載置部は、複数が配備されて互いに離間し、前記第１の載置部材同士の間にそれぞれ配置される第２の載置部材と、前記第２の載置部材と連結される連結部材と、前記連結部材を上下に移動させ得るように、前記ベースプレートと前記連結部材との間に設けられる駆動部材と、を備える。

【0012】

前記固定部は、前記第２の載置部とともに上下に移動可能なように、前記第２の載置部に連結される柱部材と、前記柱部材をクランプ可能なように、前記柱部材が移動する経路に配置されるクランプと、を備える。

【0013】

前記クランプは、前記柱部材が貫通可能な貫通口を有する凸部材と、前記貫通口の内部に嵌入された前記柱部材に密着可能なように、前記凸部材の内部空間に移動自在に設けられる密着部材と、を備える。

【0014】

前記密着部材は、前記柱部材の移動方向と交わる方向に移動可能であり、前記柱部材と前記密着部材のうちのどちらか一方の少なくとも一部に溝が形成され、他方の少なくとも一部が前記溝に嵌入可能である。

【0015】

前記溝は、前記密着部材が移動する方向に対して傾斜を有するか、あるいは、凹状に形成される。

【0016】

前記第１の載置部材と前記第２の載置部材とをレベリング可能なレベル調節部をさらに備える。

【0017】

前記レベル調節部は、前記第１の載置部材のそれぞれの上下方向の位置を調節可能なように設けられる第１のレベル調節部材と、前記第２の載置部材のそれぞれの上下方向の位置を調節可能なように、前記連結部材と前記第２の載置部材との間に設けられる第２のレベル調節部材と、を備える。

【0018】

前記第１の載置部は、前記第１の載置部材を支持するように、前記ベースプレートに設けられる支持台をさらに備え、前記第１のレベル調節部材は、前記ベースプレートと前記第１の載置部材との間の間隔を調節可能なように、前記ベースプレートと前記第１の載置部材との間に設けられる第１のレベル器と、前記支持台と前記第１の載置部材との間の間隔を調節可能なように、前記支持台と前記第１の載置部材との間に設けられる第２のレベル器と、を備える。

【0019】

前記第１の載置部と前記第２の載置部は、前記ベースプレートの上部面に連結され、前記レベル調節部は、前記ベースプレートの位置別の高さを調節可能な第３のレベル調節部材と、前記ベースプレートと前記第１の載置部材との間の間隔を位置別に調節可能な第４のレベル調節部材と、を備える。

【0020】

前記レベル調節部は、前記第１の載置部材と前記第２の載置部材のそれぞれの水平具合を感知可能な感知器をさらに備える。

【0021】

前記基板支持装置は、前記ベースプレートが配置される高さを調節可能な高さ調節部をさらに備える。

【0022】

前記高さ調節部は、前記ベースプレートの下部に連結される支持部材と、前記支持部材を上下に移動させ得るように、前記支持部材と連結される昇降部材と、前記基板の厚さに応じて、前記昇降部材の作動を制御可能な制御器と、を備える。

【0023】

本発明は、搬送ユニットにより運ばれる基板を基板支持装置に支持する方法であって、互いに離間する複数の第１の載置部材よりも、前記第１の載置部材同士の間に設けられる第２の載置部材の方の位置が低くなるように、前記第２の載置部材を一方向に移動する手順と、前記第１の載置部材同士の間の空間に前記搬送ユニットを通過させつつ、前記搬送ユニットに支持された基板を前記第１の載置部材の上に移載する手順と、前記第１の載置部材同士の間の空間の外側に前記搬送ユニットを移動する手順と、一方向とは反対の方向に前記第２の載置部材を移動して、前記第２の載置部材を基板に接触させる手順と、基板と接触させられた位置に前記第２の載置部材を固定する手順と、を含む。

【0024】

前記第２の載置部材を固定する手順は、前記第２の載置部材につれて移動する柱部材をクランプして、前記第２の載置部材の移動を制限する手順を含む。

【0025】

前記基板支持方法は、前記第１の載置部材の上に基板を載置する前に、前記第１の載置部材と前記第２の載置部材の水平具合を検査する手順と、前記第１の載置部材と前記第２の載置部材をレベリングする手順と、をさらに含む。

【0026】

前記基板支持方法は、前記第２の載置部材を固定した後、前記基板支持装置の上側に配置されて基板を処理する基板処理装置と、前記第１の載置部材及び前記第２の載置部材の上に載置された基板との間の距離を調節する手順をさらに含む。

【発明の効果】

【0027】

本発明の実施形態によれば、搬送ロボットから基板支持装置へと直ちに基板を載置したり、基板支持装置から搬送ロボットへと直ちに基板を運んだりすることができる。このため、基板の搬入及び搬出の作業を速やかに行うことができる。したがって、基板を速やかに処理して、基板を処理する工程の効率性が向上する。

【0028】

また、基板支持装置が安定的に基板を支持することができる。このため、基板を処理する工程が行われるときに、基板支持装置上において基板の位置が変わることを抑えたり防いだりすることができる。したがって、基板を処理する工程の不良の発生率が減って、基板を処理する工程の効率性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1】本発明の実施形態に係る基板支持装置の作動構造を示す図である。

【図2】本発明の実施形態に係る第１の載置部の構造を示す図である。

【図3】本発明の実施形態に係る第２の載置部の構造を示す図である。

【図4】本発明の実施形態に係る固定部の作動構造を示す図である。

【図5】本発明の実施形態に係るレベル調節部が第１の載置部に設けられる構造を示す図である。

【図6】本発明の別の実施形態に係るレベル調節部が第１の載置部に設けられる構造を示す図である。

【図7】本発明の実施形態に係るレベル調節部が第２の載置部に設けられる構造を示す図である。

【図8】本発明の実施形態に係る高さ調節部の構造を示す図である。

【図9】本発明の実施形態に係る基板支持方法を示すフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0030】

以下、添付図面に基づいて本発明の実施形態に係る基板処理装置について詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下に開示される実施形態に何ら限定されるものではなく、異なる様々な形態に具体化され、単にこれらの実施形態は本発明の開示を完全たるものにし、通常の知識を有する者に発明の範囲を完全に知らせるために提供されるものである。本発明の実施形態に係る基板処理装置について正確に説明するために、図中の構成要素の大きさが部分的に誇張されていてもよく、図中、同じ参照符号は、同じ構成要素を示す。

【0031】

図１の（ａ）は、本発明の実施形態に係る基板支持装置に配備される第２の載置部が上側に移動した構造を示す図であり、図１の（ｂ）は、本発明の実施形態に係る基板支持装置に配備される第２の載置部が下側に移動した構造を示す図であり、図１の（ｃ）は、本発明の実施形態に係る第１の載置部材同士の間の空間に搬送ユニットを通過させた構造を示す図であり、図２は、本発明の実施形態に係る第１の載置部の構造を示す図であり、図３は、本発明の実施形態に係る第２の載置部の構造を示す図であり、図４の（ａ）は、本発明の実施形態に係る固定部の作動構造を示す図であり、図４の（ｂ）は、本発明の実施形態に係るクランプの構造を示す図である。以下、本発明の実施形態に係る基板支持装置について説明する。

【0032】

基板支持装置は、搬送ユニットにより運ばれる基板が載置可能な基板支持装置である。図１を参照すると、基板支持装置１００は、ベースプレート１１０と、第１の載置部１２０と、第２の載置部１３０及び固定部１４０を備える。

【0033】

このとき、基板支持装置１００は、レーザーリフトオフ設備に配備されてもよい。基板支持装置１００の上側にレーザービームを照射するレーザー照射装置が設けられてもよい。これにより、基板支持装置１００に基板が載置されると、レーザー照射装置が基板にレーザービームを照射して基板を処理することができる。しかしながら、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、基板を処理する他の設備にも基板支持装置が配備されて使用可能である。

【0034】

搬送ユニット５０は、フォーク状に形成されてもよい。例えば、搬送ユニット５０は、前後方向に延び、左右方向に離間する複数本の支持バーを備えていてもよい。したがって、支持バーの上に基板が載置されて支持されることが可能である。

【0035】

ベースプレート１１０は、プレート状に形成されてもよい。ベースプレート１１０は、上部において第１の載置部１２０と第２の載置部１３０とを支持してもよい。

【0036】

第１の載置部１２０は、ベースプレート１１０の上部面に設けられる。図１及び図２を参照すると、第１の載置部１２０の上に基板が載置されて支持されてもよい。第１の載置部１２０は、複数の第１の載置部材１２１を備える。

【0037】

第１の載置部材１２１は、プレート状に形成されてもよい。第１の載置部材１２１は、前後方向に延びてもよい。すなわち、第１の載置部材１２１は、搬送ユニット５０の支持バーと同じ方向に延びてもよい。第１の載置部材１２１の上部面に基板が載置されて支持されてもよい。

【0038】

また、第１の載置部材１２１は、ベースプレート１１０上において左右方向に互いに離間してもよい。このため、第１の載置部材１２１同士の間に、フォーク状の搬送ユニット５０が通過可能な空間が形成されることが可能である。すなわち、第１の載置部材１２１同士の間の空間は、支持バーの延長方向に沿って延びて支持バーの形状に対応するため、支持バーが第１の載置部材１２１同士の間の空間に入り込むことができる。基板を支持する搬送ユニット５０の作動を制御して第１の載置部材１２１同士の間を通過させると、基板は第１の載置部材１２１同士の間を通過することができず、第１の載置部材１２１の上に載置されることが可能である。したがって、搬送ユニット５０から基板が引き離されることが可能であり、基板を処理する工程を行うことができる。

【0039】

一方、第１の載置部１２０は、支持台１２２をさらに備えていてもよい。支持台１２２は、上下方向に延びてもよい。支持台１２２の下端部は、ベースプレート１１０と連結され、支持台１２２の上端部は、第１の載置部材１２１と連結される。このため、支持台１２２が第１の載置部材１２１を支持することができる。したがって、支持台１２２は、ベースプレート１１０と第１の載置部材１２１とを上下に離間させることができる。

【0040】

さらに、支持台１２２は、複数配備されてもよい。例えば、前後方向に離間する支持台１２２が１組をなして一つの第１の載置部材１２１を支持することができる。組は、複数配備されて左右方向に離間してもよい。このため、各組に支持される第１の載置部材１２１もまた、互いに左右方向に離間することが可能である。しかしながら、第１の載置部１２０の構造はこれに何ら限定されるものではなく、種々に変更可能である。

【0041】

第２の載置部１３０は、ベースプレート１１０の上部面に設けられる。第２の載置部１３０は、少なくとも一部が第１の載置部材１２１同士の間に配置されて上下に移動してもよい。第２の載置部１３０は、第１の載置部１２０とともに基板を支持することができる。図１及び図３を参照すると、第２の載置部１３０は、第２の載置部材１３１と、連結部材１３２及び駆動部材１３３を備える。

【0042】

第２の載置部材１３１は、プレート状に形成されてもよい。第２の載置部材１３１は、前後方向に延びてもよい。すなわち、第２の載置部材１３１は、第１の載置部材１２１と同じ方向に延び、第１の載置部材１２１同士の間の空間の平面形状に倣って形成されてもよい。

【0043】

さらにまた、第２の載置部材１３１は、複数配備されてもよい。第２の載置部材１３１は、左右方向に互いに離間して、第１の載置部材１２１同士の間にそれぞれ配置されてもよい。このため、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１とが交互に配置されることが可能である。第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の上部面の上下方向の位置が同じになると、第１の載置部材１２１の上部面と第２の載置部材１３１の上部面が面一となって、基板を支持することができる。

【0044】

連結部材１３２は、フレーム状に形成されてもよい。連結部材１３２は、第２の載置部材１３１が離間する方向と交わる方向（もしくは、左右方向）に延びてもよい。このため、連結部材１３２が複数の第２の載置部材１３１と連結されて、第２の載置部材１３１を支持することができる。したがって、連結部材１３２により第２の載置部材１３１が一体に上下に移動することができる。

【0045】

このとき、連結部材１３２は、支持台１２２同士の間の空間を貫通して配置されてもよい。したがって、連結部材１３２が第２の載置部材１３１を連結しながら、第２の載置部材１３１につれて上下に移動することができる。

【0046】

また、連結部材１３２は、複数配備されてもよい。連結部材１３２は、前後方向に互いに離間して、互いに異なる位置において第２の載置部材１３１と連結されてもよい。このため、第２の載置部材１３１が連結部材１３２により安定的に結合された状態を保持することができる。

【0047】

駆動部材１３３は、ベースプレート１１０と連結部材１３２との間に設けられる。駆動部材１３３は、連結部材１３２を上下に移動させることができる。例えば、駆動部材１３３はシリンダーであってもよく、駆動部材１３３の本体がベースプレート１１０に設けられ、駆動部材１３３のロッドの部分が連結部材１３２と連結されてもよい。このため、連結部材１３２が上下に移動すると、連結部材１３２と連結された第２の載置部材１３１もまた上下に移動することができる。したがって、駆動部材１３３の作動を制御して第２の載置部材１３１を上下に移動させることができる。

【0048】

このとき、駆動部材１３３は、一つのみ配備されてもよい。第２の載置部材１３１が連結部材１３２により互いに連結されているため、連結部材１３２を上下に移動させると、複数の第２の載置部材１３１もまた上下に移動することができる。したがって、一つの駆動部材１３３で第２の載置部材１３１を上下に移動させることができるので、第２の載置部材１３１を上下に移動させるために多数の駆動部材を備えることが不要になる。

【0049】

あるいは、駆動部材１３３は、複数配備されてもよい。これにより、各駆動部材１３３が互いに異なる連結部材１３２と連結されることが可能になる。第２の載置部材１３１と連結部材１３２の荷重が各駆動部材１３３に分散されるので、各駆動部材１３３にかかる負荷を減少させ、第２の載置部材１３１の水平状態を安定的に保持しながら、上下に移動させることができる。しかしながら、第２の載置部１３０の構造はこれに何ら限定されるものではなく、種々に変更可能である。

【0050】

このとき、駆動部材１３３は、搬送ユニット５０の位置に応じて作動が制御されてもよい。例えば、搬送ユニット５０に支持された基板を第１の載置部材１２１に載置する作業を行うに際しては、駆動部材１３３が第２の載置部材１３１を下側に移動させることができる。したがって、第１の載置部材１２１同士の間の空間を搬送ユニット５０が通過することができ、基板は、第１の載置部材１２１の上に載置されることが可能である。搬送ユニット５０が第１の載置部材１２１同士の間の空間から抜け出ると、駆動部材１３３が第２の載置部材１３１を上側に移動させることができる。このため、第２の載置部材１３１が基板の下部面と接触して、第１の載置部材１２１とともに基板を安定的に支持することができる。

【0051】

逆に、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１に載置された基板を搬送ユニット５０に支持させる作業を行うに際しては、駆動部材１３３が第２の載置部材１３１を下側に移動させることができる。したがって、第１の載置部材１２１同士の間の空間を搬送ユニット５０が移動することができる。搬送ユニット５０が上側に移動すると、基板を持ち上げながら基板と第１の載置部材１２１とを引き離すことができる。基板は、搬送ユニット５０に支持されて運ばれ得る。

【0052】

このように、吸着機を用いることなく、搬送ユニット５０から基板支持装置１００へと直ちに基板を載置したり、基板支持装置１００から搬送ユニット５０へと直ちに基板を運んだりすることができる。したがって、基板の搬入及び搬出の作業を速やかに行うことができる。このため、基板を速やかに処理して、基板を処理する工程の効率性が向上する。

【0053】

図１から図４を参照すると、固定部１４０は、上側に移動した位置において第２の載置部１３０を固定することができる。すなわち、第２の載置部材１３１の位置を固定することができる。このため、基板を支持する状態の第２の載置部材１３１が下側に移動して基板と引き離されることを抑えたり防いだりすることができる。固定部１４０は、柱部材１４２及びクランプ１４４を備える。

【0054】

柱部材１４２は、図４の（ａ）のように、棒状に形成されてもよく、第２の載置部１３０に連結される。このため、柱部材１４２は、第２の載置部１３０につれて上下に移動することができ、柱部材１４２の上下への移動を制限すると、第２の載置部１３０の上下への移動もまた制限可能である。

【0055】

クランプ１４４は、柱部材１４２が移動する経路に配置される。詳しくは、柱部材１４２が第２の載置部１３０につれて最上側に移動可能な位置にクランプ１４４が位置してもよい。このため、柱部材１４２が最上側に移動したときに、クランプ１４４が柱部材１４２をクランプして第２の載置部１３０を固定することができる。したがって、第２の載置部１３０の上部面が第１の載置部材１２１の上部面と同じ高さに位置する状態を安定的に保持することができる。クランプ１４４は、図４の（ｂ）のように、凸部材１４４ａ及び密着部材１４４ｂを備える。

【0056】

凸部材１４４ａは、凸状に形成されてもよい。凸部材１４４ａは、内部空間を有し、下部に柱部材１４２が貫通可能な貫通口が形成されてもよい。このため、柱部材１４２が上側に移動すると、貫通口を介して凸部材１４４ａの内部空間に移動することができ、柱部材１４２が下側に移動すると、凸部材１４４ａの外部に移動することができる。

【0057】

密着部材１４４ｂは、凸部材１４４ａの内部空間に配置されてもよい。密着部材１４４ｂは、柱部材１４２の移動方向と交わる方向に内部空間において移動することができる。このため、柱部材１４２が凸部材１４４ａの内部空間に嵌入されたとき、柱部材１４２に向かって密着部材１４４ｂを移動させると、密着部材１４４ｂが柱部材１４２に密着されることが可能である。したがって、密着部材１４４ｂが柱部材１４２を把持して柱部材１４２の移動を制限することができる。

【0058】

また、密着部材１４４ｂは、複数配備されてもよい。このため、複数の位置において密着部材１４４ｂが柱部材１４２と接触しながら、柱部材１４２を把持することができる。したがって、柱部材１４２の位置が固定されたら、柱部材１４２につれて移動する第２の載置部材１３１もまた固定されることが可能である。

【0059】

このとき、柱部材１４２と密着部材１４４ｂのうちのどちらか一方の少なくとも一部に溝が形成され、他方の少なくとも一部が前記溝に嵌入可能である。例えば、柱部材１４２の周りの少なくとも一部に密着部材１４４ｂが嵌め込まれ得る溝が形成されてもよい。あるいは、凹凸状に形成されてもよい。したがって、密着部材１４４ｂを柱部材１４２に向かって密着させると、密着部材１４４ｂが溝に嵌め込まれることが可能になる。このため、密着部材１４４ｂが柱部材１４２をさらに安定的に固定することができる。

【0060】

さらに、溝は、密着部材１４４ｂが移動する方向に対して傾斜を有していてもよく、凹状に形成されてもよい。すなわち、柱部材１４２の外側から内側に向かって進むにつれて溝の幅が次第に狭くなるように形成されてもよい。溝の幅が最大である部分は、溝に嵌入される密着部材１４４ｂの部分よりも幅が広くてもよい。このため、たとえ密着部材１４４ｂと柱部材１４２の位置がわずかにずれるとしても、密着部材１４４ｂが柱部材１４２に形成された溝に安定的に嵌入されることが可能である。

【0061】

一方、密着部材１４４ｂと柱部材１４２の位置が整合されていない場合、溝に備えられる傾斜又は凹状の部分により、密着部材１４４ｂが柱部材１４２の溝に嵌入されるときに、柱部材１４２を上下に押し出して移動させることができる。このため、密着部材１４４ｂが柱部材１４２の上下方向の位置を位置合わせすることもできる。

【0062】

このとき、密着部材１４４ｂは、球状に形成されてもよく、柱部材１４２に面する部分が凸状に形成されてもよい。したがって、密着部材１４４ｂが柱部材１４２に密着されるとき、衝撃が生じることを減らすことができる。しかしながら、密着部材１４４ｂの形状は、これに何ら限定されず、種々に変更可能である。

【0063】

一方、クランプ１４４は、ガス供給器１４４ｃをさらに備えていてもよい。ガス供給器１４４ｃは、凸部材１４４ａと連結される。ガス供給器１４４ｃは、凸部材１４４ａの内部空間にガスを供給することができる。このため、ガス供給器１４４ｃが供給するガスが密着部材１４４ｂを加圧して、密着部材１４４ｂが柱部材１４２に密着されることが可能である。したがって、ガス供給器１４４ｃが凸部材１４４ａの内部空間にガスを供給すると、密着部材１４４ｂが柱部材１４２を固定し、ガス供給器１４４ｃが凸部材１４４ａの内部空間にガスを供給しなければ、密着部材１４４ｂが柱部材１４２を加圧することができないため、柱部材１４２が上下に移動することができる。しかしながら、柱部材１４２に密着部材１４４ｂを加圧する方式はこれに何ら限定されず、種々の方式が採用可能である。

【0064】

また、固定部１４０は、第１の受け台１４１及び第２の受け台１４３をさらに備えていてもよい。第１の受け台１４１と第２の受け台１４３により柱部材１４２とクランプ１４４がそれぞれ支持されることが可能になる。

【0065】

第１の受け台１４１は、プレート状に形成されてもよい。第１の受け台１４１は、連結部材１３２の外側に向かって突出してもよい。例えば、第１の受け台１４１は、連結部材１３２から前後方向に突出して連結部材１３２に連結されてもよい。したがって、連結部材１３２が上下に移動すると、第１の受け台１４１もこれにつれて上下に移動することができる。

【0066】

さらに、第１の受け台１４１は、複数配備されてもよい。このため、各連結部材１３２ごとに１以上の第１の受け台１４１が設けられることが可能である。

【0067】

このとき、柱部材１４２は、第１の受け台１４１の上部から上側に突出してもよい。したがって、第１の受け台１４１により、柱部材１４２が第２の載置部１３０の連結部材１３２と連結されることが可能である。このため、柱部材１４２が連結部材１３２及び第２の載置部材１３１につれて上下に移動することができる。柱部材１４２は、第１の受け台１４１が配備される数に見合う分だけ配備されてもよい。

【0068】

第２の受け台１４３は、ベースプレート１１０に設けられる。第２の受け台１４３は、ベースプレート１１０の上側にクランプ１４４を離間させて支持することができる。例えば、第２の受け台１４３は、上下方向に延びる第１の部材及び第１の部材の上部から前後方向に延びて突出してクランプ１４４と連結される第２の部材を備えていてもよい。したがって、ベースプレート１１０とクランプ１４４との間に第１の受け台１４１と柱部材１４２が上下に移動可能な空間が形成されることが可能である。しかしながら、第２の受け台１４３の構造と形状はこれに何ら限定されず、種々に変更可能である。

【0069】

このとき、クランプ１４４は、第２の受け台１４３に設けられる。詳しくは、第２の受け台１４３に配備される第２の部材の下部にクランプ１４４が支持されてもよい。このため、クランプ１４４は、柱部材１４２が移動する経路に配置されることが可能である。したがって、上下に移動する柱部材１４２をクランプ１４４がクランプして固定することができる。しかしながら、柱部材１４２とクランプ１４４が支持される方式はこれに何ら限定されず、種々の方式が採用可能である。

【0070】

このように、第２の載置部１３０が基板を支持する位置にあるとき、固定部１４０が第２の載置部１３０を固定することができる。したがって、基板を処理する工程が行われるとき、基板支持装置１００上において基板の位置が変わることを抑えたり防いだりすることができる。このため、基板を処理する工程の不良の発生率が減って、基板を処理する工程の効率性が向上する。

【0071】

図５は、本発明の実施形態に係るレベル調節部が第１の載置部に設けられる構造を示す図であり、図６は、本発明の別の実施形態に係るレベル調節部が第１の載置部に設けられる構造を示す図であり、図７は、本発明の実施形態に係るレベル調節部が第２の載置部に設けられる構造を示す図である。以下、本発明の実施形態に係るレベル調節部について説明する。

【0072】

図５及び図７を参照すると、基板支持装置１００は、レベル調節部をさらに備えていてもよい。レベル調節部は、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１をレベリングすることができる。このため、レベル調節部を用いて、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１を水平に合わせることができる。レベル調節部は、第１のレベル調節部材１５０及び第２のレベル調節部材１６０を備える。

【0073】

第１のレベル調節部材１５０は、第１の載置部材１２１の上下方向の位置をそれぞれ調節可能なように設けられる。第１のレベル調節部材１５０は、第１のレベル器１５１及び第２のレベル器１５２のうちの少なくともどちらか一方を備えていてもよい。

【0074】

第１のレベル器１５１は、ベースプレート１１０と第１の載置部材１２１との間に設けられてもよい。このため、第１のレベル器１５１は、第１の載置部材１２１を支持しながら、ベースプレート１１０と第１の載置部材１２１との間の間隔を調節することができる。したがって、第１の載置部材１２１の上下方向の位置が調節されることが可能である。

【0075】

また、第１のレベル器１５１は、複数配備されてもよい。第１のレベル器１５１は、互いに異なる第１の載置部材１２１と連結されてもよく、一つの第１の載置部材１２１に複数の第１のレベル器１５１が連結されてもよい。例えば、第１のレベル器１５１が第１の載置部材１２１の延長方向に沿って離間して配置されてもよい。したがって、第１のレベル器１５１が一つの第１の載置部材１２１の互いに異なる部分の高さを調節することができるので、第１の載置部材１２１の勾配が調節されることが可能である。

【0076】

このとき、第１のレベル器１５１は、位置に応じて、配設構造が異なってくることがある。ベースプレート１１０の中心部の上部に配置される第１の載置部材１２１と連結される第１のレベル器１５１は、ベースプレート１１０を貫通して設けられてもよく、ベースプレート１１０の外郭部の上部に配置される第１の載置部材１２１と連結される第１のレベル器１５１は、ベースプレート１１０の側面に設けられてもよい。第１のレベル器１５１は、第１のボディ１５１ａ、第２のボディ１５１ｃ、支持体１５１ｇ、固定ピン１５１ｂ、第１の固定ナット１５１ｄ、第２の固定ナット１５１ｅ及び調節ボルト１５１ｆを備えていてもよい。

【0077】

第１のボディ１５１ａは、凸状に形成されてもよい。固定ピン１５１ｂは、第１の載置部材１２１と第１のボディ１５１ａを固定することができ、固定ボルトが第１の載置部材１２１と第１のボディ１５１ａとを結合することができる。このため、第１のボディ１５１ａが第１の載置部材１２１と連結されることが可能である。

【0078】

支持体１５１ｇは、プレート状に形成されてもよい。ベースプレート１１０の中心部の上部に配置される第１の載置部材１２１と向かい合う支持体１５１ｇは、ベースプレート１１０の下部に突出して配置されてもよく、ベースプレート１１０の外郭部の上部に配置される第１の載置部材１２１と向かい合う支持体１５１ｇは、ベースプレート１１０の側面の下部に設けられてもよい。このため、第１の載置部材１２１と支持体１５１ｇとが上下に離間することが可能である。

【0079】

第２のボディ１５１ｃは、凸状に形成されてもよい。第２のボディ１５１ｃは、支持体１５１ｇに設けられて第１のボディ１５１ａと上下に離間して向かい合うように配置されてもよい。

【0080】

第１の固定ナット１５１ｄは、第１のボディ１５１ａに設けられてもよく、第２の固定ナット１５１ｅは、第２のボディ１５１ｃに設けられてもよい。このため、調節ボルト１５１ｆが第１の固定ナット１５１ｄと第２の固定ナット１５１ｅに締め付けられることが可能である。

【0081】

調節ボルト１５１ｆは、第１のボディ１５１ａと第２のボディ１５１ｃを貫通して固定ナットに締め付けられてもよい。調節ボルト１５１ｆが締め付けられる度合いに応じて、第１のボディ１５１ａと第２のボディ１５１ｃとが離間する度合いが調節されることが可能である。すなわち、第１のボディ１５１ａの上下方向の位置を調節することができる。このため、調節ボルト１５１ｆが締め付けられる度合いを調節して、第１のボディ１５１ａと連結された第１の載置部材１２１の高さを調節することができる。しかしながら、第１のレベル器１５１が設けられる方式や、第１のレベル器１５１の構成要素はこれに何ら限定されず、種々の方式や種々の構成要素が採用可能である。

【0082】

第２のレベル器１５２は、支持台１２２と第１の載置部材１２１との間に設けられる。このため、支持台１２２と第１の載置部材１２１とが第２のレベル器１５２により互いに連結されることが可能であり、第２のレベル器１５２は、支持台１２２と第１の載置部材１２１との間の間隔を調節することができる。第２のレベル器１５２は、第１のレベル器１５１とは異なる位置において第１の載置部材１２１の高さを調節することができる。このため、第１のレベル器１５１と第２のレベル器１５２を用いて、第１の載置部材１２１の勾配を調節して、第１の載置部材１２１の水平具合を調節することができる。

【0083】

さらに、第２のレベル器１５２は、複数配備されてもよい。第２のレベル器１５２は、互いに異なる第１の載置部材１２１と連結されてもよく、一つの第１の載置部材１２１に複数の第２のレベル器１５２が連結されてもよい。例えば、第２のレベル器１５２が第１の載置部材１２１の延長方向に沿って離間して配置されてもよい。したがって、第１のレベル器１５２が一つの第１の載置部材１２１の互いに異なる部分の高さを調節することができるので、第１の載置部材１２１の勾配が調節されることが可能である。

【0084】

このとき、第２のレベル器１５２は、第１のレベル器１５１よりもサイズが小さいので、第１のレベル器１５１が設けられ難い、支持台１２２と第１の載置部材１２１との間に設けられることが可能である。しかしながら、第２のレベル器１５２は、第１のレベル器１５１よりも高さを調節可能な範囲が狭いので、第１のレベル器１５１を用いて、まず、第１の載置部材１２１の高さを調節した後、第２のレベル器１５２を用いて、第１の載置部材１２１の水平具合を精度よく調節することができる。第２のレベル器１５２は、調節スクリュー１５２ａ、調節凸１５２ｂ、ワッシャ―１５２ｃ及び固定ボルト１５２ｄを備えていてもよい。

【0085】

調節スクリュー１５２ａは、支持台１２２を貫通して設けられ、第１の載置部材１２１の下部と接触してもよい。調節凸１５２ｂは、支持台１２２を貫通して設けられ、調節スクリュー１５２ａの下部に位置してもよい。ワッシャ―１５２ｃは、調節凸１５２ｂの下部に設けられてもよい。これにより、調節凸１５２ｂを調節して、調節スクリュー１５２ａが第１の載置部材１２１の高さ（もしくは、第１の載置部材１２１が支持される高さ）を調節することができる。したがって、支持台１２２と第１の載置部材１２１との間の上下の離間距離が調節されることが可能である。

【0086】

固定ボルト１５２ｄは、調節凸１５２ｂと調節スクリュー１５２ａを貫通して第１の載置部材１２１に締め付けられてもよい。このため、固定ボルト１５２ｄにより支持台１２２と第１の載置部材１２１とが連結されることが可能である。しかしながら、第２のレベル器１５２が設けられる方式や、第２のレベル器１５２の構成要素はこれに何ら限定されず、種々の方式や構成要素が採用可能である。

【0087】

第２のレベル調節部材１６０は、第２の載置部材１３１の上下方向の位置をそれぞれ調節可能なように設けられる。第２のレベル調節部材１６０は、複数配備されて連結部材１３２と第２の載置部材１３１との間に設けられてもよい。すなわち、第２のレベル調節部材１６０の下部は連結部材１３２と連結され、上部は第２の載置部材１３１に連結されてもよい。

【0088】

さらにまた、第２のレベル調節部材１６０が設けられる空間は、第１のレベル器１５１が設けられる空間よりも狭くてもよい。このため、第２のレベル調節部材１６０は、狭い空間に設けられ易い、第２のレベル器１５２と同じ構造に形成されることが可能である。

【0089】

一方、レベル調節部は、感知器（図示せず）をさらに備えていてもよい。感知器は、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の水平具合を点検することができる。例えば、感知器は、変位センサーであってもよい。したがって、感知器を用いて、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の位置を確認しながら、第１のレベル調節部材１５０と第２のレベル調節部材１６０を調節することができる。このため、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１を水平に合わせて、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の上に基板が安定的に載置されることが可能である。

【0090】

このとき、第１のレベル器１５１と第２のレベル器１５２は、シリンダーであってもよい。したがって、感知器の感知結果に基づいて、第１のレベル器１５１と第２のレベル器１５２の作動を制御して、第１の載置部材１２１の水平具合を自動的に調節することもできる。

【0091】

一方、レベル調節部は、図６に示すように、上記とは異なる構造を有していてもよい。レベル調節部は、第３のレベル調節部材１５３及び第４のレベル調節部材１５４を備えていてもよい。このとき、第１の載置部１２０と第２の載置部１３０は、ベースプレート１１０の上部面に直接的に連結されて支持されてもよい。

【0092】

第３のレベル調節部材１５３は、ベースプレート１１０の位置別の高さを調節してもよい。すなわち、複数の第３のレベル調節部材１５３が配備されて、互いに異なる位置においてベースプレート１１０の高さを調節してもよい。このため、第３のレベル調節部材１５３の作動により、ベースプレート１１０の平坦度が調節されることが可能であり、ベースプレート１１０に連結された第１の載置部１２０と第２の載置部１３０の全体の平坦度もまた一緒に調節されることが可能である。

【0093】

第４のレベル調節部材１５４は、ベースプレート１１０と第１の載置部材１２１との間の間隔を位置別に調節してもよい。すなわち、複数の第４のレベル調節部材１５４が配備されて、互いに異なる位置において第１の載置部材１２１の高さを調節してもよい。このため、第４のレベル調節部材１５４の作動により、第１の載置部材１２１の平坦度が個別的に調節されることが可能である。したがって、第３のレベル調節部材１５３の作動を制御して、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の全体的なレベリングを行い、第１の載置部材１２１のうち、水平具合が不良である第１の載置部材１２１があれば、水平具合が不良である第１の載置部材１２１のみを第４のレベル調節部材１５４を用いて個別的に水平に正しく合わせることができる。

【0094】

このように、レベル調節部を用いて、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の水平具合を調節することができる。したがって、基板を載置する前に、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１を水平に合わせることができ、基板が第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の上部面に安定的に接触しながら載置されることが可能である。このため、基板の水平具合もまた良好になって、基板を処理する工程の正確性が向上する。

【0095】

図８は、本発明の実施形態に係る高さ調節部の構造を示す図である。以下、本発明の実施形態に係る高さ調節部１７０について説明する。

【0096】

図８を参照すると、基板支持装置１００は、高さ調節部１７０をさらに備えていてもよい。高さ調節部１７０は、ベースプレート１１０が配置される高さを調節することができる。このため、ベースプレート１１０上の第１の載置部１２０と第２の載置部１３０の全体が配置される高さもまた一緒に調節されることが可能である。したがって、第１の載置部１２０と第２の載置部１３０の上に載置された基板Ｓと、基板Ｓを処理するレーザー照射装置８０との間の間隔を調節することができる。高さ調節部１７０は、支持部材１７１、昇降部材１７２及び制御器１７３を備える。

【0097】

支持部材１７１は、フレーム状に形成されてもよい。支持部材１７１は、ベースプレート１１０の下部に連結される。このため、ベースプレート１１０は、支持部材１７１により支持されることが可能である。

【0098】

昇降部材１７２は、支持部材１７１の下部に連結される。昇降部材１７２は、支持部材１７１を上下に移動させることができる。例えば、サーボモーターとＬＭガイドを備えていてもよい。したがって、サーボモーターの作動を制御して、ベースプレート１１０の高さを精度よく調節することができる。

【0099】

また、昇降部材１７２は、複数配備されてもよい。このため、昇降部材１７２がベースプレート１１０の水平状態を保持しながら、ベースプレート１１０を安定的に上下に移動させることができる。したがって、基板Ｓもまた水平状態を保持しながら、レーザー照射装置８０との間隔が調節されることが可能である。しかしながら、昇降部材１７２の作動構造はこれに何ら限定されず、種々に変更可能である。

【0100】

制御器１７３は、基板Ｓの厚さに応じて、昇降部材１７２の作動を制御することができる。制御器１７３は、入力モジュール、比較モジュール及び制御モジュールを備える。

【0101】

入力モジュールには、基板Ｓの厚さ情報が入力されてもよい。基板Ｓの厚さ情報は、作業者が入力してもよい。

【0102】

比較モジュールは、入力モジュールと信号を送受信可能なように連結される。比較モジュールには、基板Ｓの厚さに対応して、基板Ｓとレーザー照射装置８０との間の適正な間隔に関する情報が予め格納されていてもよい。このため、比較モジュールは、予め格納された情報のうち、入力モジュールに入力された基板Ｓの厚さに対応する情報を見出して選択することができる。

【0103】

制御モジュールは、比較モジュールと信号を送受信可能なように連結される。制御モジュールは、比較モジュールにおいて選択された情報に基づいて、基板Ｓとレーザー照射装置８０との間の間隔が調節されるように、昇降部材１７２の作動を制御することができる。このため、レーザー照射装置８０から照射されるレーザービームがフォーカシング（焦点合わせ）される位置に、基板Ｓの高さが調節されることが可能である。

【0104】

このように、基板Ｓの厚さに応じて、基板Ｓとレーザー照射装置８０との間の間隔を調節することができる。したがって、レーザー照射装置８０を移動させなくても、レーザー照射装置８０から照射されるレーザービームの焦点を基板Ｓの表面に合わせることができる。このため、レーザー照射装置８０の位置を調節しなくても、様々な厚さの基板を処理することができる。

【0105】

図９は、本発明の実施形態に係る基板支持方法を示すフローチャートである。以下、本発明の実施形態に係る基板支持方法について説明する。

【0106】

基板支持方法は、搬送ユニットにより運ばれる基板を基板支持装置に支持させる方法である。図９を参照すると、基板支持方法は、互いに離間する複数の第１の載置部材よりも、第１の載置部材同士の間に設けられる第２の載置部材の方の位置が低くなるように、第２の載置部材を一方向に移動させる手順（Ｓ１１０）、第１の載置部材同士の間の空間に搬送ユニットを通過させつつ、搬送ユニットに支持された基板を第１の載置部材の上に載置する手順（Ｓ１２０）、第１の載置部材同士の間の空間の外側に搬送ユニットを移動させる手順（Ｓ１３０）、一方向とは反対の方向に第２の載置部材を移動させて、第２の載置部材を基板に接触させる手順（Ｓ１４０）及び基板と接触させられた位置に第２の載置部材を固定する手順（Ｓ１５０）を含む。

【0107】

このとき、基板支持装置は、図１から図８に示すように、本発明の実施形態に係る基板支持装置１００であってもよい。基板処理装置は、基板にレーザービームを照射するレーザー照射装置８０であってもよい。しかしながら、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、基板を処理する他の設備にも基板支持方法が行われてもよい。

【0108】

まず、第１の載置部材１２１同士の間に設けられる第２の載置部材１３１を図１の（ａ）の位置において一方向（もしくは、下側）に移動させて、図１の（ｂ）に示すような位置に位置させてもよい。このため、第２の載置部材１３１の位置が第１の載置部材１２１の位置よりも低くなることにより、搬送ユニット５０が嵌入可能な空間が、第１の載置部材１２１同士の間に生成されることが可能である。

【0109】

また、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の上側に、基板を支持する搬送ユニット５０を移動させて位置させてもよい。このとき、搬送ユニット５０を移動させる作業は、第２の載置部材１３１を下側に移動させる作業と同時に行われてもよく、行われる順序が変わってもよい。

【0110】

次いで、図１の（ｃ）に示すように、搬送ユニット５０を下側に移動させてもよい。このため、搬送ユニット５０の支持バーは、第１の載置部材１２１同士の間の空間を通過し、搬送ユニット５０に支持されていた基板は、第１の載置部材１２１を通過することができないため、第１の載置部材１２１の上に載置されることが可能である。したがって、搬送ユニット５０から基板が引き離されることが可能である。

【0111】

一方、第１の載置部材１２１の上に基板を載置する前に、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の水平具合を検査してもよい。例えば、変位センサーを用いて、第１の載置部材１２１のそれぞれの水平具合と、第２の載置部材１３１のそれぞれの水平具合とを点検してもよい。

【0112】

第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１のうち、水平具合が不良である部分が見出されると、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１をレベリングする作業を行ってもよい。すなわち、第１のレベル調節部材１５０と第２のレベル調節部材１６０を用いて、第１の載置部材１２１と第２の載置部材１３１の勾配を調節してもよい。このため、第１の載置部材１２１の上部面と第２の載置部材１３１の上部面とがフラットになって、同じ高さに位置することが可能である。したがって、基板を載置するとき、基板が第１の載置部材１２１及び第２の載置部材１３１の上部面と安定的に接触することができる。

【0113】

基板が第１の載置部材１２１の上部面に載置されると、搬送ユニット５０を第１の載置部材１２１同士の間の空間の外側に移動させてもよい。例えば、搬送ユニット５０を前後方向に移動させて、第１の載置部材１２１同士の間の空間から抜き外すことができる。

【0114】

次いで、第２の載置部材１３１を一方向とは反対の方向（もしくは、上側）に移動させてもよい。このため、第２の載置部材１３１の上部面が基板の下部面と接触することができる。したがって、第２の載置部材１３１が第１の載置部材１２１と一緒に基板を安定的に支持することができる。

【0115】

このとき、搬送ユニット５０から基板支持装置１００へと直ちに基板を載置することができる。すなわち、別途の吸着機を備えて、搬送ユニット５０から吸着機へと基板を吸着させ、吸着機から基板支持装置１００へと基板を運ぶ作業を省略してもよい。したがって、基板を速やかに処理して、基板を処理する工程の効率性が向上する。

【0116】

次いで、基板と接触した位置に第２の載置部材１３１を固定してもよい。すなわち、第２の載置部材１３１が上側に移動した位置において、固定部１４０を用いて第２の載置部材１３１の位置を固定することができる。例えば、第２の載置部材１３１につれて移動するように設けられる柱部材１４２をクランプして、第２の載置部材１３１の移動を制限することができる。したがって、基板が処理される間に第２の載置部材１３１が固定されて、第２の載置部材１３１が第１の載置部材１２１と安定的に面一になることができるので、基板が安定的に載置された状態を保持することができる。

【0117】

第２の載置部材１３１を固定した後、レーザー照射装置８０と、第１の載置部材１２１及び第２の載置部材１３１の上に載置された基板の間の距離を調節する作業を行ってもよい。すなわち、高さ調節部１７０を用いて、基板の厚さに応じて、基板Ｓとレーザー照射装置８０との間の間隔を調節してもよい。このため、レーザー照射装置８０を移動させないながらも、レーザー照射装置８０から照射されるレーザービームの焦点を基板の表面に合わせることができる。したがって、レーザー照射装置８０の位置を調節しないながらも、様々な厚さの基板を処理することができる。

【0118】

このように、基板の搬入及び搬出の作業を速やかに行いながら、基板支持装置１００に基板を安定的に支持させることができる。したがって、基板を処理する工程にかかる時間を短縮し、基板を処理する工程の正確性を向上させることができるので、基板を処理する工程の効率性が向上する。

【0119】

このように、本発明の詳細な説明の欄においては、具体的な実施形態について説明したが、本発明の範囲から逸脱しない範囲内において種々の変形が可能であるということはいうまでもない。よって、本発明の範囲は、説明された実施形態に限定されて定められてはならず、特許請求の範囲だけではなく、この特許請求の範囲と均等なものによって定められるべきである。

【符号の説明】

【0120】

１００：基板支持装置
１１０：ベースプレート
１２０：第１の載置部
１３０：第２の載置部
１４０：固定部
１５０：第１のレベル調節部材
１６０：第２のレベル調節部材
１７０：高さ調節部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】