特開2021-88480IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

炭素材料の製造方法、炭素材料、炭素材料含有材料の製造方法、炭素材料含有材料、および有機無機複合体

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】構造が精密に制御された炭素材料を温和な条件で簡便に製造する方法および該炭素材料の提供。該炭素材料含有材料を、温和な条件で簡便に製造する方法の提供。該炭素材料と無機物とが共有結合によって結合されている炭素材料含有材料の提供。カーボンコート無機粒子や中空炭素微粒子等を製造するために有用な、温和な条件で工業的に製造可能な中間材料の提供。
【解決手段】加熱によって同一分子間および/または異種分子間で縮合反応が起きる化合物(A)を含む組成物を加熱する加熱工程(i)を含み、該工程(i)における加熱温度は、該化合物(A)の縮合反応温度がT℃であるとき(T−150)℃以上であり、該化合物(A)が分子内に2つ以上のフェノール性OH基を有し、該工程(i)が、該化合物(A)の、同一分子間および/または異種分子間における2つの該フェノール性OH基間の縮合反応を含む製造方法。
【選択図】図1

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の課題は、構造が精密に制御された炭素材料を、温和な条件で簡便に製造する方法を提供することにある。また、構造が精密に制御された炭素材料を提供することにある。また、溶媒への可溶性を有する炭素材料含有材料や、構造が精密に制御された炭素材料含有材料を、温和な条件で簡便に製造する方法を提供することにある。また、構造が精密に制御され、炭素材料と無機物とが共有結合によって結合されている炭素材料含有材料を提供することにある。さらに、カーボンコート無機粒子や中空炭素微粒子などの炭素材料含有材料を工業的に製造するため等に有用な、温和な条件で工業的に製造可能な有機無機複合体を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の炭素材料の製造方法は、 加熱によって同一分子間および/または異種分子間で縮合反応が起きる化合物(A)を含む組成物を加熱する加熱工程(i)を含み、 該加熱工程(i)における加熱温度は、該化合物(A)の縮合反応温度がT℃であるときに、(T−150)℃以上であり、 該化合物(A)が分子内に2つ以上のフェノール性OH基を有する化合物であり、 該加熱工程(i)が、該化合物(A)・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、構造が精密に制御された炭素材料を、温和な条件で簡便に製造する方法を提供することができる。また、構造が精密に制御された炭素材料を提供することができる。また、溶媒への可溶性を有する炭素材料含有材料や、構造が精密に制御された炭素材料含有材料を、温和な条件で簡便に製造する方法を提供することができる。また、本発明によれば、構造が精密に制御され、炭素材料と無機物とが共有結合によって結合されている炭素材料含有材料を提供することができる。さらに、本発明によれば、カーボンコート無機粒子や中空炭素微粒子などの炭素材料含有材料を工業的に製造するため等に有用な、温和な条件で工業的に製造可能な有機無機複合体を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の製造方法によって得られる炭素材料含有材料の一つの実施形態である有機無機複合体、ならびに、本発明の有機無機複合体の一つの好ましい実施形態を示す概略断面図である。

【図2】本発明の製造方法によって得られる炭素材料含有材料の一つの実施形態である炭素材料含有粒子の一例であるコアシェル粒子、ならびに、本発明の有機無機複合体から得られ得るコアシェル粒子を示す概略断面図である。

【図3】実施例1〜4で得られる有機無機複合体(1)〜(4)のXPSスペクトル(C1s)図である。

【図4】実施例1〜4で得られる有機無機複合体(1)〜(4)のTG−DTA分析におけるDTA分析の結果を示す測定図である。

【図5】実施例1〜4で得られる有機無機複合体(1)〜(4)のIRスペクトル図である。

【図6】実施例1〜4で得られる有機無機複合体(1)〜(4)のラマンスペクトル図である。

【図7】実施例5〜8で得られる有機無機複合体(5)〜(8)のXPSスペクトル(C1s)図である。

【図8】実施例5〜8で得られる有機無機複合体(5)〜(8)のIRスペクトル図である。

【図9】実施例9で得られる有機無機複合体(9)のラマンスペクトル図である。

【図10】実施例9で得られる高炭素化コアシェル粒子(9)のSEM写真図である。

【図11】実施例9で得られる高炭素化コアシェル粒子(9)の表面のラマンスペクトル図である。

【図12】実施例9で得られる高炭素化コアシェル粒子(9)および比較例3で得られた粒子の13C−NMR図である。

【図13】実施例9で得られる高炭素化コアシェル粒子(9)、比較例3で得られた粒子、およびシリカ粒子の29Si−NMR図である。

【図14】実施例10で得られる高炭素化コアシェル粒子(10)の表面のラマンスペクトル図である。

【図15】実施例11で得られる高炭素化コアシェル粒子(11)の表面のラマンスペクトル図である。

【図16】高炭素化コアシェル粒子(11)のSPS焼結により得られる焼結体と、アルミニウムのSPS焼結により得られる焼結体の、ビッカース硬度の比較グラフ図である。

【図17】実施例12で得られる高炭素化コアシェル粒子(12)の表面のラマンスペクトル図である。

【図18】実施例13で得られる高炭素化コアシェル粒子(13)の表面のラマンスペクトル図である。

【図19】実施例14で得られる高炭素化コアシェル粒子(14)の表面のラマンスペクトル図である。

【図20】実施例15で得られる高炭素化コアシェル粒子(15)の表面のラマンスペクトル図である。

【図21】実施例16で得られる高炭素化コアシェル粒子(16)の表面のラマンスペクトル図である。

【図22】実施例17で得られる高炭素化コアシェル粒子(17)の表面のラマンスペクトル図である。

【図23】実施例18で得られる高炭素化コアシェル粒子(18)の表面のラマンスペクトル図である。

【図24】実施例19で得られる高炭素化コアシェル粒子(19)の表面のラマンスペクトル図である。

【図25】実施例20で得られる高炭素化コアシェル粒子(20)の表面のラマンスペクトル図である。

【図26】実施例21で得られる有機無機複合体(21)の表面のラマンスペクトル図である。

【図27】実施例21で得られる高炭素化コアシェル粒子(21)の表面のラマンスペクトル図である。

【図28】実施例22で得られる有機無機複合体(22)の表面のラマンスペクトル図である。

【図29】実施例22で得られる高炭素化コアシェル粒子(22)の表面のラマンスペクトル図である。

【図30】実施例23で得られる有機無機複合体(23)の表面のラマンスペクトル図である。

【図31】実施例23で得られる高炭素化コアシェル粒子(23)の表面のラマンスペクトル図である。

【図32】実施例24で得られる有機無機複合体(24)の表面のラマンスペクトル図である。

【図33】実施例24で得られる高炭素化コアシェル粒子(24)の表面のラマンスペクトル図である。

【図34】実施例1〜8で得られた炭素材料の13C−NMR分析結果である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

10 炭素材料   20 無機物粒子   30 炭素材料結合領域   100 有機無機複合体   200 コアシェル粒子  

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