【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、下記一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物が、生体中においてその活性成分であるトルバプタンの薬効を長時間に亘って持続できる等の優れた性質を有していることを見い出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成されたものである。
【0009】
本発明は、下記項1〜3に示すベンゾアゼピン化合物及び該化合物を含有する医薬製剤を提供する。
項1.一般式(1)
【0010】
【化2】
【0011】
[式中、R
1は、下記(1-1)〜(1-7)で示されるいずれかの基を示す。
(1-1) 基−CO−(CH
2)
n−COR
2
(ここで、nは1〜4の整数を示す。R
2は、(2-1)水酸基;(2-2)置換基として水酸基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルコキシ基;または(2-3)置換基としてヒドロキシ低級アルキル基を有することのあるアミノ基を示す。)
(1-2) 基−CO−(CH
2)
m−NR
3R
4
(ここで、mは0〜4の整数を示す。R
3は、水素原子または低級アルキル基を示す。R
4は、(4-1)水素原子;(4-2)置換基としてハロゲン原子、低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルキル基;または(4-3)置換基としてハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルコキシカルボニル基を示す。また、R
3及びR
4は、これらが結合する窒素原子と共に他の窒素原子もしくは酸素原子を介しまたは介することなく互いに結合して5〜6員の飽和複素環を形成してもよい。該複素環上には、(4-4)低級アルキル基(アルキル基上に置換基としてヒドロキシ低級アルコキシ基を有していてもよい);(4-5)低級アルコキシカルボニル基;(4-6)アルキルカルボニル基(アルキル基上に置換基としてカルボキシル基もしくは低級アルコキシカルボニル基を有していてもよい);(4-7)アリールカルボニル基;または(4-8)フリルカルボニル基が置換していてもよい。)
(1-3) 基−CO−(CH
2)
p−O−CO−NR
5R
6
(ここで、pは1〜4の整数を示す。R
5は低級アルキル基を示す。R
6は低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示す。)
(1-4) 基−CO−(CH
2)
q−X−R
7
(ここで、qは1〜4の整数を示す。Xは、酸素原子、硫黄原子またはスルホニル基を示す。R
7は、カルボキシ低級アルキル基または低級アルコキシカルボニル低級アルキル基を示す。)
(1-5) 基−CO−R
8
(ここで、R
8は、(8-1)アルキル基上にハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基もしくはフェニル基(該フェニル基は、ヒドロキシ基がベンジル基で置換されていてもよいジヒドロキシホスホリルオキシ基および低級アルキル基で置換されている)が置換していてもよいアルキル基、(8-2)ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基もしくはジヒドロキシホスホリルオキシ基を置換基として有する低級アルコキシ基、(8-3)ピリジル基、または(8-4)低級アルコキシフェニル基を示す。)
(1-6) 低級アルキルチオ基、ジヒドロキシホスホリルオキシ基および低級アルカノイルオキシ基からなる群より選ばれた基が置換した低級アルキル基
(1-7) 1個以上の保護基を有することのあるアミノ酸残基もしくはペプチド残基]
で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩。
項2.一般式(1)において、R
1が基−CO−(CH
2)
n−COOH(ここで、nは1〜4の整数)、基−CO−R
8(ここで、R
8はアルキル基)及び1個以上の保護基を有することのあるアミノ酸残基もしくはペプチド残基からなる群から選ばれた基を示す、項1に記載の化合物またはその塩。
項3.一般式(1)において、R
1がアラニル、サルコシル、N−エチルグリシル、N−プロピルグリシル、N−メチル−N−エチルグリシル、N−メチル−N−プロピルグリシル、N−メチル−N−ブチルグリシル、N−メチル−N−ペンチルグリシル、N−メチル−N−ヘキシルグリシル、またはサルコシル−グリシル、グリシル−グリシル、グリシル−サルコシル、グリシル−アラニル、アラニル−グリシル、サルコシル−サルコシル、グリシル−フェニルアラニル、フェニルアラニル−グリシル、フェニルアラニル−フェニルアラニル、グリシル−グリシル−グリシル、N,N−ジメチルグリシル−グリシル、N−メチル−N−エチルグリシル−グリシル、サルコシル−グリシル−グリシル及びN,N−ジメチルグリシル−グリシル−グリシルからなる群から選ばれたペプチド残基(各基は、1個以上の保護基で保護されていてもよい)である、項1に記載の化合物またはその塩。
項4.一般式(1)において、R
1がサルコシル−グリシル、グリシル−グリシル、グリシル−サルコシル、グリシル−アラニル、アラニル−グリシル、グリシル−フェニルアラニル、フェニルアラニル−グリシル、フェニルアラニル−フェニルアラニル、グリシル−グリシル−グリシル、N,N−ジメチルグリシル−グリシル、N−メチル−N−エチルグリシル−グリシル及びN,N−ジメチルグリシル−グリシル−グリシルからなる群から選ばれたペプチド残基(各基は、1個以上の保護基で保護されていてもよい)である、項3に記載の化合物またはその塩。
項5.項1に記載のベンゾアゼピン化合物またはその薬学的に許容される塩、ならびに、薬学的に許容される希釈剤および/または担体を含む医薬製剤。
項6.血管拡張剤、血圧降下剤、水利尿剤または血小板凝集抑制剤として使用される項5に記載の医薬製剤。
【0012】
上記一般式(1)において示される各基はより具体的にはそれぞれ次の通りである。
【0013】
本明細書において、「低級」とは、特に指示がなければ炭素原子1〜6個を意味するものとする。
【0014】
低級アルカノイル基としては、例えば、アセチル、n−プロピオニル、n−ブチリル、イソブチリル、n−ペンタノイル、tert−ブチルカルボニル、n−ヘキサノイル基等の直鎖または分枝鎖状のC
2−6アルカノイル基が挙げられる。
【0015】
低級アルカノイルオキシ基としては、例えば、アセチルオキシ、n−プロピオニルオキシ、n−ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、n−ペンタノイルオキシ、tert−ブチルカルボニルオキシ、n−ヘキサノイルオキシ基等の直鎖または分枝鎖状のC
2−6アルカノイルオキシ基が挙げられる。
【0016】
低級アルコキシカルボニルオキシ基としては、アルコキシ部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルコキシ基であるアルコキシカルボニルオキシ基であって、例えば、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、n−プロポキシカルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキシ、n−ブトキシカルボニルオキシ、イソブトキシカルボニルオキシ、tert−ブトキシカルボニルオキシ、sec−ブトキシカルボニルオキシ、n−ペンチルオキシカルボニルオキシ、ネオペンチルオキシカルボニルオキシ、n−ヘキシルオキシカルボニルオキシ、イソヘキシルオキシカルボニルオキシ、3−メチルペンチルオキシカルボニルオキシ基等を挙げることができる。
【0017】
シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基としては、例えば、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ、シクロブチルオキシカルボニルオキシ、シクロペンチルオキシカルボニルオキシ、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ、シクロヘプチルオキシカルボニルオキシ、シクロオクチルオキシカルボニルオキシ基等のシクロアルキル部分がC
3−8シクロアルキル基であるシクロアルキルオキシカルボニルオキシ基を挙げることができる。
【0018】
シクロアルキルカルボニル基としては、例えばシクロプロピルカルボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘプチルカルボニル、シクロオクチルカルボニル基等のシクロアルキル部分がC
3−8シクロアルキル基であるシクロアルキルカルボニル基を挙げることができる。
【0019】
低級アルコキシ基としては、直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルコキシ基であって、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブトキシ、sec−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、3−メチルペンチルオキシ基等を挙げることができる。
【0020】
ヒドロキシ低級アルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、4−ヒドロキシブチル、3,4−ジヒドロキシブチル、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル、5−ヒドロキシペンチル、6−ヒドロキシヘキシル、3,3−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル、2−メチル−3−ヒドロキシプロピル、2,3,4−トリヒドロキシブチル基等の水酸基を1〜3個有する直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルキル基を挙げることができる。
【0021】
低級アルキル基としては、直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルキル基であって、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、sec−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、3−メチルペンチル基等を挙げることができる。
【0022】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子を示す。
【0023】
低級アルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、n−ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、n−ペンチルアミノ、n−ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ−n−プロピルアミノ、ジ−n−ブチルアミノ、ジ−n−ペンチルアミノ、ジ−n−ヘキシルアミノ、N−メチル−N−エチルアミノ、N−エチル−N−n−プロピルアミノ、N−メチル−N−n−ブチルアミノ、N−メチル−N−n−ヘキシルアミノ基等の置換基として直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルキル基を1〜2個有するアミノ基を例示できる。
【0024】
低級アルコキシカルボニル基としては、アルコキシ部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルコキシ基であるアルコキシカルボニル基であって、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、n−ペンチルオキシカルボニル、ネオペンチルオキシカルボニル、n−ヘキシルオキシカルボニル、イソヘキシルオキシカルボニル、3−メチルペンチルオキシカルボニル基等を挙げることができる。
【0025】
R
3及びR
4が、これらが結合する窒素原子と共に他の窒素原子もしくは酸素原子を介しまたは介することなく互いに結合して形成される6員の飽和複素環としては、例えば、ピペラジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
【0026】
ヒドロキシ低級アルコキシ基としては、例えば、ヒドロキシメトキシ、2−ヒドロキシエトキシ、1−ヒドロキシエトキシ、3−ヒドロキシプロポキシ、4−ヒドロキシブトキシ、5−ヒドロキシペンチルオキシ、6−ヒドロキシヘキシルオキシ、1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエトキシ、2−メチル−3−ヒドロキシプロポキシ基等の1〜2個のヒドロキシ基を有し、アルコキシ部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルコキシ基であるヒドロキシアルコキシ基を例示できる。
【0027】
アルキルカルボニル基としては、アルキル部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−20アルキル基であるアルキルカルボニル基であって、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、n−プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、n−ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、tert−ブチルカルボニル、sec−ブチルカルボニル、n−ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、ネオペンチルカルボニル、n−ヘキシルカルボニル、イソヘキシルカルボニル、3−メチルペンチルカルボニル、n−ヘプチルカルボニル、n−オクチルカルボニル、n−ノニルカルボニル、n−デシルカルボニル、n−ウンデシルカルボニル、n−ドデシルカルボニル、n−トリデシルカルボニル、n−テトラデシルカルボニル、n−ペンタデシルカルボニル、n−ヘキサデシルカルボニル、n−ヘプタデシルカルボニル、n−オクタデシルカルボニル、n−ノナデシルカルボニル、n−イコシルカルボニル基等を挙げることができる。
【0028】
アリールカルボニル基としては、例えば、フェニルカルボニル、(1−または2−)ナフチルカルボニル基等を挙げることができる。
【0029】
フリルカルボニル基としては、例えば、(2−または3−)フリルカルボニル基を例示できる。
【0030】
低級アルコキシカルボニル低級アルキル基としては、例えば、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、2−メトキシカルボニルエチル、2−エトキシカルボニルエチル、1−エトキシカルボニルエチル、3−メトキシカルボニルプロピル、3−エトキシカルボニルプロピル、4−エトキシカルボニルブチル、5−イソプロポキシカルボニルペンチル、6−n−プロポキシカルボニルヘキシル、1,1−ジメチル−2−n−ブトキシカルボニルエチル、2−メチル−3−tert−ブトキシカルボニルプロピル、2−n−ペンチルオキシカルボニルエチル、n−ヘキシルオキシカルボニルメチル基等のアルコキシ部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルコキシ基であり、アルキル部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルキル基であるアルコキシカルボニルアルキル基を例示できる。
【0031】
カルボキシ低級アルキル基としては、例えば、カルボキシメチル、2−カルボキシエチル、1−カルボキシエチル、3−カルボキシプロピル、4−カルボキシブチル、5−カルボキシペンチル、6−カルボキシヘキシル、1,1−ジメチル−2−カルボキシエチル、2−メチル−3−カルボキシプロピル基等のアルキル部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルキル基であるカルボキシアルキル基を例示できる。
【0032】
低級アルコキシフェニル基としては、例えば、メトキシフェニル、エトキシフェニル、n−プロポキシフェニル、イソプロポキシフェニル、n−ブトキシフェニル、イソブトキシフェニル、tert−ブトキシフェニル、sec−ブトキシフェニル、n−ペンチルオキシフェニル、イソペンチルオキシフェニル、ネオペンチルオキシフェニル、n−ヘキシルオキシフェニル、イソヘキシルオキシフェニル、3−メチルペンチルオキシフェニル基等のアルコキシ部分が直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルコキシ基であるアルコキシフェニル基を挙げることができる。
【0033】
低級アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、n−ペンチルチオ、n−ヘキシルチオ基等の直鎖または分枝鎖状のC
1−6アルキルチオ基を挙げることができる。
【0034】
アミノ酸残基もしくはペプチド残基としては、例えば、アラニル、フェニルアラニル、サルコシル、バリル、ロイシル、イソロイシル、プロリル、N−エチルグリシル、N−プロピルグリシル、N−イソプロピルグリシル、N−ブチルグリシル、N−tert-ブチルグリシル、N−ペンチルグリシル、N−ヘキシルグリシル、N,N−ジエチルグリシル、N,N−ジプロピルグリシル、N,N−ジブチルグリシル、N,N−ジペンチルグリシル、N,N−ジヘキシルグリシル、N−メチル−N−エチルグリシル、N−メチル−N−プロピルグリシル、N−メチル−N−ブチルグリシル、N−メチル−N−ペンチルグリシル、N−メチル−N−ヘキシルグリシル基等のアミノ酸残基;サルコシル−グリシル、グリシル−グリシル、グリシル−サルコシル、サルコシル−サルコシル、アラニル−グリシル、フェニルアラニル−グリシル、フェニルアラニル−フェニルアラニル、グリシル−グリシル−グリシル、N−エチルグリシル−グリシル、N−プロピルグリシル−グリシル、N,N−ジメチルグリシル−グリシル、N,N−ジエチルグリシル−グリシル、N−メチル−N−エチルグリシル−グリシル、サルコシル−グリシル−グリシル、N−エチルグリシル−グリシル−グリシル、N,N−ジメチルグリシル−グリシル−グリシル基等のペプチド残基等が挙げられる。
【0035】
アミノ酸もしくはペプチドの保護基としては、例えば、tert−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、フルオレニルメトキシカルボニル基、アセチル基等のアミノ酸もしくはペプチドを構成するアミノ基を保護する通常の保護基が挙げられる。
【0036】
上記一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物は、種々の方法により製造され得るが、その一例を示せば、下記反応式で示される方法により製造される。
【0037】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が前記(1-1)〜(1-5)または(1-7)で示される基である化合物(1a)は、例えば、式(2)で表されるトルバプタンから、下記反応式−1、反応式−2または反応式−3に示す方法により製造される。
【0038】
反応式−1
【0039】
【化3】
【0040】
[式中、Rは、
基−(CH
2)
n−COR
2
(n及びR2は前記に同じ。)
基−(CH
2)
m−NR
3R
4
(m、R
3及びR
4は前記に同じ。)
基−(CH
2)
p−O−CO−NR
5R
6
(p、R
5及びR
6は前記に同じ。)
基−(CH
2)
q−X−R
7
(q、X及びR
7は前記に同じ。)
基−R
8
(R
8は前記に同じ。)
または
1個以上の保護基を有することのあるアミノ酸残基もしくはペプチド残基からカルボニル基(CO基)を取り除いた基(例えば、グリシルの場合はアミノメチル基、アラニルの場合は(R)−1−アミノエチル基、フェニルアラニルの場合は(R)−1−アミノ−2−フェニルプロピル基、サルコシルの場合は(メチルアミノ)メチル基、ロイシルの場合は(R)−1−アミノ−3−メチルブチル基、N−tert−ブトキシカルボニル−N−エチルグリシルの場合はtert−ブトキシカルボニル(エチル)アミノメチル基、アラニル−グリシルの場合は(S)−2−アミノプロパンアミドメチル基、サルコシル−グリシルの場合は2−(メチルアミノ)アセトアミドメチル基、フェニルアラニル−グリシルの場合は(S)−2−アミノ−3−フェニルプロパンアミドメチル基、グリシル−グリシル−グリシルの場合は(2−アミノアセトアミド)アセトアミドメチル基、サルコシル−グリシル−グリシルの場合は[2−(メチルアミノ)アセトアミド]アセトアミドメチル基等)を示す。]
反応式−1に示す方法によれば、化合物(1a)は、化合物(2)と酸無水物(3)とを、塩基性化合物の存在下または非存在下に適当な溶媒中で反応させることにより製造される。
【0041】
酸無水物(3)は、化合物(2)1モルに対して、通常1モル程度〜大過剰モル、好ましくは1〜10倍モル程度使用される。
【0042】
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り公知のものを広く使用できる。このような溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル等のエステル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NMP)等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0043】
塩基性化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等を使用することができる。塩基性化合物の使用量は、化合物(2)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。また、これら塩基性化合物は、溶媒として使用することもできる。
【0044】
上記反応においては、反応系内に、例えば4−ジメチルアミノピリジン等の触媒を存在させて反応を促進させることができる。
【0045】
上記反応の反応温度は、通常室温〜150℃、好ましくは室温〜100℃である。反応時間は、通常15分〜24時間、好ましくは30分〜6時間、より好ましくは1〜3時間である。
【0046】
反応式−2
【0047】
【化4】
【0048】
[式中、Rは前記に同じ。X
1はハロゲン原子を示す。]
反応式−2に示す方法によれば、化合物(1a)は、化合物(2)と酸ハライド(4)とを、塩基性化合物の存在下に適当な溶媒中で反応させることにより製造される。
【0049】
酸ハライド(4)は、化合物(2)1モルに対して、通常1モル程度〜大過剰モル、好ましくは1〜10モル程度使用される。
【0050】
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない限り公知のものを広く使用できる。このような溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル等のエステル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;アセトニトリル、DMF、DMSO、NMP等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0051】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のリン酸塩;ピリジン、イミダゾール、N−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN),1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)等の有機塩基またはこれらの混合物を挙げることができる。
【0052】
塩基性化合物の使用量は、化合物(2)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。また有機塩基は、溶媒として使用することもできる。
【0053】
上記反応においては、反応系内に、例えば4−ジメチルアミノピリジン等の触媒を存在させて反応を促進させることができる。
【0054】
上記反応の反応温度は、通常−10℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃、より好ましくは0℃〜室温である。反応時間は、通常15分〜24時間、好ましくは30分〜6時間、より好ましくは1〜3時間である。
【0055】
反応式−3
【0056】
【化5】
【0057】
[式中、Rは前記に同じ。]
反応式−3に示す方法によれば、化合物(1a)は、化合物(2)とカルボン酸(5)とを、活性化剤の存在下に縮合反応させることにより製造される。
【0058】
カルボン酸(5)は、化合物(2)1モルに対して、通常1〜10モル程度、好ましくは1〜5モル程度使用される。
【0059】
活性化剤としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド(WSC)、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。これらの活性化剤は、1種単独でまたは2種以上混合して用いられる。
【0060】
活性化剤は、化合物(2)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1モル〜5モル量とするのがよい。
【0061】
かかる縮合反応は、一般に適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下または非存在下に行われる。ここで使用される溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル等のエステル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;アセトニトリル、DMF、DMSO、NMP等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0062】
塩基性化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等を使用することができる。塩基性化合物の使用量は、化合物(2)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。また、これら塩基性化合物は、溶媒として使用することもできる。
【0063】
上記反応においては、反応系内に、例えば4−ジメチルアミノピリジン等の触媒を存在させて反応を促進させることができる。
【0064】
上記反応は、通常−20〜100℃程度、好ましくは0℃〜室温にて行われ、一般に5分〜90時間程度で反応は完結する。
【0065】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が前記(1-6)で示される基(低級アルキルチオ基が置換した低級アルキル基)である化合物(1b)は、例えば、式(2)で表されるトルバプタンから、下記反応式−4に示す方法により製造される。
【0066】
反応式−4
【0067】
【化6】
【0068】
[式中、R
1aは、低級アルキルチオ基が置換した低級アルキル基を示す。]
反応式−4に示す方法は、化合物(2)における水酸基の水素原子を低級アルキルチオ基が置換した低級アルキル基に変換する反応である。例えば、化合物(2)における水酸基の水素原子をメチルチオメチル基に変換するには、化合物(2)を通常のエーテル結合生成反応(いわゆるPummerer反応等)に付す。通常のエーテル結合生成反応は、反応に影響を及ぼさない慣用の溶媒中で行われる。Pummerer反応は、下記反応式−4−1で示され、化合物(2)はジメチルスルホキシド等のスルホキシド(6)と、無水酢酸および酢酸の存在下、室温〜70℃付近で4〜72時間程度反応させられる。
【0069】
反応式−4−1
【0070】
【化7】
【0071】
[式中、R
1bおよびR
1cは、それぞれ低級アルキル基を示す。]
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が前記(1-6)で示される基(ジヒドロキシホスホリルオキシ基が置換した低級アルキル基)である化合物(1c)は、例えば、化合物(1b)から、下記反応式−5に示す方法により製造される。
【0072】
反応式−5
【0073】
【化8】
【0074】
[式中、R
1bは、ジヒドロキシホスホリルオキシ基が置換した低級アルキル基を示す。R
1aは前記に同じ。]
反応式−5に示す方法は、R
1の低級アルキルチオ基が置換した低級アルキル基をジヒドロキシホスホリルオキシ基が置換した低級アルキル基に変換する反応である。例えば、R1のメチルチオメチル基をジヒドロキシホスホリルオキシメチル基に変換するには、下記反応式−5−1に示すように、化合物(1b'')をハロゲン化剤(例えば、塩化スルフリル、N−ヨードスクシンイミド等)と反応させ、次いで得られる化合物を塩基性化合物の存在下にリン酸と反応させればよい。
【0075】
反応式−5−1
【0076】
【化9】
【0077】
[式中、rは1〜4の整数、R
1eは低級アルキル基を示す。]
化合物(1b'')とハロゲン化剤との反応は、ハロゲン化炭化水素(例えば、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等)中、室温付近で行うのが好ましい。ハロゲン化剤の使用量は、化合物(1b'')1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。この反応は、5分〜1時間程度で終了する。
【0078】
次いで得られる化合物とリン酸との反応は、不活性有機溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等)中で行うのが好ましい。リン酸の使用量は、化合物(1b'')1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のリン酸塩;ピリジン、イミダゾール、N−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、DBN,DBU、DABCO等の有機塩基またはこれらの混合物を挙げることができる。塩基性化合物の使用量は、化合物(1b'')1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。反応温度は、通常室温〜200℃程度、好ましくは50〜150℃程度付近が適当であり、該反応は一般に10分〜10時間程度にて終了する。
【0079】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が前記(1-6)で示される基(低級アルカノイルオキシ基が置換した低級アルキル基)である化合物(1d)は、例えば、化合物(1b)から、下記反応式−6に示す方法により製造される。
【0080】
反応式−6
【0081】
【化10】
【0082】
[式中、R
1fは、低級アルカノイルオキシ基が置換した低級アルキル基を示す。R
1aは前記に同じ。]
反応式−6に示す方法は、R
1の低級アルキルチオ基が置換した低級アルキル基を低級アルカノイルオキシ基が置換した低級アルキル基に変換する反応である。例えば、下記反応式−6−1に示すように、化合物(1b'')をハロゲン化剤(例えば、塩化スルフリル、N−ヨードスクシンイミド等)と反応させ、次いで得られる化合物をカルボン酸またはその塩と反応させればよい。
【0083】
反応式−6−1
【0084】
【化11】
【0085】
[式中、R
1gは低級アルキル基を示す。R
1eは前記に同じ。]
化合物(1b'')とハロゲン化剤との反応は、ハロゲン化炭化水素(例えば、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン等)中、室温付近で行うのが好ましい。ハロゲン化剤の使用量は、化合物(1b'')1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。この反応は、5分〜1時間程度で終了する。
【0086】
次いで得られる化合物とカルボン酸またはその塩との反応は、不活性有機溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等)中で行うのが好ましい。カルボン酸の使用量は、化合物(1b)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。反応温度は、通常室温〜200℃程度、好ましくは50〜150℃程度付近が適当であり、該反応は一般に10分〜10時間程度にて終了する。
【0087】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が前記(1-1)で示される基を示し且つR
2が前記(2-2)で示される基を示す化合物(1f)は、例えば、R
1が前記(1-1)で示される基を示し且つR
2が前記(2-1)で示される基を示す化合物(1e)から、下記反応式−7に示す方法により製造される。
【0088】
反応式−7
【0089】
【化12】
【0090】
[式中、R
2aは、置換基として水酸基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルコキシ基を示す。R
2a’は、置換基として水酸基、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、低級アルコキシカルボニルオキシ基、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルキル基を示す。nおよびX
1は前記に同じ。]
化合物(1e)と化合物(8)との反応は、塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行われる。
【0091】
化合物(8)の使用量は、化合物(1e)1モルに対して、通常1モル〜大過剰モル、好ましくは1〜10モルである。
【0092】
反応溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル等のエステル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;アセトニトリル、DMF、DMSO、NMP等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0093】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のリン酸塩;ピリジン、イミダゾール、N−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、DBN,DBU、DABCO等の有機塩基等が挙げられる。これらは1種単独でまたは2種以上混合して使用される。塩基性化合物の使用量は、化合物(1e)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。またこれら塩基性化合物を溶媒として使用することもできる。
【0094】
反応温度は、通常室温〜150℃、好ましくは室温〜100℃である。反応時間は、通常15分〜24時間、好ましくは30分〜6時間、より好ましくは1〜3時間である。
【0095】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が前記(1-1)で示される基を示し且つR
2が置換基として1個以上のヒドロキシ低級アルキル基を有するアミノ基を示す化合物(1g)は、例えば、R
1が前記(1-1)で示される基を示し且つR
2が前記(2-1)で示される基を示す化合物(1e)から、下記反応式−8に示す方法により製造される。
【0096】
反応式−8
【0097】
【化13】
【0098】
[式中、R
2bは、置換基として1個以上のヒドロキシ低級アルキル基を有するアミノ基を示す。nは前記に同じ。]
化合物(1e)と化合物(9)との反応には、広く知られているカルボジイミド法の反応条件を適用できる。即ち、化合物(1e)に化合物(9)を、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド(WSC)、カルボニルジイミダゾール等の活性化剤の存在下に縮合反応させればよい。
【0099】
活性化剤は、化合物(1e)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜5モル使用される。
【0100】
この縮合反応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下または非存在下に行われる。ここで使用される溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル等のエステル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;アセトニトリル、DMF、DMSO、NMP等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0101】
塩基性化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等を使用することができる。塩基性化合物の使用量は、化合物(1e)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。また、これら塩基性化合物は、溶媒として使用することもできる。
【0102】
上記反応において、活性化剤としてWSCを使用する場合、反応系内に、例えば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)等の触媒を存在させて反応を促進させることができる。
【0103】
上記反応は、通常−20〜180℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて行われ、一般に5分〜90時間程度で反応は完結する。
【0104】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、分子内のアミノ基が保護基で保護されている化合物は、脱保護して、対応するアミノ基が保護基で保護されていない化合物に誘導することができる。その具体例を下記反応式−9に示す。
【0105】
反応式−9
【0106】
【化14】
【0107】
[式中、R
1hは、アミノ保護基で保護された前記アミノ基を有する前記R
1基と同じ。R
1iは、前記R
1hに対応するアミノ基であって、アミノ保護基で保護されていないアミノ基を有する前記R
1と同じ。]
化合物(1h)を化合物(1i)に導く反応は、適当な溶媒中または無溶媒下、酸の存在下に行われる。
【0108】
用いられる溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノール等の低級アルコール;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;酢酸、蟻酸等の脂肪酸;酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル;クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;DMF、N,N−ジメチルアセトアミド、NMP等のアミド類;DMSO、ヘキサメチル燐酸トリアミドまたはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
【0109】
酸としては、例えば、塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸及び蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸;p−トルエンスルホン酸等のスルホン酸等の有機酸を挙げることができる。
【0110】
酸の使用量は、化合物(1h)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度であるが、酸は、反応溶媒として大過剰に用いてもよい。
【0111】
この反応は、通常0〜200℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて好適に進行し、一般に10分〜30時間程度で終了する。
【0112】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1の中にハロゲン原子を有する化合物は、これにアミンを反応させて、ハロゲン原子を対応するアミノ基に変換することができる。その具体例を下記反応式−10に示す。
【0113】
反応式−10
【0114】
【化15】
【0115】
[式中、R
1jは、ハロゲン原子を有する前記R
1基と同じ。R
1kは、R
1jのハロゲン原子が反応物質のアミンに対応するアミノ基で変換された基を示す。]
化合物(1j)とアミンとの反応は、適当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下に行われる。
【0116】
用いられる不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;アセトニトリル、DMSO、DMF、ヘキサメチル燐酸トリアミドまたはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
【0117】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩;ピリジン、イミダゾール、N−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、DBN、DBU、DABCO等の有機塩基等が挙げられる。これらは1種単独でまたは2種以上混合して使用される。
【0118】
かかる塩基性化合物は、化合物(1j)1モルに対して、通常少なくとも1モル、好ましくは1〜10モル使用される。
【0119】
アミンは、化合物(1j)1モルに対して、通常少なくとも1モル、好ましくは1〜10モル用いられる。
【0120】
この反応の反応系内には、沃化ナトリウム、沃化カリウム等のアルカリ金属ハロゲン化合物等を存在させてもよい。
【0121】
該反応は、通常0〜200℃程度、好ましくは0〜150℃程度にて行われ、一般に5分〜80時間程度にて反応は終了する。
【0122】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1中にアミノ基を有する化合物は、これを還元的アルキル化して、対応するアミノ基をN−アルキルアミノ基に変換することができる。
【0123】
反応式−11
【0124】
【化16】
【0125】
[式中、R
1lは、アミノ基を有する前記R
1基と同じ。R
1mは、R
1lのアミノ基が反応物質のカルボニル化合物に対応するN−アルキルアミノ基で変換された基を示す。]
化合物(1l)とカルボニル化合物との反応は、例えば、無溶媒または適当な溶媒中、還元剤の存在下に行われる。
【0126】
ここで使用される溶媒としては、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、tert−ブタノール、エチレングリコール等の低級アルコール;アセトニトリル;蟻酸、酢酸等の脂肪酸;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0127】
還元剤としては、例えば、蟻酸等の脂肪酸;蟻酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の脂肪酸アルカリ金属塩;水素化硼素ナトリウム、水素化シアノ硼素ナトリウム、水素化トリアセチルオキシ硼素ナトリウム等の水素化還元剤またはこれらの水素化還元剤の混合物;パラジウム−黒、パラジウム−炭素、酸化白金、白金黒、ラネーニッケル等の接触水素還元剤等を挙げることができる。
【0128】
還元剤として蟻酸等の脂肪酸または蟻酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等の脂肪酸アルカリ金属塩を使用する場合、反応温度は、通常室温〜200℃程度、好ましくは50〜150℃程度付近が適当であり、該反応は一般に10分〜10時間程度にて終了する。脂肪酸または脂肪酸アルカリ金属塩は、化合物(1l)に対して大過剰量使用するのがよい。
【0129】
水素化還元剤を使用する場合、反応温度は、通常−80〜100℃程度、好ましくは−80〜70℃程度が適当であり、該反応は一般に30分〜60時間程度で終了する。水素化還元剤は、化合物(1l)1モルに対して、通常1〜20モル程度、好ましくは1〜6モル程度用いられる。
【0130】
上記反応の反応系内には、トリメチルアミン、トリエチルアミン、N−エチルジイソプロピルアミン等のアミン、またはモレキュラーシーヴス 3A(MS−3A)、モレキュラーシーヴス 4A(MS−4A)等のモレキュラーシーヴスを添加してもよい。
【0131】
接触水素還元剤を使用する場合、通常常圧〜20気圧程度、好ましくは常圧〜10気圧程度の水素雰囲気中で、または蟻酸、蟻酸アンモニウム、シクロへキセン、包水ヒドラジン等の水素供与剤の存在下で行われる。反応温度は、通常−30〜100℃程度、好ましくは0〜60℃程度である。該反応は、一般に1〜12時間程度で終了する。接触水素還元剤は、化合物(1l)に対して、通常0.1〜40重量%、好ましくは1〜20重量%程度用いられる。
【0132】
化合物(1l)と化合物(9)との反応において、化合物(9)は、化合物(1l)1モルに対して、通常少なくとも1モル、好ましくは1モル〜大過剰量用いられる。
【0133】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が基−CO−(CH
2)
m−NR
3R
4を示し且つR
4が(4-3)置換基としてハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルコキシカルボニル基を示す化合物は、下記反応式−12に示すように、対応するR
4が(4-1)水素原子を示す化合物に酸ハライド(10)を反応させることにより製造される。
【0134】
反応式−12
【0135】
【化17】
【0136】
[式中、R
4bは、置換基としてハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルコキシカルボニル基を示す。R
3、m及びX
1は前記に同じ。]
化合物(1n)と酸ハライド(10)との反応は、塩基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行われる。
【0137】
酸ハライド(10)は、化合物(1n)1モルに対して、通常1モル〜大過剰モル、好ましくは1〜10モル用いられる。
【0138】
反応溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル;塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル等のエステル;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;アセトニトリル、DMF、DMSO、NMP等の非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0139】
塩基性化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩;リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のリン酸塩;ピリジン、イミダゾール、N−エチルジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、DBN,DBU、DABCO等の有機塩基が挙げられる。
【0140】
塩基性化合物の使用量は、化合物(1n)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。また有機塩基を溶媒として使用することもできる。
【0141】
上記反応においては、反応系内に、例えば4−ジメチルアミノピリジン等の触媒を存在させて反応を促進させることができる。
【0142】
上記反応の反応温度は、通常−10℃〜100℃、好ましくは0℃〜50℃、より好ましくは0℃〜室温である。反応時間は、通常15分〜24時間、好ましくは30分〜6時間、より好ましくは1〜3時間である。
【0143】
一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物またはその塩のうち、R
1が基−CO−NHR
4を示し且つR
4が(4-2)置換基としてハロゲン原子、低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルキル基を示す化合物は、下記反応式−13に示すように、化合物(2)にイソシアナート化合物(10)を反応させることにより製造される。
【0144】
反応式−13
【0145】
【化18】
【0146】
[式中、R
4cは、置換基としてハロゲン原子、低級アルキルアミノ基、低級アルコキシカルボニル基もしくは5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソール−4−イル基を有することのある低級アルキル基を示す。]
化合物(2)と化合物(11)との反応は、塩基性化合物の存在下または非存在下、好ましくは非存在下に、適当な不活性溶媒または無溶媒下で行われる。
【0147】
用いられる不活性溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、2−メトキシエタノール、モノグライム、ジグライム等のエーテル;ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;アセトニトリル、ピリジン、DMSO、DMF、ヘキサメチル燐酸トリアミドまたはこれらの混合溶媒等を挙げることができる。
【0148】
塩基性化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等を使用することができる。塩基性化合物の使用量は、化合物(2)1モルに対して、通常少なくとも1モル程度、好ましくは1〜10モル程度である。また、これら塩基性化合物は、溶媒として使用することもできる。
【0149】
化合物(11)の使用量は、化合物(2)1モルに対して、通常1〜5モル程度、好ましくは1〜3モル程度である。
【0150】
この反応は、通常0〜200℃程度、好ましくは室温〜150℃程度付近で行われ、通常5分〜30時間程度で終了する。
【0151】
上記反応においては、反応系内に、例えば4−ジメチルアミノピリジン等の触媒を存在させて反応を促進させることができる。
【0152】
前記各反応式において出発原料として用いられる化合物(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(1b)、(1b'')、(1e)、(1h)、(1j)、(1l)、(1n)、カルボン酸、アミンおよびカルボニル化合物は、いずれも公知の化合物であるか、または公知の方法、具体的には、後記実施例に示すような方法と同様の方法に従い容易に製造され得る化合物である。
【0153】
前記各反応式において出発原料として用いられる化合物(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(1b)、(1b'')、(1e)、(1h)、(1j)、(1l)、(1n)、カルボン酸、アミンおよびカルボニル化合物は、適当な塩であってもよく、また適当な反応性誘導体であってもよい。かかる適当な塩としては、化合物(1)と同様な塩、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩等のアルカリ金属塩を挙げることができる。
【0154】
本発明の一般式(1)で表される化合物およびその塩は、立体異性体、光学異性体及び溶媒和物(水和物、エタノレート等)を包含する。
【0155】
本発明の一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物のうち塩基性基を有する化合物は、医薬的に許容される酸を作用させることにより容易に酸付加塩とすることができる。上記において、酸付加塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硝酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、リンゴ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、マロン酸塩、メタンスルホン酸塩、安息香酸塩、トリフルオロ酢酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、蟻酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、またはアミノ酸塩(例えば、アルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等)等を挙げることができる。
【0156】
また本発明の一般式(1)で表されるベンゾアゼピン化合物のうち酸性基を有する化合物は、医薬的に許容される塩基性化合物を作用させることにより容易に塩を形成させることができる。それらの塩としては、例えば、アルカリ金属塩(例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等)及びアルカリ土類金属塩(例えば、カルシウム塩、マグネシウム塩等)等の金属塩;アンモニウム塩;有機塩基塩(例えば、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N'−ジベンジルエチレンジアミン塩、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン塩等)等を挙げることができる。ここで、塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等を挙げることができる。
【0157】
これらの塩は、本発明の化合物に含まれる。
【0158】
上記各反応式で得られる各々の目的化合物は、反応混合物を、例えば、冷却した後、濾過、濃縮、抽出等の単離操作によって粗反応生成物を分離し、カラムクロマトグラフィー、再結晶等の通常の精製操作によって、反応混合物から単離精製することができる。
【0159】
本発明の化合物は、例えば、バソプレッシン拮抗作用、血管拡張作用、血圧降下作用、肝糖放出抑制作用、メサンギウム細胞増殖抑制作用、水利尿作用、血小板凝集抑制作用等を有し、血管拡張剤、血圧降下剤、水利尿剤、血小板凝集抑制剤として有用であり、高血圧、浮腫(例えば、心性浮腫、肝性浮腫、腎性浮腫、脳性浮腫等)、腹水、心不全(例えば重症心不全等)、腎機能障害、バソプレシン分泌異常症候群(SIADH)、肝硬変、低ナトリウム血症、低カリウム血症、糖尿病、循環不全、多発性嚢胞腎(PKD)等の予防及び治療に有効である。
【0160】
本発明の化合物を医薬として人体に投与する場合、他のバソプレッシン拮抗剤、ACE阻害剤、β遮断剤、利尿剤、アンジオテンシンII拮抗薬(ARB)、ジゴキシン等の薬剤と同時に、または別々に用いてもよい。
【0161】
本発明の化合物は、通常一般的な医薬製剤の形態で用いられる。医薬製剤は、通常使用される充填剤、増量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等の希釈剤および/または賦形剤を用いて慣用の方法により調製される。
【0162】
本発明の化合物を用いた医薬製剤の形態は、治療目的に応じて適宜選択できる。医薬製剤の形態としては、例えば、錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、懸濁剤等)、軟膏剤等が挙げられる。
【0163】
錠剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノール、プロパノール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニルピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナトリウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制剤、第4級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケイ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等が例示できる。さらに錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フィルムコーティング錠、二重錠または多層錠とすることができる。
【0164】
丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のものを広く使用でき、例えばブドウ糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナラン、カンテン等の崩壊剤等が例示できる。
【0165】
坐剤の形態に成形するに際しては、担体として従来公知のものを広く使用でき、例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、高級アルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半合成グリセライド等を挙げることができる。
【0166】
カプセル剤は、常法に従い通常有効成分化合物を上記で例示した各種の担体と混合して硬質ゼラチンカプセル、軟質カプセル等に充填して調製される。
【0167】
注射剤として調製される場合、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌され、かつ血液と等張であるのが好ましい。また、これら液剤、乳剤及び懸濁剤の形態に製剤するに際しては、希釈剤としてこの分野において慣用されているものをすべて使用できる。そのような希釈剤としては、例えば水、乳酸水溶液、エチルアルコール、プロピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を挙げることができる。なお、この場合、等張性の溶液を調製するに充分な量の食塩、ブドウ糖、マンニトールまたはグリセリン等の等張化剤を医薬製剤中に配合してもよく、また通常のpH調整剤、溶解補助剤、緩衝剤、無痛化剤等を添加してもよい。
【0168】
さらに、必要に応じて着色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を医薬製剤中に配合してもよい。
【0169】
本発明の一般式(1)で表される化合物またはその塩の、医薬製剤中の含有量は、特に限定されず、広範囲に適宜選択される。一般的には、本発明化合物の割合を、通常医薬製剤中0.01〜70重量%とするのがよい。
【0170】
上記の医薬製剤の投与方法について特に制限はなく、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患者の症状の程度等に応じた方法で投与される。例えば錠剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤の場合には経口投与される。また、注射剤の場合には、単独でまたはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合して静脈内投与され、あるいは必要に応じて単独で筋肉内、皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。
【0171】
本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の年齢、性別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択されるが、通常、有効成分である一般式(1)で表される化合物は、1日あたり体重1kgに対して0.001〜100mg、好ましくは0.001〜50mgを1回〜数回に分けて投与される。
【0172】
上記投与量は、種々の条件で変動するので、上記範囲より少ない投与量で充分な場合もあるし、また上記範囲を超えた投与量が必要な場合もある。
【0173】
本発明で引用した特許、特許出願及び文献は、参考として挿入される。