特許 5655177 露光装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B1)

(11)【特許番号】5655177

(24)【登録日】2014年11月28日

(45)【発行日】2015年1月14日

(54)【発明の名称】露光装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20141218BHJP

   H01L 21/027 20060101ALI20141218BHJP

【ＦＩ】

   G03F7/20 501

   H01L21/30 503G

   H01L21/30 509

【請求項の数】13

【全頁数】27

(21)【出願番号】特願2014-541448(P2014-541448)

(86)(22)【出願日】2014年5月12日

(86)【国際出願番号】JP2014062555

【審査請求日】2014年8月22日

(31)【優先権主張番号】特願2013-128016(P2013-128016)

(32)【優先日】2013年6月18日

(33)【優先権主張国】JP

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】503210810

【氏名又は名称】株式会社 ベアック

(74)【代理人】

【識別番号】100104709

【弁理士】

【氏名又は名称】松尾 誠剛

(72)【発明者】

【氏名】河東 和彦

(72)【発明者】

【氏名】羽生 慎一

【審査官】 新井 重雄

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１４−１７５３４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−２１６４３３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−４０２８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−２１２７６５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−３０１１７０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−１６２７４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−６５３１０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて前記基板の感光面を露光する露光装置であって、
前記基板を保持した状態で、ｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面をｘ軸に沿って往復動可能で、かつ、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って昇降可能な基板保持ステージと、
前記マスク板を当該マスク板の厚み方向に突出させた状態で保持する露光ステージと、
前記基板保持ステージがｘ軸に沿って前記マスク板に向かう側を前方側、当該前方側とは反対側を後方側とし、前記マスク板のパターン面を押圧する方向を第１方向、前記基板の感光面を押圧する方向を第２方向としたとき、
前記基板保持ステージの前方側の端部から前方側に突出した突出部に取り付けられており、前記基板保持ステージとともに前方側に進行することによって前記第１方向の力が働いた状態で前記マスク板のパターン面を除塵して行くマスク除塵部と、
前記基板保持ステージが初期位置にあるときの当該基板保持ステージよりも前方側で、かつ、前記露光ステージよりも後方側の所定位置に配置されている基板除塵部支持プレートに取り付けられており、前記基板保持ステージが前記初期位置から前方側に進行することによって前記第２方向の力が働いている状態で前記基板の感光面を除塵して行く基板除塵部と、
前記基板保持ステージをｘ軸に沿って往復動行可能とするとともにｚ軸に沿って昇降可能とするための基板保持ステージ駆動機構部と、
前記基板保持ステージ駆動部を制御することによって前記基板保持ステージの往復動及び昇降を制御する基板保持ステージ制御装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。

【請求項2】

請求項１に記載の露光装置において、
前記マスク除塵部は、前記マスク板のパターン面に接触した状態となると、前記マスク板から与えられる、前記第１方向の力に抗する力を吸収しながら前記基板保持ステージの進行に伴って前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行い、
前記基板除塵部は、前記基板の感光面に接触した状態となると、前記基板から与えられる、前記第２方向の力に抗する力を吸収しながら前記基板保持ステージの進行に伴って前記基板の感光面を除塵して行く動作を行うことを特徴とする露光装置。

【請求項3】

請求項１又は２に記載の露光装置において、
前記マスク除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなしており、
前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面を除塵して行く動作は、前記マスク板のパターン面に接触した状態で回転して行く動作であることを特徴とする露光装置。

【請求項4】

請求項３に記載の露光装置において、
少なくとも表面に前記マスク除塵部の有する粘着力よりも強い粘着力を有するロール状をなしており、
前記マスク除塵部の表面に接触した状態で前記マスク除塵部の回転とともに回転する補助マスク除塵部をさらに備えることを特徴とする露光装置。

【請求項5】

請求項１〜４のいずれかに記載の露光装置において、
前記基板除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなしており、
前記基板除塵部が前記基板の感光面を除塵して行く動作は、前記基板の感光面に接触した状態で回転する動作であることを特徴とする露光装置。

【請求項6】

請求項５に記載の露光装置において、
少なくとも表面に前記基板除塵部の有する粘着力よりも強い粘着力を有するロール状をなしており、
前記基板除塵部の表面に接触した状態で前記基板除塵部の回転とともに回転する補助基板除塵部をさらに備えることを特徴とする露光装置。

【請求項7】

請求項１〜６のいずれかに記載の露光装置において、
前記基板保持ステージは、前記基板の感光面がｚ軸に沿って上方を向くように当該基板を保持し、前記露光ステージは、前記マスク板のパターン面がｚ軸に沿って下方を向くように前記マスク板を保持することを特徴とする露光装置。

【請求項8】

請求項７に記載の露光装置において、
前記第１方向の力は、バネの伸張力による力であり、前記マスク除塵部は、当該バネの伸張力によって前記第１方向の力が働くように前記基板保持ステージの前記突出部に取り付けられており、
前記第２方向の力は、当該基板除塵部が自身の重量により自由落下しようとする力であり、前記基板除塵部は、ｚ軸に沿った方向に所定量の滑動が自在となるように前記基板除塵部支持プレートに取り付けられていることを特徴とする露光装置。

【請求項9】

請求項１〜８のいずれかに記載の露光装置において、
前記基板の感光面と前記基板除塵部とが離間している状態から前記基板除塵部が前記基板の感光面の除塵を開始するまでの間において前記基板保持ステージ制御装置が行う制御は、
前記基板除塵部が前記基板の感光面における前方側の端部付近の平面部に接触するように前記基板保持ステージをｘ軸に沿って所定量だけ進行させるとともに、ｚ軸に沿って所定量だけ移動させるように前記基板保持ステージ駆動機構部を制御することを特徴とする露光装置。

【請求項10】

請求項９に記載の露光装置において、
前記マスク板の後方側の端部にｙ軸に沿うように設けられ、第１方向の力が働いた状態で前方側に進行してくる前記マスク除塵部に前記第１方向の力に抗する力を与えながら当該マスク除塵部を前記マスク板のパターン面に導くガイド部をさらに備えることを特徴とする露光装置。

【請求項11】

請求項９に記載の露光装置において、
前記マスク板のパターン面と前記マスク除塵部とが離間している状態から前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面の除塵を開始するまでの間において前記基板保持ステージ制御装置が行う制御は、
前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面における後方側の端部付近の平面部に接触するように前記基板保持ステージをｘ軸に沿って所定量だけ進行させるとともに、ｚ軸に沿って所定量だけ移動させるように前記基板保持ステージ駆動機構部を制御することを特徴とする露光装置。

【請求項12】

請求項１〜１１のいずれに記載の露光装置において、
前記マスク除塵部は、前記基板保持ステージが前記初期位置にあるときに、前記基板除塵部よりも後方側に位置するように前記基板保持ステージに取り付けられていることを特徴とする露光装置。

【請求項13】

基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて前記基板の感光面を露光する露光装置であって、
前記基板を保持した状態で、ｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面をｘ軸に沿って往復動可能で、かつ、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って昇降可能な基板保持ステージと、
前記マスク板を当該マスク板の厚み方向に突出させた状態で保持する露光ステージと、
前記基板保持ステージがｘ軸に沿って前記マスク板に向かう側を前方側、当該前方側とは反対側を後方側とし、前記マスク板のパターン面を押圧する方向を第１方向、前記基板の感光面を押圧する方向を第２方向としたとき、
前記基板保持ステージの前方側の端部から前方側に突出した突出部に取り付けられており、前記基板保持ステージとともに前方側に進行することによって、前記マスク板のパターン面との間に所定の空隙を有した状態で吸引しながら前記マスク板のパターン面を除塵して行くマスク除塵部と、
前記基板保持ステージが初期位置にあるときの当該基板保持ステージよりも前方側で、かつ、前記露光ステージよりも後方側の所定位置に配置されている基板除塵部支持プレートに取り付けられており、前記基板保持ステージが前記初期位置から前方側に進行することによって、前記基板の感光面との間に所定の空隙を有した状態で吸引しながら前記基板の感光面を除塵して行く基板除塵部と、
前記基板保持ステージをｘ軸に沿って往復動行可能とするとともにｚ軸に沿って昇降可能とするための基板保持ステージ駆動機構部と、
前記基板保持ステージ駆動部を制御することによって前記基板保持ステージの往復動及び昇降を制御する基板保持ステージ制御装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板の感光面とパターンが形成されたマスク板とを対面させて、基板の感光面を露光することによって基板にパターンを転写する露光装置に関する。

【背景技術】

【0002】

基板の感光面とパターンが形成されたマスクとを対面させた状態として、基板の感光面を露光することにより、基板にパターンを転写する露光装置は従来から種々知られている。この種の露光装置においては、基板の感光面を除塵するだけでなく、マスク板と基板とが対面するマスク側の面（マスク板のパターン面という。）を除塵することが重要である。これは、マスク板のパターン面に塵埃が存在していると、露光した際にマスクに形成されているパターンとともに塵埃までが転写されてしまい、当該基板が不良品となってしまうといった不具合が発生するからである。

【0003】

このような不具合の発生を防ぐために、基板の感光面だけではなく、マスク板のパターン面の除塵を可能とした露光装置は従来から提案されている（例えば、特許文献１参照。）。

【0004】

図８は、特許文献１に記載されている露光装置９００を説明するために示す図である。特許文献１に開示されている露光装置９００（以下、従来の露光装置９００という。）は、図８に示すように、基板供給ステージ９０１と、位置出しステージ９０２と、露光ステージ９０３と、搬出ステージ９０４と、基板保持ステージ９０５と、基板９０６の感光面を除塵する基板除塵部としての基板除塵ローラー９０７と、マスク板９０８のパターン面を除塵するマスク除塵部としてのマスク除塵ローラー９０９とを有している。

【0005】

基板保持ステージ９０５は、図８におけるｚ軸に沿った方向に昇降可能な吸着プレート９１０を有している。吸着プレート９１０は、露光対象となる基板９０６を吸着・吸着解除するものであり、基板保持ステージ９０５とともにｘ軸に沿った方向に往復動可能となっている。

【0006】

基板除塵ローラー９０７は、位置出しステージ９０２に取り付けられており、ｘ軸に沿った位置は固定であるが、ｚ軸に沿った方向への昇降動作が可能となっている。一方、マスク除塵ローラー９０９は、基板保持ステージ９０５に取りつけられており、基板保持ステージ９０５とともにｘ軸に沿って進行可能となっているとともに、ｚ軸に沿った方向への昇降動作が可能となっている。なお、基板除塵ローラー９０７及びマスク除塵ローラー９０９の昇降動作は、図８においては図示されていない駆動機構によって行われる。

【0007】

このような従来の露光装置９００において、露光対象となる基板９０６が基板供給ステージ９０１上に載置されている状態を初期状態としたとき、当該初期状態においては、基板除塵ローラー９０７は下降した状態（位置出しステージ９０２内に収納された状態）となっており、マスク除塵ローラー９０９は上昇した状態（基板保持ステージ９０５の内部に収納された状態）となっている。また、この初期状態においては、基板保持ステージ９０５は、基板供給ステージ９０１に対向した位置あり、吸着プレート９１０は上昇している。このため、吸着プレート９１０は、基板供給ステージ９０１上に載置されている基板９０６から離間した位置にある。

【0008】

このような初期状態において、まずは、基板保持ステージ９０５から吸着プレート９１０が下降して基板９０６を吸着保持し、当該吸着プレート９１０は上昇する。この状態で基板保持ステージ９０５は、ｘ軸に沿って図８における右方向に進行する。そして、基板保持ステージ９０５が位置出しステージ９０２上に達すると、吸着プレート９１０が下降して基板９０６を位置出しステージ９０２上に載置し、吸着プレート９１０は基板９０６の吸着を解除して上昇する。

【0009】

そして、位置出しステージ９０２は、基板９０６の位置出しを行う。一方、基板除塵ローラー９０７は駆動機構によって上昇し、位置出しステージ９０２から上方に突出した状態となるとともに、マスク除塵ローラー９０９は駆動機構によって下降して基板保持ステージ９０５から下方に突出した状態となる。その後、吸着プレート９１０が下降して基板９０６を吸着して上昇する。このとき、図８に示すように、基板除塵ローラー９０７は基板９０６よりも進行方向の前方側に位置し、マスク除塵ローラー９０９は、マスク９０８よりも進行方向の後方側に位置する。

【0010】

この状態で、基板保持ステージ９０５がｘ軸に沿ってさらに進行することにより、吸着プレート９１０に吸着保持されている基板９０６も基板保持ステージ９０５とともに進行する。このとき、基板９０６の感光面には基板除塵ローラー９０７が接触しており、その状態で基板９０６は進行して行く。これにより、基板９０６の感光面は基板除塵ローラー９０７によって除塵される。

【0011】

一方、マスク除塵ローラー９０９は、基板保持ステージ９０５とともに進行する。このとき、マスク除塵ローラー９０９はマスク９０８の表面に接触しながら進行するため、マスク板のパターン面はマスク除塵ローラー９０９によって除塵される。

【0012】

その後、基板保持ステージ９０５が露光ステージ９０３上に到達すると、吸着プレート９１０が下降して基板９０６を露光ステージ９０３のマスク９０８の表面に密着させたのち、吸着プレート９１０は上昇し、基板保持ステージ９０５はｘ軸に沿って逆方向（図示の左方向）に戻って行く。

【0013】

このように、基板保持ステージ９０５が露光ステージ９０３に向かって進行動作を行う過程で、基板除塵ローラー９０７及びマスク除塵ローラー９０９により基板９０６の除塵及びマスク９０８の除塵を行うことができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0014】

【特許文献1】特許第２８４７８０８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0015】

従来の露光装置９００においては、基板除塵ローラー９０７及びマスク除塵ローラー９０９は、当該基板除塵ローラー９０７及びマスク除塵ローラー９０９を昇降させるための駆動機構を設け、当該駆動機構によって、基板除塵ローラー９０７及びマスク除塵ローラー９０９を昇降させるとともに、当該駆動機構によって、所定の押圧力で基板９０６の感光面及びマスク９０８の表面に適切な押圧力で接触させるようにしている。なお、駆動機構としては、例えば、エアシリンダーなどが例示されている。

【0016】

このように、従来の露光装置９００においては、基板除塵ローラー９０７及びマスク除塵ローラー９０９を昇降させるための駆動機構を設ける必要があり、また、特許文献１には明示されていないが、基板除塵ローラー９０７及びマスク除塵ローラー９０９を昇降させる際のタイミング制御や押圧力の制御などを行う必要がある。このため、このような制御を行うため制御プログラを作成する必要があるとともに、当該制御プログラムに沿った制御を行う制御装置も必要となる。このように、従来の露光装置９００においては、基板及びマスク板のパターン面の除塵を行うための機構全体が複雑となるといった課題がある。

【0017】

また、従来の露光装置９００においては、基板保持ステージ９０５がｘ軸に沿って進行する過程で、吸着プレート９１０を昇降させて基板９０６を吸着・吸着解除する動作を繰り返し行うようにしている。

【0018】

すなわち、基板供給ステージ９０１に載置されている基板９０６を吸着プレート９１０が吸着したのち、基板保持ステージ９０５が位置出しステージ９０２上に到達すると、位置出しステージ９０２上で吸着プレート９１０が下降して吸着を解除し、基板９０６を位置出しステージ９０２上に載置したのち再び上昇し、位置出しが終了後に、吸着プレート９１０が再び下降して基板９０６を吸着して上昇し、その後、基板保持ステージ９０５が露光ステージ９０３上に到達すると、露光ステージ９０３上で吸着プレート９１０が下降して吸着を解除し、基板９０６を露光ステージ９０３上に載置したのち再び上昇するといった動作を行う。

【0019】

このように、従来の露光装置９００は、基板保持ステージ９０５が進行する動作に加えて、位置出しステージ９０２上及び露光ステージ９０３上などでその都度、吸着プレート９１０が昇降動作を行って、基板９０６を吸着・吸着解除する動作を行う必要がある。このため、従来の露光装置９００は、基板供給ステージ９０１の基板９０６を露光ステージ９０３に搬送するまでに多くの時間を要し、大量の基板を高速に露光する場合には課題が残る。

【0020】

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、基板の感光面及びマスク板のパターン面を除塵するための機構全体を簡単化することができるとともに、大量の基板を高速に露光することができる露光装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0021】

［１］本発明の露光装置は、基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて前記基板の感光面を露光する露光装置であって、前記基板を保持した状態で、ｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面をｘ軸に沿って往復動可能で、かつ、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って昇降可能な基板保持ステージと、前記マスク板を当該マスク板の厚み方向に突出させた状態で保持する露光ステージと、前記基板保持ステージがｘ軸に沿って前記マスク板に向かう側を前方側、当該前方側とは反対側を後方側とし、前記マスク板のパターン面を押圧する方向を第１方向、前記基板の感光面を押圧する方向を第２方向としたとき、前記基板保持ステージの前方側の端部から前方側に突出した突出部に取り付けられており、前記基板保持ステージとともに前方側に進行することによって前記第１方向の力が働いた状態で前記マスク板のパターン面を除塵して行くマスク除塵部と、前記基板保持ステージが初期位置にあるときの当該基板保持ステージよりも前方側で、かつ、前記露光ステージよりも後方側の所定位置に配置されている基板除塵部支持プレートに取り付けられており、前記基板保持ステージが前記初期位置から前方側に進行することによって前記第２方向の力が働いている状態で前記基板の感光面を除塵して行く基板除塵部と、前記基板保持ステージをｘ軸に沿って往復動行可能とするとともにｚ軸に沿って昇降可能とするための基板保持ステージ駆動機構部と、前記基板保持ステージ駆動部を制御することによって前記基板保持ステージの往復動及び昇降を制御する基板保持ステージ制御装置と、を備えることを特徴とする。

【0022】

本発明の露光装置によれば、マスク除塵部及び基板除塵部を昇降させるための駆動機構は不要となり、また、マスク除塵部及び基板除塵部を昇降させる際のタイミング制御や押圧力の制御などを行う必要がないため、このような制御を行うための制御装置も不要となる。それにより、本発明の露光装置によれば、マスク板のパターン面及び基板の感光面を除塵するための機構全体を簡単化することができる。

【0023】

また、本発明の露光装置によれば、基板保持ステージは、基板を保持したままの状態で進行して行くため、基板保持ステージが進行して行く過程で、基板の保持を解除したり、基板を保持したりといった動作を行うことなく基板を露光ステージまで搬送させることができる。これにより、本発明の露光装置によれば、基板を露光ステージに搬送するまでに要する時間を短くすることができ、大量の基板を高速に露光することができる。

【0024】

［２］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部は、前記マスク板のパターン面に接触した状態となると、前記マスク板から与えられる、前記第１方向の力に抗する力を吸収しながら前記基板保持ステージの進行に伴って前記マスク板のパターン面を除塵する動作を行い、前記基板除塵ローラーは、前記基板の感光面に接触した状態となると、前記基板から与えられる、前記第２方向の力に抗する力を吸収しながら前記基板保持ステージの進行に伴って前記基板の感光面を除塵して行く動作を行うことが好ましい。

【0025】

このように、マスク除塵部はマスク板のパターン面に接触した状態となると、マスク板から与えられる、第１方向の力に抗する力を吸収しながら基板保持ステージの進行に伴ってマスク板のパターン面を除塵して行く。また、基板除塵部は、基板の感光面に接触した状態となると、基板から与えられる、第２方向の力に抗する力を吸収しながら基板保持ステージの進行に伴って前記基板の感光面を除塵して行く。

【0026】

このため、マスク除塵部及び基板除塵部はそれぞれが適切な押圧力でマスク板のパターン面及び基板の感光面に接触することできる。これにより、マスク除塵部及び基板除塵部を昇降させる際のタイミング制御や押圧力の制御などを行う必要がなく、このような制御を行うための制御装置も不要となる。

【0027】

［３］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなしており、前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面を除塵して行く動作は、前記マスク板のパターン面に接触した状態で回転して行く動作であることが好ましい。
これにより、マスク板のパターン面を効率よく、かつ、確実に除塵することができる。

【0028】

［４］本発明の露光装置においては、少なくとも表面に前記マスク除塵部の有する粘着力よりも強い粘着力を有するロール状をなしており、前記マスク除塵部の表面に接触した状態で前記マスク除塵部の回転とともに回転する補助マスク除塵部をさらに備えることが好ましい。

【0029】

このような補助マスク除塵部を設けることにより、マスク除塵部に付着した塵埃を補助マスク除塵部側に付着させせることができ、マスク除塵部を長時間使用することができ、マスク除塵部のメンテナンスを容易なものとすることができる。

【0030】

［５］本発明の露光装置においては、前記基板除塵部は、少なくとも表面に粘着力を有するロール状をなしており、前記基板除塵部が前記基板の感光面を除塵して行く動作は、前記基板の感光面に接触した状態で回転する動作であることが好ましい。
これにより、基板の感光面を効率よく、かつ、確実に除塵することができる。

【0031】

［６］本発明の露光装置においては、少なくとも表面に前記基板除塵部の有する粘着力よりも強い粘着力を有するロール状をなしており、前記基板除塵部の表面に接触した状態で前記基板除塵部の回転とともに回転する補助基板除塵部をさらに備えることが好ましい。

【0032】

このような補助基板除塵部を設けることにより、基板除塵部に付着した塵埃を補助基板除塵部側に付着させせることができ、基板除塵部を長時間使用することができ、基板除塵部のメンテナンスを容易なものとすることができる。

【0033】

［７］本発明の露光装置においては、前記基板保持ステージは、前記基板の感光面がｚ軸に沿って上方を向くように当該基板を保持し、前記露光ステージは、前記マスク板のパターン面がｚ軸に沿って下方を向くように前記マスク板を保持することが好ましい。

【0034】

このように、基板の感光面が上方を向くように配置するとともに、マスク板のパターン面が下方を向くように配置することにより、基板を基板保持ステージに保持させる動作と、基板を保持した基板保持ステージが進行する動作とを、効率よく、かつ安定して行うことができる。

【0035】

すなわち、基板を基板保持ステージに載せる際において、例えば、露光対象となる基板が多数積層されているストッカーなどから基板を１枚ずつ吸着によって取り出して、取り出した基板を基板保持ステージに載せる動作を行う場合、ストッカーから基板の取り出しと、基板を基板保持ステージに載せる動作とを効率的に行うことができる。また、その後、基板保持ステージが進行する際には、基板は基板保持ステージの上面に重力が加わった状態で載っているため、基板保持ステージは基板を安定して搬送することができる。

【0036】

［８］本発明の露光装置においては、前記第１方向の力は、バネの伸張力による力であり、前記マスク除塵部は、当該バネの伸張力によって前記第１方向の力が働くように前記基板保持ステージの前記突出部に取り付けられており、前記第２方向の力は、当該基板除塵部が自身の重量により自由落下しようとする力であり、前記基板除塵部は、ｚ軸に沿った方向に所定量の滑動が自在となるように前記基板除塵部支持プレートに取り付けられていることが好ましい。

【0037】

このように、本発明の露光装置においては、マスク除塵部はバネの伸張力によりマスク板のパターン面に接触し、基板除塵部は当該基板除塵の重量により自由落下する力で基板に接触するものである。このため、マスク除塵部及び基板除塵部を昇降させるための駆動機構などが必要なく、また、マスク除塵部及び基板除塵部を昇降させる際のタイミング制御や接触したときの押圧力の制御などを行う必要がなくなる。また、マスク除塵部はバネの伸張力によりマスク板のパターン面に接触し、基板除塵部は当該基板除塵の重量により自由落下する力で基板に接触するものであるため、マスク除塵部及び基板除塵部の高さ方向（ｚ軸に沿った方向）の位置の設定は、高精度に調整する必要がなく、基板除塵部及びマスク除塵部の調整作業を軽減することができる。

【0038】

［９］本発明の露光装置においては、前記基板の感光面と前記基板除塵部とが離間している状態から前記基板除塵部が前記基板の感光面の除塵を開始するまでの間において前記基板保持ステージ制御装置が行う制御は、前記基板除塵部が前記基板の感光面における前方側の端部付近の平面部に接触するように前記基板保持ステージをｘ軸に沿って所定量だけ進行させるとともに、ｚ軸に沿って所定量だけ移動させるように前記基板保持ステージ駆動機構部を制御することが好ましい。

【0039】

基板保持ステージ制御装置がこのような制御を行うことにより、基板保持ステージが前方側に進行するに伴って基板が前方側に進行する際に、基板除塵部が基板の前方側の端部をｘ軸に沿った後方側に押すという動作が生じない。このため、基板の位置ずれを防止することができ、また、基板の前方側の端部が破損してしまうことも防止できる。

【0040】

［１０］本発明の露光装置においては、前記マスク板の後方側の端部にｙ軸に沿うように設けられ、第１方向の力が働いた状態で前方側に進行してくる前記マスク除塵部に、前記第１方向の力に抗する力を与えながら当該マスク除塵部を前記マスク板のパターン面に導くガイド部をさらに有することが好ましい。

【0041】

このようなガイド部を設けることにより、マスク除塵部がマスク板の後方側の端部に直接当接しないようにマスク除塵部をマスク板のパターン面に導くことができる。すなわち、マスク除塵部は、マスク板のパターン面を押圧する方向の力（第１方向の力）が働いている状態でマスク板のパターン面を除塵するようにしている。このため、マスク板が厚み方向に突出した状態で露光ステージに取りつけられていると、マスク除塵部がマスク板の後方側の端部に当接してマスク板を前方側に押してしまい、マスク板が位置ずれしてしまう可能性があるが、本発明においては、マスク除塵部をマスク板のパターン面に導くガイド板が設けられている。これにより、マスク除塵部がマスク板の後方側の端部に直接当接しないようにマスク除塵部をマスク板のパターン面に導くことができるため、マスク除塵部がマスク板を前方側に押してしまうことがなく、マスク板の位置ずれを防止することができるとともにマスク板の後方側の端部の破損を防止することができる。

【0042】

［１１］本発明の露光装置においては、前記マスク板のパターン面と前記マスク除塵部とが離間している状態から前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面の除塵を開始するまでの間において前記基板保持ステージ制御装置が行う制御は、前記マスク除塵部が前記マスク板のパターン面における後方側の端部付近の平面部に接触するように前記基板保持ステージをｘ軸に沿って所定量だけ進行させるとともに、ｚ軸に沿って所定量だけ移動させるように前記基板保持ステージ駆動機構部を制御することが好ましい。

【0043】

基板保持ステージ制御装置がこのような制御を行うことにより、基板保持ステージが前方側に進行するに伴ってマスク除塵部が前方側に進行する際に、マスク除塵部がマスク板の後方側の端部をｘ軸に沿った前方側に押すという動作が生じない。このため、マスク板の位置ずれを防止することができ、また、マスク板の後方側の端部が破損してしまうことも防止できる。

【0044】

［１２］本発明の露光装置においては、前記マスク除塵部は、前記基板保持ステージが前記初期位置にあるときに、前記基板除塵部よりも後方側に位置するように前記基板保持ステージに取りつけられていることが好ましい。

【0045】

このような構成とすることによって、露光装置が大型化してしまうことを防ぐことができる。すなわち、マスク除塵部は、基板保持ステージの前方側の端部から前方側に突出した位置に取りつけられているため、仮に、マスク除塵部が基板除塵部よりもｘ軸に沿った前方側に位置するような配置とすると、基板保持ステージが初期位置（進行を開始する前の位置）にあるときに、基板保持ステージの前方側の端部から前方側に大きく突出した位置に取りつける必要がある。

【0046】

このように、基板保持ステージの前方側の端部から前方側に大きく突出した位置に取りつけると、基板保持ステージが前方側に進行して露光部の下方に達した状態（基板の感光面がマスク板のパターン面に対面した状態）となったときに、マスク除塵部の位置がｘ軸に沿った前方側に、大きく出っ張った位置となる。このため、露光装置筐体のｘ軸方向に沿った長さをより大きくする必要があり、露光装置全体が大型化してしまうこととなる。これに対して、本発明の露光装置のように、マスク除塵部が基板除塵部よりも後方側に位置するように基板保持ステージに取りつけられている構成とすることにより、露光装置全体が大型化してしまうことを防ぐことができる。

【0047】

［１３］本発明の露光装置は、基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて前記基板の感光面を露光する露光装置であって、前記基板を保持した状態で、ｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面をｘ軸に沿って往復動可能で、かつ、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って昇降可能な基板保持ステージと、前記マスク板を当該マスク板の厚み方向に突出させた状態で保持する露光ステージと、前記基板保持ステージがｘ軸に沿って前記マスク板に向かう側を前方側、当該前方側とは反対側を後方側とし、前記マスク板のパターン面を押圧する方向を第１方向、前記基板の感光面を押圧する方向を第２方向としたとき、前記基板保持ステージの前方側の端部から前方側に突出した突出部に取り付けられており、前記基板保持ステージとともに前方側に進行することによって、前記マスク板のパターン面との間に所定の空隙を有した状態で吸引しながら前記マスク板のパターン面を除塵して行くマスク除塵部と、前記基板保持ステージが初期位置にあるときの当該基板保持ステージよりも前方側で、かつ、前記露光ステージよりも後方側の所定位置に配置されている基板除塵部支持プレートに取り付けられており、前記基板保持ステージが前記初期位置から前方側に進行することによって、前記基板の感光面との間に所定の空隙を有した状態で吸引しながら前記基板の感光面を除塵して行く基板除塵部と、前記基板保持ステージをｘ軸に沿って往復動行可能とするとともにｚ軸に沿って昇降可能とするための基板保持ステージ駆動機構部と、前記基板保持ステージ駆動部を制御することによって前記基板保持ステージの往復動及び昇降を制御する基板保持ステージ制御装置と、を備えることを特徴とする。

【0048】

本発明の露光装置によれば、［１］に記載の本発明の露光装置が有する効果のうち対応する効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【0049】

【図1】実施形態１に係る露光装置１０Ａを説明するために示す図である。

【図2】実施形態１に係る露光装置１０Ａにおける基板保持ステージを制御する基板保持ステージ制御装置５００の構成を示す図である。

【図3】実施形態１に係る露光装置１０Ａの動作を説明するために示す図である。

【図4】実施形態１に係る露光装置１０Ａの動作を説明するために示す図である。

【図5】実施形態２に係る露光装置１０Ｂを説明するために示す図である。

【図6】実施形態３に係る露光装置１０Ｃを説明するために示す図である。

【図7】実施形態３に係る露光装置１０Ａの動作の主要部を説明するために示す図である。

【図8】特許文献１に記載されている露光装置９００を説明するために示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0050】

以下、本発明の実施形態について説明する。

【0051】

［実施形態１］
図１は、実施形態１に係る露光装置１０Ａを説明するために示す図である。なお、図１は、実施形態１係る露光装置１０Ａを模式的に示すものであり、実施形態１に係る露光装置１０Ａを説明する上で特に必要としない構成要素については図示が省略されている。また、図１は模式図であるため、実際の構成要素の寸法を同一比率で縮小したものとはなっておらず、誇張されて描かれていたり、より縮小されて描かれていたりするものもある。

【0052】

実施形態１に係る露光装置１０Ａは、図１に示すように、露光前の基板Ｗを供給するとともに露光後の基板Ｗを回収する基板供給・回収部１００と、基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵する基板除塵機構部２００と、基板Ｗの感光面Ｍ１を露光することによって基板Ｗにパターンを転写する露光部３００と、これらの各構成要素を収納している露光装置筐体４００と、露光装置筐体４００の内部又は外部に設けられている基板保持ステージ制御装置５００とを有している。なお、露光装置筐体４００の内部は、可能な限りクリーン化された空間となっているが、それでもなお、塵埃が存在する場合もある。

【0053】

基板供給・回収部１００は、基板保持ステージ１１０と、マスク除塵部１２０と、マスク除塵部１２０が取り付けられているマスク除塵ホルダー１３０と、基板保持ステージ１１０をｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面をｘ軸に沿って往復動可能とするとともに、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って昇降可能とする基板保持ステージ駆動機構部１４０とを有している。

【0054】

なお、本明細書においては、基板保持ステージ１１０がｘ軸に沿って露光部３００のマスク板３１０（後述する。）に向かう側を「前方側」とし、前方側と反対側を「後方側」として説明する。

【0055】

基板保持ステージ１１０は、基板Ｗの感光面Ｍ１をｚ軸に沿って上方に向けた状態で当該基板Ｗを位置決めして真空吸着するものであり、ｘ軸に沿った方向に往復動可能となっている。なお、図１における基板保持ステージ１１０の位置は、当該基板保持ステージ１１０が露光部３００に向かって進行を開始する前の位置であり、この位置を初期位置とする。なお、基板Ｗの感光面Ｍ１というのは、基板Ｗにフォトレジストなどが塗布されている面であり、フォトレジストはすでに乾いた状態にあるものとする。

【0056】

マスク除塵部１２０は、基板保持ステージ１１０に取り付けられている。具体的には、基板保持ステージ１１０の前方側の端部（先端部という。）に突出して設けられているマスク除塵ホルダー１３０に取り付けられており、基板保持ステージ１１０とともに進行して露光部３００に保持されているマスク板３１０のパターン面Ｍ２を除塵する。

【0057】

また、マスク除塵部１２０は、表面に粘着力を有するロール状をなしている。実施形態１に係る露光装置１０Ａにおいては粘着力を有する部材（例えば、粘着力を有するゴムなど）をロール状に形成したものを用いている。

【0058】

このように、マスク除塵部１２０がロール状をなしていることから、マスク除塵部１２０を「マスク除塵ローラー１２０」ともいう。なお、マスク除塵ローラー１２０は粘着力を有するものであるが、その粘着力は、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に存在する塵埃をくっつけて取り去ることができる程度であり、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に悪影響を及ぼすことのない程度の粘着力であるとする。

【0059】

マスク除塵ホルダー１３０は、基板保持ステージ１１０から前方側に突出している突出部１３１と、マスク除塵ローラー１２０を回転自在に支持するマスク除塵部支持プレート１３２と、マスク除塵ローラー１２０の昇降をガイドするガイドレール１３３と、マスク板３１０のパターン面Ｍ２を押圧する方向（第１方向とする。）の力（第１方向の力とする。）を与えるバネ１３４とを有している。なお、マスク除塵ローラー１２０は、動力によって回転するものではなく、空回りするようにマスク除塵部支持プレート１３２に支持されている。

【0060】

マスク除塵部支持プレート１３２は、突出部１３１の先端部に位置しており、ガイドレール１３３のガイドによって所定量の昇降が自在となるように取り付けられている。また、マスク除塵部支持プレート１３２と突出部１３１との間にはバネ１３４が介在されている。このため、マスク除塵部支持プレート１３２には、バネ１３４の伸張力による第１方向の力（マスク板３１０のパターン面Ｍ２を押圧する方向の力）が働いており、それによって、マスク除塵ローラー１２０にも同様にバネ１３４の伸張力による第１方向の力（マスク板３１０のパターン面Ｍ２を押圧する方向の力）が働いている。

【0061】

このように、マスク除塵ローラー１２０は、第１方向の力（バネの伸張力）でマスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触するため、マスク板３１０から与えられる第１方向の力に抗する力を吸収しながら基板保持ステージ１１０の進行に伴ってマスク板３１０のパターン面Ｍ２を除塵して行くことができる。

【0062】

なお、第１方向の力の強さは、バネ１３４の伸張力などの調整により調整可能となっている。また、マスク除塵ローラー１２０に第１方向の力を働かせるための手段としては、バネに限られるものではなく、他の部材を用いてもよい。例えば、エアシリンダーなどによってマスク除塵ローラー１２０に対して第１方向の圧力を与えるような構成としてもよい。

【0063】

基板保持ステージ駆動機構部１４０は、基板保持ステージ１１０をｘ軸に沿って往復動させるためのｘ軸往復動駆動機構部１４１と、基板保持ステージ１１０をｚ軸に沿って昇降させるためのｚ軸昇降駆動機構部１４５とを有している。

【0064】

ｘ軸往復動駆動機構部１４１は、基板保持ステージ１１０を固定する基板保持ステージ固定台１４２、基板保持ステージ固定台１４２をｘ軸に沿って往復動作させるための第１ボールネジ１４３とを有している。ｚ軸昇降駆動機構部１４５は、基板保持ステージ固定台１４１に固定されている昇降台１４６と、昇降台１４６をｚ軸に沿って昇降させるための第２ボールネジ１４７とを有している。

【0065】

このように構成されている基板保持ステージ駆動機構部１４０は、第１ボールネジ１４３を時計方向又は反時計方向に回転させることにより、基板保持ステージ固定台１４２及びｚ軸昇降駆動機構部１４５全体をｘ軸に沿って前方側又は後方側に進行させることができる。

【0066】

例えば、第１ボールネジ１４３を時計方向に回転させると、基板保持ステージ固定台１４２及びｚ軸昇降駆動機構部１４５全体をｘ軸に沿って後方側に進行させることができ、第１ボールネジ１４３を反時計方向に回転させると、基板保持ステージ固定台１４２及びｚ軸昇降駆動機構部１４５全体をｘ軸に沿って前方側に進行させることができる。これにより、基板保持ステージ固定台１４２に固定されている基板保持ステージ１１０をｘ軸に沿って往復動させることができる。

【0067】

また、ｚ軸昇降駆動機構部１４５の第２ボールネジ１４７を時計方向又は反時計方向に回転させることにより、昇降台１４６を上昇又は下降させることができる。例えば、第２ボールネジ１４７を時計方向に回転させると昇降台１４６が下降し、昇降台１４６とともに基板保持ステージ固定台１４２も下降する。一方、第２ボールネジ１４７を反時計方向に回転させると昇降台１４６が上昇し、昇降台１４６とともに基板保持ステージ固定台１４２も上昇する。これにより、基板保持ステージ固定台１４２に固定されている基板保持ステージ１１０をｚ軸に沿って昇降させることができる。

【0068】

なお、第１ボールネジ１４３は、基板保持ステージ１１０を図１の位置から露光部３００の位置にまで移動させる必要があるため、露光装置筐体４００内のほぼ右端付近から左端付近にまで配設されている。一方、第２ボールネジ１４７は、基板保持ステージ１１０の昇降量がそれほど大きくはなく昇降台１４６の移動量が少ないため、第１ボールネジ１４３に比べると短尺となっている。

【0069】

なお、第１ボールネジ１４３及び第２ボールネジ１４７の配設位置は、図１に示す位置に限られるものではなく、例えば、第１ボールネジ１４１は、露光装置筐体４００の底面に近い位置に配設するようにしてもよい。また、ｘ軸往復動駆動機構部１４１及びｚ軸昇降駆動機構部１４５は、図1に示すような構成に限られるものではなく種々の構成を採用できる。

【0070】

ところで、基板保持ステージ駆動機構部１４０は、基板保持ステージ制御装置５００（図２参照。）によって制御され、それによって基板保持ステージ１１０を制御することができる。

【0071】

図２は、基板保持ステージ制御装置５００の構成を示す図である。基板保持ステージ制御装置５００は、図２に示すように、第１ボールネジ１４３を駆動する第１ボールネジ駆動部（サーボモータなど）５１０と、基板保持ステージ１１０の進行及び昇降を制御するための制御プログラム及びユーザーの設定情報など各種情報を記憶している記憶部５５０と、記憶部５５０が記憶している情報に基づいて第１ボールネジ駆動部５１０を制御することにより、基板保持ステージ１１０の前方側又は後方側への進行を制御する進行制御部５２０と、第２ボールネジ１４７を駆動する第２ボールネジ駆動部（サーボモータなど）５３０と、記憶部５５０が記憶している情報に基づいて第２ボールネジ駆動部５３０を制御することにより、基板保持ステージ１１０の昇降を制御する昇降制御部５４０とを有している。

【0072】

基板保持ステージ制御装置５００がこのように構成されていることにより、基板保持ステージ１１０の進行及び昇降を制御することができる。例えば、基板保持ステージ１１０を所定量だけ下降させて、基板保持ステージ１１０が下降した状態で所定量だけ前方側に進行させたのち、基板保持ステージ１１０を所定量だけ上昇させて、基板保持ステージ１１０が上昇した状態で再び所定量だけ前方側に進行させるといった制御が可能となる。

【0073】

図１に説明が戻る。基板除塵機構部２００は、基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵するための基板除塵部２１０と、基板除塵部２１０を取り付けるための基板除塵部支持プレート２２０とを有している。また、基板除塵機構部２００は、図示しないが、基板Ｗに帯電している静電気を除電する除電部を有している。

【0074】

基板除塵部２１０は、マスク除塵部（マスク除塵ローラー１２０）と同様に、表面に粘着力を有するロール状をなしており、実施形態１に係る露光装置１０Ａにおいては粘着力を有する部材（例えば、粘着力を有するゴムなど）をロール状に形成したものを用いている。

【0075】

このように、基板除塵部２１０がロール状をなしていることから、基板除塵部２１０を「基板除塵ローラー２１０」ともいう。なお、基板除塵ローラー２１０は粘着力を有するものであるが、マスク除塵ローラー１２０と同様に、その粘着力は、基板Ｗの感光面Ｍ１に存在する塵埃をくっつけて取り去ることができる程度であり、基板Ｗの感光面Ｍ１に悪影響を及ぼすことのない程度の粘着力であるとする。

【0076】

基板除塵部支持プレート２２０は、基板除塵ローラー２１０を回転自在で、かつ、所定量の上下動自在となるように基板除塵ローラー２１０の両端を支持している。基板除塵ローラー２１０を所定量の上下動自在となるように支持する方法としては、基板除塵部支持プレート２２０に、ｚ軸に沿う方向に長い孔（長孔という。）２２１を形成し、当該長孔２２１で基板除塵ローラー２１０を支持する方法を例示することができる。なお、基板除塵ローラー２１０は、動力によって回転するものではなく、空回りするように基板除塵部支持プレート２２０に支持されている。

【0077】

基板除塵ローラー２１０が基板除塵部支持プレート２２０にこのように支持されているため、基板除塵ローラー２１０には、当該基板除塵ローラー２１０が自身の重量により自由落下しようとする力が働く。基板除塵ローラー２１０が自身の重量により自由落下しようとする力は、基板Ｗの感光面Ｍ１を押圧する方向（第２方向とする。）の力（第２方向の力とする。）として働く。すなわち、基板除塵ローラー２１０は、第２方向の力が働いた状態で基板除塵部支持プレート２２０に支持されている。

【0078】

これにより、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１に接触した状態においては、当該基板除塵ローラー２１０は第２方向の力（自重ともいう。）で基板Ｗの感光面Ｍ１に接触する。このように、基板除塵ローラー２１０は、第２方向の力（自重）で基板Ｗの感光面Ｍ１に接触するため、基板Ｗから与えられる第２方向の力に抗する力を吸収しながら基板保持ステージ１１０の進行に伴って基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵して行くことができる。

【0079】

なお、当該基板除塵ローラー２１０は自重で基板の感光面Ｍ１に押圧力を与えるものであるが、例えば、マスク除塵ローラー１２０と同様に、基板除塵ローラー２１０にバネなどによる伸張力を与えるような構成として、基板Ｗの感光面Ｍ１に押圧力を与えるようにすることも可能である。

【0080】

基板除塵ローラー２１０は、露光部３００よりもｘ軸に沿った後方側に位置するように基板除塵部支持プレート２２０に取り付けられている。また、基板保持ステージ１１０が初期位置（図１に示す位置）にあるときには、マスク除塵ローラー１２０よりもｘ軸沿った前方側に位置している。すなわち、マスク除塵ローラー１２０と基板除塵ローラー２１０との配置の関係は、基板保持ステージ１１０が初期位置（図１に示す位置）にあるときには、マスク除塵ローラー１２０は、基板除塵ローラー２１０よりもｘ軸に沿った後方側に位置するような配置となっている。

【0081】

このように、基板保持ステージ１１０が初期位置（図１の位置）にあるときにおいて、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０よりもｘ軸に沿った後方側に位置するような配置としたのは、次のようなことを理由の一つとして挙げることができる。

【0082】

すなわち、基板保持ステージ１１０が初期位置（図１の位置）にあるときにおいて、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０よりもｘ軸に沿った後方側に位置するような配置とすることにより、突出部１３１のｘ軸に沿った方向の長さＬは、あまり長くとる必要はない。

【0083】

これに対して、基板保持ステージ１１０が初期位置（図１の位置）にあるときにおいて、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０よりもｘ軸に沿った前方側に位置するような配置とすると、突出部１３１のｘ軸に沿った方向の長さＬ（図１参照。）を長くとる必要がある。

【0084】

突出部１３１の長さＬを長くとると、基板保持ステージ１１０が露光部３００の下方に達した状態（基板Ｗの感光面Ｍ１がマスク板３１０のパターン面Ｍ２に対面した状態）となったときに、マスク除塵ローラー１２０の位置がｘ軸に沿った前方側により大きく出っ張った位置となる。このため、露光装置筐体４００のｘ軸方向に沿った長さをより大きくする必要があり、露光装置全体が大型化してしまうといった不具合が生じてしまうこととなる。このような不具合は、基板保持ステージ１１０が初期位置（図１の位置）にあるときにおいて、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０よりもｘ軸に沿った後方側に位置するような配置とすることによって防止できる。

【0085】

ところで、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０は、マスク除塵部支持プレート１３２及び基板除塵部支持プレート２２０に対して着脱自在となっている。このため、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０に付着した塵埃の除去、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０の洗浄、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０そのものの交換などを容易に行うことができる。

【0086】

露光部３００は、図示しない光源と、マスク板３１０と、パターン面Ｍ２が基板Ｗの感光面Ｍ１に対面するようにマスク板３１０を取り付ける露光ステージ３２０と、進行してくるマスク除塵ローラー１２０をマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導くガイド部３４０とを有している。また、露光部３００には、図示しないが、マスク板３１０などに帯電している静電気を除電する除電部が設けられている。

【0087】

マスク板３１０は、透明ガラスなどの透光性部材でなり、所定の厚みを有している。なお、マスク板３１０の厚みは特に限定されるものではないが、例えば、２ｍｍ〜７ｍｍ程度の厚みを有している。

【0088】

また、マスク板３１０は、露光ステージ３２０の下面側に取り付けられている。具体的には、マスク板３１０は、露光ステージ３２０の下面側にｘ軸に沿って平行に設けられている２本のＬ字金具３３０（図１においては一方のＬ字金具のみが示されている。）によって、マスク板３１０の端部（ｘ軸に沿って見たときの左右両側の端部）が支持されている。これにより、マスク板３１０はＬ字金具３３０によって露光ステージ３２０から懸架された状態で取り付けられている。

【0089】

マスク板３１０がこのようにして露光ステージ３２０に取り付けられると、マスク板３１０は、露光ステージ３２０からマスク板３１０の厚み方向（下方）に、マスク板３１０の厚み分以上の突出量で突出した状態で取り付けられている状態となる。

【0090】

また、マスク板３１０は、露光ステージ３２０の下面に対して位置決めされた状態でＬ字金具３３０に取り付けられている。このとき、マスク板３１０は容易には位置ずれしないようにＬ字金具３３０に取り付けられているが、仮に、マスク板３１０の後方側の端部に、所定以上の力が進行方向に向かって加わったとすると、マスク板３１０が進行方向に位置ずれしてしまう場合もあり得る。

【0091】

ガイド部３４０は、マスク板３１０の後方側の端部にｙ軸に沿うように設けられている。ガイド部３４０は、進行してくるマスク除塵ローラー１２０をマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導くものであり、水平片３４１ａと傾斜片３４１ｂとからなるガイド板３４１と、ガイド板３４１を露光ステージ３２０に取り付けるためのガイド板取り付け部３４２とを有している。

【0092】

このような構成のガイド部３４０は、ガイド板３４１の水平片３４１ａをガイド板取り付け部３４２に固定した状態で、ガイド板取り付け部３４２をマスク板３１０の後方側の端部にｙ軸に沿うように露光ステージ３２０に取り付けると、ガイド板３４１の傾斜片３４１ｂは、ガイド板取り付け部３４２から斜め上方に突出した状態となる。

【0093】

このように取り付けられたガイド部３４０を後方側からｘ軸に沿って見ると、ガイド板３４１の傾斜片３４１ｂがマスク板３１０の後方側の端部を覆うようにｙ軸に沿って取り付けられたものとなる。

【0094】

なお、ガイド部３４０は、ガイド板３４１の水平片３４１ａとマスク板３１０との間に０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度の段差が形成されるように水平片３４１ａが下方に出っ張った状態となるように取り付けられていることが好ましい。

【0095】

このような構成のガイド部３４０は、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０に向かって進行してきたときに、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０の後方側の端部に直接当接することなく、マスク除塵ローラー１２０をマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導くためのものである。

【0096】

なお、ガイド部３４０におけるガイド板３４１は、マスク板３１０の後方側の端部の全体を覆うような１枚の板からなるものであってもよく、水平片３４１ａと傾斜片３４１ｂとからなる細い板状のものが、ｙ軸に沿って所定間隔を置いて複数個並んでいるようなものであってもよい。

【0097】

図３及び図４は、実施形態１に係る露光装置１０Ａの動作を説明するために示す図である。図３（ａ）〜図３（ｃ）及び図４（ａ）〜（ｃ）は各工程図である。なお、図３及び図４は実施形態１に係る露光装置１０Ａのマスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０の動作を主に説明するために示す図である。このため、図１に示す構成要素において符号が省略されているものもあり、また、図１に示す構成要素のうち基板保持ステージ駆動機構部１４０などは図示が省略されている。また、基板保持ステージ１１０を進行及び昇降させるための制御は、図２に示した基板保持ステージ制御装置５００によって行うことができる。

【0098】

図３（ａ）は処理対象となる基板Ｗが位置決めされて基板保持ステージ１１０に保持されている状態を示すものであり、これは図１と同様に、基板保持ステージ１１０が初期位置にあるときの状態である。

【0099】

基板保持ステージ１１０が初期位置にあるときには、基板保持ステージ１１０のｘ軸に沿った位置は、基板除塵ローラー２１０よりも後方側に位置しており、ｚ軸方向に沿った位置は、基板保持ステージ１１０の上面１１０ａとマスク板３１０の下面３１０ａとの間隔ｄ１が５ｍｍ〜１５ｍｍ程度の範囲となるように設定されている。実施形態１に係る露光装置１０Ａにおいては、間隔ｄ１は９ｍｍに設定されている。

【0100】

このように、基板保持ステージ１１０が初期位置にあるときには、マスク除塵ローラー１２０のｘ軸に沿った位置（マスク除塵ローラー１２０の回転軸のｘ軸に沿った位置とする。）ｘ１は、基板除塵ローラー２１０よりも後方側に位置している。

【0101】

また、マスク除塵ローラー１２０のｚ軸に沿った位置（マスク除塵ローラー１２０における円周上の上方側頂点Ｐ１のｚ軸に沿った位置とする。）ｚ１は、マスク板３１０における下面３１０ａのｚ軸に沿った位置ｚ２よりもわずかに（例えば、０．３ｍｍ〜２ｍｍ程度）高い位置となっている。

【0102】

一方、基板除塵ローラー２１０は、ｘ軸に沿った位置が固定であり、ｚ軸に沿った位置（基板除塵ローラー２１０における円周上の下方側頂点Ｐ２のｚ軸に沿った位置とする。）が基板保持ステージ１１０の上面１１０ａの位置ｚ３とほぼ同じ高さとなるように位置している。

【0103】

また、マスク除塵ローラー１２０と基板除塵ローラー２１０との位置関係は、基板保持ステージ１１０が初期位置にあるときのままｘ軸に沿って前方側に進行したとすると、図３（ａ）からもわかるように、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０に当接してしまうような位置関係となっている。

【0104】

基板保持ステージ１１０は、図３（ａ）に示すような初期位置から動作を開始する。まず、基板保持ステージ１１０は、一旦、所定量だけｚ軸に沿って下降する（図３（ｂ）参照。）。すなわち、基板保持ステージ１１０がｘ軸に沿って前方側に進行したときに、基板保持ステージ１１０は、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０に当接しない位置となるまで下降する（図３（ｂ）参照。）。

【0105】

図３（ｂ）の状態から、基板保持ステージ１１０はｘ軸に沿って前方側に進行して行く。そして、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０の下側を通過した所定の位置で基板保持ステージ１１０を上昇させる（図３（ｃ）参照。）。すなわち、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１における前方側の端部（先端部という。）付近の平面部（上面部）に接触するように、基板保持ステージ１１０をｘ軸に沿って進行させるとともに基板保持ステージ１１０をｚ軸に沿って上昇させる。

【0106】

基板保持ステージ１１０がこのような動作を行うための基板保持ステージ１１０に対する制御は、基板保持ステージ制御装置５００によって行う。基板保持ステージ１１０がこのような動作を行うことにより、基板Ｗの感光面Ｍ１が基板除塵ローラー２１０に接触した状態となる（図３（ｃ）参照。）。

【0107】

このように、基板Ｗの感光面Ｍ１が基板除塵ローラー２１０に当接した状態となることにより、その後、基板保持ステージ１１０が前方に進行した場合、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの先端部を後方側に押してしまうという動作が生じない。このため、基板Ｗの位置ずれを防止することができ、また、基板Ｗの先端部が破損してしまうことも防止できる。

【0108】

また、基板保持ステージ１１０が上昇する際の上昇量は、基板Ｗが基板除塵ローラー２１０をわずかに押し上げる程度とする。これにより、基板除塵ローラー２１０は、基板Ｗに自重で接触している状態となる。また、このとき、マスク除塵ローラー１２０は、図３（ｃ）に示すように、露光部３００に設けられているガイド部３４０におけるガイド板３４１の傾斜片３４１ｂに当接した状態となっている。

【0109】

そして、図３（ｃ）に示す状態から、基板保持テーブル１１０が前方に進行して行くと、基板除塵ローラー２１０は、基板Ｗの感光面Ｍ１上で回転する動作を行う。このときの動作は、基板除塵ローラー２１０が回転しながら基板Ｗの後方側へ移動して行く動作と同じであり、基板保持ステージ１１０がさらに進行すると、結果的に、基板除塵ローラー２１０は回転しながら基板Ｗのさらに後方側へ移動して行くような動作を行う。これにより、基板Ｗの感光面Ｍ１は、基板除塵ローラー２１０によって除塵される。
なお、基板除塵ローラー２１０は粘着力を有するものであるが、その粘着力は、基板Ｗの感光面Ｍ１に存在する塵埃をくっつけて取り去る程度であるため、基板Ｗの感光面Ｍ１に悪影響を及ぼすことはない。

【0110】

ところで、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１に接触した状態においては、当該基板除塵ローラー２１０は、第２方向の力（自重）で基板Ｗの感光面Ｍ１に接触し、かつ、所定量の上下動が自在となっているため、基板Ｗから与えられる第２方向の力に抗する力を吸収しながら基板保持ステージ１１０の進行に伴って基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵して行くことができる。このため、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１に接触する際の基板Ｗに対する押圧力などの制御は特に行う必要はない。

【0111】

一方、マスク除塵ローラー１２０は、基板保持ステージ１１０の進行とともに進行する。このため、ガイド板３４１の傾斜片３４１ｂに当接している状態から、ガイド板３４１の傾斜片３４１ｂによって押さえ付けられた状態で前方側に進行して行く。すなわち、マスク除塵ローラー１２０は、バネ１３４の伸張力によって上方向への力（第１方向の力）が与えられているため、ガイド板３４１の傾斜片３４１ｂを押圧した状態で回転しながら前方側に進行して行き、やがて、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に到達する。

【0112】

このように、マスク除塵ローラー１２０は、ガイド部３４０のガイドによってマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導かれるため、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０の後方側の端部に直接当接することなくマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導かれる。このため、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０を進行方向に押してしまうことがなくなり、マスク板３１０の位置ずれを防止することができるとともに、マスク板３１０の後方側の端部の破損を防止することができる。

【0113】

そして、マスク除塵ローラー１２０は、第１方向の力が働いた状態で図４（ａ）に示すように、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触した状態で回転しながら、さらに進行して行く。これにより、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に存在する塵埃を、マスク除塵ローラー１２０の側に付着させることができ、それによって、マスク板３１０のパターン面Ｍ２を除塵できる。

【0114】

なお、マスク除塵ローラー１２０は粘着力を有するものであるが、その粘着力は、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に存在する塵埃をくっつけて取り去る程度のものであるため、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に形成されているパターンなどに悪影響を及ぼすことはない。

【0115】

ところで、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触した状態においては、当該マスク除塵ローラー１２０は、第１方向の力（バネ１３４の伸張力）でマスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触しているため、マスク板３１０から与えられる第１方向の力に抗する力を吸収しながら基板保持ステージ１１０の進行に伴ってマスク板３１０のパターン面Ｍ２を除塵して行くことができる。このため、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触する際のマスク板３１０に対する押圧力などの制御は特に行う必要はない。

【0116】

マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０が図３（ｃ）及び図４（ａ）に示す動作を行うことにより、マスク板３１０のパターン面Ｍ２を除塵することができるとともに、基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵することができる。なお、マスク除塵ローラー１２０によるマスク板３１０のパターン面Ｍ２の除塵と、基板除塵ローラー２１０による基板Ｗの感光面Ｍ１の除塵とは、ほぼ同時に行われる。

【0117】

その後、基板保持ステージ１１０は予め設定した所定位置（露光位置）にまで達する（図４（ｂ）参照。）。このとき、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板３１０のパターン面Ｍ２との間には、所定の間隔が設けられた状態となっている。続いて、この状態から、基板保持ステージ１１０が上昇し、図４（ｃ）に示すように、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板３１０のパターン面Ｍ２との間隔が所望とする間隔となる。なお、実施形態１に係る露光装置１０Ａにおいては、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板３１０のパターン面Ｍ２とは密着させることなく、わずかな空隙（例えば、１／１００ｍｍ〜４／１００ｍｍ程度）が存在する程度の間隔を設けるようにしている。

【0118】

このように、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板のパターン面との間に、わずかな空隙（例えば、１／１００ｍｍ〜４／１００ｍｍ程度）を設けることにより、基板Ｗ側の除塵後においても、わずかな塵埃が残存していたとしても、残存している塵埃がマスク板３１０のパターン面Ｍ２に付着してしまうといったことを防止ができる。その逆の場合も同様である。

【0119】

そして、図４（ｃ）の状態で、光を照射し露光を行う。なお、露光を行う際においては、マスク板３１０のパターン面Ｍ２に対する基板Ｗの位置は適切に設定されているものとする。露光が終了したら、当該露光位置で基板保持ステージ１１０は、所定位置（例えば図４（ｂ）に示す位置）にまで下降して、ｘ軸沿って後方側に進行し、所定位置（例えば、マスク除塵ローラー１２０の回転軸がｘ軸に沿ったｘ１の位置）まで戻って、ｘ１の位置で上昇して、初期位置（図３（ａ）と同じ位置）となる。その後、基板保持ステージ１１０から露光の終了した基板Ｗが取り外され、当該基板保持ステージ１１０には、次に露光を行うべき基板Ｗが載せられて、図３（ａ）〜図３（ｃ）及び図４（ａ）〜図４（ｃ）の工程を行って、図３（ａ）に戻る動作を順次行う。

【0120】

なお、図３（ａ）〜図３（ｃ）及び図４（ａ）〜図４（ｃ）の工程を行って、図３（ａ）に戻る一連の動作は連続的に行われ、その一連の動作に要する時間は秒単位（例えば、数秒から１０数秒程度）の時間である。

【0121】

以上説明したように、実施形態１に係る露光装置１０Ａによれば、基板除塵ローラー２１０により基板Ｗの感光面Ｍ１の除塵を行うことができるとともに、マスク除塵ローラー１２０によりマスク板３１０のパターン面Ｍ２の除塵を行うことができる。しかも、基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵する動作及びマスク板３１０のパターン面Ｍ２を除塵する動作は、基板保持ステージ１１０が露光部３００に向かって進行する過程でほぼ同時に自動的に行われる。このため、初期位置にある基板保持ステージ１１０が露光部３００に向かって進行して露光を行った後、初期位置に戻るといった元々行われている露光動作に殆ど影響を及ぼすことはなく、元々の露光動作速度をほぼ維持することができる。

【0122】

また、実施形態１に係る露光装置１０Ａにおいては、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０は、一方向の付勢力によってマスク板３１０のパターン面Ｍ２及び基板Ｗの感光面Ｍ１に接触するような構造となっている。すなわち、マスク除塵ローラー１２０はバネ１３４の伸張力によってマスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触するような構造となっており、基板除塵ローラー２１０は自重によって基板Ｗの表面に接触する構造となっている。

【0123】

このため、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０を昇降させるための駆動機構は不要となる。また、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０を昇降させる際のタイミング制御や押圧力の制御などを行う必要がないため、このような制御を行うための制御装置も不要となる。それにより、実施形態１に係る露光装置１０Ａによれば、マスク３１０のパターン面Ｍ２及び基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵するための機構全体を簡単化することができる。

【0124】

また、このような構造であるため、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０の高さ方向（ｚ軸に沿った方向）の位置は、高精度に調整する必要がなく、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０の調整作業を軽減することができる。

【0125】

また、実施形態１に係る露光装置１０Ａによれば、基板保持ステージ１１０は、基板Ｗを保持したままの状態で進行して行くため、基板保持ステージ１１０が進行して行く過程で、基板Ｗの保持を解除したり、基板Ｗを保持したりといった動作を行う必要なく、基板Ｗを露光ステージ３２０まで搬送させることができる。これにより、実施形態１に係る露光装置１０Ａによれば、基板Ｗを露光ステージ３２０に搬送するまでに要する時間を短くすることができ、大量の基板を高速に露光することができる。

【0126】

また、実施形態１に係る露光装置１０Ａによれば、マスク除塵ローラー１２０をマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導くガイド部３４０が設けられている。このため、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０の後方側の端部に直接当接しないようにマスク除塵ローラー１２０をマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導くことができる。このため、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０を前方側に押してしまうことがなく、マスク板３１０の位置ずれを防止できるとともに、マスク板３１０の後方側の端部の破損を防止することができる。

【0127】

また、実施形態１に係る露光装置１０Ａにおいては、露光部３００において基板Ｗの感光面Ｍ１を露光させる際に、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板３１０のパターン面Ｍ２との間隔にわずかな空隙を設けた状態で露光させるようにしている。このため、例えば、基板Ｗの感光面Ｍ１に除去されなかった塵埃が残存していたとしても、当該塵埃がマスク板３１０のパターン面Ｍ２に付着してしまうといった不具合を防止することができる。

【0128】

［実施形態２］
図５は、実施形態２に係る露光装置１０Ｂを説明するために示す図である。実施形態２に係る露光装置１０Ｂが実施形態１に係る露光装置１０Ａと異なるのは、図５に示すように、基板除塵ローラー２１０に付着した塵埃を除去する補助基板除塵部２４０（補助基板除塵ローラー２４０という。）を設けた点である。このため、図５においては、実施形態１に係る露光装置１０Ａと同一構成要素には同一符号を付し、同一構成要素の説明は省略する。

【0129】

補助基板除塵ローラー２４０は、基板除塵ローラー２１０に付着した塵埃を除去するためのものであるため、基板除塵ローラー２１０よりも粘着力の大きい部材で形成されていることが好ましい。補助基板除塵ローラー２４０は、例えば、粘着テープをロール状に巻いたものを好ましく用いることができる。

【0130】

このような補助基板除塵ローラー２４０は、基板除塵ローラー２１０に常時接触した状態となるように基板除塵部支持プレート２２０に回転自在に支持されている。具体的には、基板除塵部支持プレート２２０に長孔２２２を形成し、当該長孔２２２によって補助基板除塵ローラー２４０を回転自在に支持する。

【0131】

なお、補助基板除塵ローラー２４０も、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０と同様に、動力によって回転するものではなく、空回りするように基板除塵部支持プレート２２０に支持されている。このため、補助基板除塵ローラー２４０は、基板除塵ローラー２１０が回転することによって回転する。それによって、基板除塵ローラー２１０に付着している塵埃を補助基板除塵ローラー２４０側に付着させることができ、基板除塵ローラー２１０に付着している塵埃をある程度除去することができる。

【0132】

すなわち、図４（ａ）に示したように、基板除塵ローラー２１０が回転しながら基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵している動作を行うと、補助基板除塵ローラー２４０が基板除塵ローラー２１０に接触しながら基板除塵ローラー２１０の回転に伴って回転するため、基板除塵ローラー２１０に付着している塵埃を補助基板除塵ローラー２４０に付着させることができる。

【0133】

実施形態２に係る露光装置１０Ｂは、このような補助基板除塵ローラー２４０を有しているため、実施形態１に係る露光装置１０Ａにおいて得られる効果に加えて、基板除塵ローラー２１０に付着した塵埃をある程度は補助基板除塵ローラー２４０側に付着させることができる。これにより、基板除塵ローラー２１０を長時間使用することができ、基板除塵ローラー２１０のメンテナンスを容易なものとすることができる。

【0134】

なお、補助基板除塵ローラー２４０が粘着テープをロール状に巻いたものであることにより、補助基板除塵ローラー２４０に所定量の塵埃が付着したら、粘着テープを所定の長さ（例えば、一周分）だけ切り取る。これにより、補助基板除塵ローラー２４０は、再び、基板除塵ローラー２１０に付着した塵埃を補助基板除塵ローラー２４０側に付着させることができる。

【0135】

［実施形態３］
上記各実施形態においては、ガイド部３４０のガイドによってマスク除塵ローラー１２０をマスク板３１０のパターン面Ｍ２に導くようにすることによって、マスク板３１０の位置ずれやマスク板３０の後方側の端部の破損を防止するようにしたが、実施形態３に係る露光装置１０Ｃにおいては、ガイド部３４０を設けることなく、マスク板３１０の位置ずれやマスク板３４０の後方側の端部の破損を防止する。以下、実施形態３に係る露光装置１０Ｃを説明する。

【0136】

図６は、実施形態３に係る露光装置１０Ｃを説明するために示す図である。実施形態３に係る露光装置１０Ｃは基本的には実施形態１に係る露光装置１０Ａと同様の構成となっている。このため、実施形態３に係る露光装置１０Ｃにおいて実施形態１に係る露光装置１０Ａと同一構成要素には同一符号が付されている。

【0137】

実施形態３に係る露光装置１０Ｃは、図６に示すように、露光部３００にガイド部３４０が設けられていない。すなわち、実施形態３に係る露光装置１０Ｃにおいては、ガイド部３４０を設けることなく、マスク板３１０の位置ずれやマスク板３４０の後方側の端部の破損を防止する。

【0138】

図７は、実施形態３に係る露光装置１０Ｃの動作を説明するために示す図である。なお、実施形態３に係る露光装置１０Ｃにおいて、実施形態１に係る露光装置１０Ａと異なる点は、実施形態１に係る露光装置１０Ａにおける図３（ｂ）に示す状態から図３（ｃ）に示す状態となるときの基板保持ステージ１１０の動作である。このため、図７においては、図３（ｂ）に示す状態から図３（ｃ）に示す状態となるときの基板保持ステージ１１０の動作について説明する。なお、図７（ａ）は図３（ｂ）に対応し、図７（ｂ）は図３（ｃ）に対応している。

【0139】

図７（ａ）に示す状態、すなわち、マスク板３１０のパターン面Ｍ２とマスク除塵ローラー１２０とが離間しているとともに及び基板Ｗの感光面Ｍ１と基板除塵ローラー２１０とが離間している状態から、基板保持ステージ１１０は、ｘ軸に沿って前方側に進行して行き、マスク除塵ローラー１２０が基板除塵ローラー２１０の下側を通過した所定の位置で上昇する（図７（ｂ）参照。）。

【0140】

このときの基板保持ステージ制御装置５００の制御は、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面Ｍ２における後方側の端部付近の平面部（下面部）に接触し、かつ、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１における前方側の端部付近の平面部（上面部）に接触するように、基板保持ステージ１１０をｘ軸に沿って所定量だけ進行させるとともにｚ軸に沿って所定量だけ上昇させるように基板保持ステージ駆動機構部１４０を制御する。

【0141】

基板保持ステージ制御装置５００がこのような制御を行うことによって、マスク板３１０のパターン面Ｍ２とマスク除塵ローラー１２０とが離間している状態からマスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面に直接、接触する状態となるとともに、基板Ｗの感光面Ｍ１と基板除塵ローラー２１０とが離間している状態から基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１に直接、接触する状態となる。

【0142】

このように、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面に直接、接触する状態となるとともに、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１に直接、接触する状態となることによって、その後、基板保持ステージ１１０がさらに前方に進行した場合、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０を前方側に押してしまうという動作が生じない。また、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの先端部を後方側に押してしまうという動作が生じない。このため、マスク板３１０及び基板Ｗの位置ずれを防止することができ、また、マスク板３１０の後方側の端部及び基板Ｗの前方側の端部が破損してしまうことも防止できる。

【0143】

なお、図７（ｂ）に示すように、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面に接触する状態となったときに、基板Ｗの感光面Ｍ１が基板除塵ローラー２１０に接触する状態となるようにするためには、基板除塵ローラー２１０と基板保持ステージ１１０との位置関係を適宜設定しておけばよい。すなわち、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面に接触する状態となったときに、基板Ｗの感光面Ｍ１が基板除塵ローラー２１０に当接するように、基板除塵ローラー２１０と基板保持ステージ１１０との位置関係を適宜設定しておけばよい。

【0144】

なお、実施形態３においては、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面に直接、接触する状態となるとともに、基板除塵ローラー２１０が基板Ｗの感光面Ｍ１に直接、接触する状態となるようにしたが、マスク除塵ローラー１２０がマスク板３１０のパターン面に直接、接触する状態となるようにしてもよい。また、実施形態３においては、実施形態１に係る露光装置１０Ａの場合について説明したが、実施形態２に係る露光装置１０Ｂにおいても適用することができる。

【0145】

なお、本発明は上記した実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能となるものである。たとえば、下記に示すような変形実施も可能である。

【0146】

（１）上記各実施形態においては、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０は、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０全体が粘着力を有する部材でなるものとして説明したが、これに限られるものではなく、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０の表面のみが粘着力を有するようなものであってもよい。例えば、合成樹脂などから円筒体の表面に粘着力を有する部材を巻き付けたものであってもよく、また、円筒体の表面に粘着層が形成されているものであってもよい。

【0147】

（２）上記各実施形態では、基板保持ステージ１１０の初期位置としては、図３（ａ）に示す位置を基板保持ステージの初期位置としたが、これに限られるものではなく、基板保持ステージ１１０の初期位置は、露光装置全体の構造や動作によって種々設定可能であり、特に限定されるものではない。例えば、図３（ｂ）に示す位置を基板保持ステージ１１０の初期位置とすることもできる。

【0148】

（３）上記各実施形態においては、基板Ｗの感光面Ｍ１が上向きに配置され、マスク板３１０のパターン面Ｍ２が下向きに配置されている露光装置を例示したが、これに限られるものではなく、その逆の配置であってもよい。すなわち、基板Ｗの感光面Ｍ１が下向きに配置され、マスク板３１０のパターン面Ｍ２が上向きに配置されている露光装置であってもよい、この場合、マスク除塵ローラー１２０は、自重でマスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触させるような構造とし、基板除塵ローラー２１０は、バネの付勢力によって基板Ｗの感光面Ｍ１に接触させるような構造とすればよい。

【0149】

（４）上記各実施形態においては、露光部３００において基板Ｗの感光面Ｍ１を露光させる際に、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板３１０のパターン面Ｍ２との間にわずかな空隙を設けた状態で露光させるようにした場合を例示したが、必ずしも、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板３１０のパターン面Ｍ２との間にわずかな空隙を設ける必要はなく、基板Ｗの感光面Ｍ１とマスク板３１０のパターン面Ｍ２とを密着させた状態で露光させるようにしてもよい。

【0150】

（５）上記実施形態２においては、基板除塵ローラー２１０の側に補助除塵ローラー２４０を設けるようにしたが、スペースに余裕があれば、マスク除塵ローラー１２０の側に補助除塵ローラー２４０を設けるようにしてもよく、また、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０の両方にそれぞれ補助除塵ローラー２４０を設けるようにしてもよい。

【0151】

（６）上記各実施形態においては、マスク除塵部及び基板除塵部としては、それぞれ粘着力を有する部材でなるローラー（マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０）を用いて、マスク板３１０のパターン面Ｍ２及び基板Ｗの感光面Ｍ１に存在する塵埃を、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０の粘着力により除塵する場合を例示したが、これに限られるものではない。例えば、マスク除塵部及び基板除塵部は、真空吸引によって除塵するものであってもよい。このように、マスク除塵部及び基板除塵部は、真空吸引によって除塵するものとした場合の露光装置を本発明の露光装置の変形例として説明する。

【0152】

本発明の露光装置の変形例は、基板の感光面とマスク板のパターン面とを対面させて前記基板の感光面を露光する露光装置であって、前記基板を保持した状態で、ｘ軸及びｙ軸によって形成されるｘｙ平面をｘ軸に沿って往復動可能で、かつ、ｘｙ平面に直交するｚ軸に沿って昇降可能な基板保持ステージと、前記マスク板を当該マスク板の厚み方向に突出させた状態で保持する露光ステージと、前記基板保持ステージがｘ軸に沿って前記マスク板に向かう側を前方側、当該前方側とは反対側を後方側とし、前記マスク板のパターン面を押圧する方向を第１方向、前記基板の感光面を押圧する方向を第２方向としたとき、前記基板保持ステージの前方側の端部から前方側に突出した突出部に取り付けられており、前記基板保持ステージとともに前方側に進行することによって、前記マスク板のパターン面との間に所定の空隙を有した状態で吸引しながら前記マスク板のパターン面を除塵して行くマスク除塵部と、前記基板保持ステージが初期位置にあるときの当該基板保持ステージよりも前方側で、かつ、前記露光ステージよりも後方側の所定位置に配置されている基板除塵部支持プレートに取り付けられており、前記基板保持ステージが前記初期位置から前方側に進行することによって、前記基板の感光面との間に所定の空隙を有した状態で吸引しながら前記基板の感光面を除塵して行く基板除塵部と、前記基板保持ステージをｘ軸に沿って往復動行可能とするとともにｚ軸に沿って昇降可能とするための基板保持ステージ駆動機構部と、前記基板保持ステージ駆動部を制御することによって前記基板保持ステージの往復動及び昇降を制御する基板保持ステージ制御装置と、を備える。

【0153】

なお、マスク除塵部及び基板除塵部が真空吸引によって除塵するものであっても、露光装置の全体的な構成は、上記した各実施形態において説明した露光装置１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃと同様の構成とすることができる。なお、真空吸引によって除塵するマスク除塵部及び基板除塵部を、下記の説明においては、吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部とする。

【0154】

このような吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部を、例えば、図１に示す露光装置に適用した場合において簡単に説明する。
吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部は、マスク板３１０及び基板Ｗの幅方向（図１において軸に沿った方向）に細長い吸引口を有している。これら吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部は、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０と同じ位置に取り付けられる。このとき、吸引式マスク除塵部の吸引孔はマスク板３１０のパターン面Ｍ２に対向可能となるように上向きとし、吸引式基板除塵部の吸引口は基板Ｗの感光面Ｍ１に対向可能となるように下向きとする。

【0155】

そして、除塵を行う際においては、図３及び図４とほぼ同様の動作を行えばよい。但し、吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部は、マスク３１のパターン面Ｍ２及び基板Ｗの感光面Ｍ１に対してそれぞれ非接触の状態で除塵するため、吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部のそれぞれの吸引口がマスク３１のパターン面Ｍ２及び基板Ｗの感光面Ｍ１に対して、所定の空隙を有するように、基板保持ステージ１１０を制御する。

【0156】

なお、吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部は、マスク３１のパターン面Ｍ２及び基板Ｗの感光面Ｍ１に対してそれぞれ非接触の状態で除塵するものであるため、マスク除塵ローラー１２０及び基板除塵ローラー２１０のように、バネ１３４による伸張力でマスク板３１０のパターン面Ｍ２に接触させたり、自重で基板Ｗの感光面Ｍ１に接触させたりする構造は不要である。

【0157】

このような吸引式マスク除塵部及び吸引式基板除塵部を用いることによっても、上記各実施形態と同様に、基板Ｗを保持した基板保持ステージ１１０が、露光部３００にまで進行して行く過程でマスク板３１０のパターン面Ｍ２及び基板Ｗの感光面Ｍ１を除塵することができる。

【符号の説明】

【0158】

１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ・・・露光装置、１００・・・基板供給・回収部、１１０・・・基板保持ステージ、１２０・・・マスク除塵ローラー（マスク除塵部）、１３１・・・突出部、１３２・・・マスク除塵部支持プレート、１３４・・・バネ、１４０・・・基板保持ステージ駆動機構部、２００・・・基板除塵機構部、２１０・・・基板除塵ローラー（基板除塵部）、２２０・・・基板除塵部支持プレート、２２１・・・長孔、２４０・・・補助基板除塵ローラー（補助基板除塵部）、３００・・・露光部、３１０・・・マスク板、３２０・・・露光ステージ、３３０・・・Ｌ字金具、３４０・・・ガイド部、３４１・・・ガイド板、３４１ａ・・・ガイド板の水平片、３４１ｂ・・・ガイド板の傾斜片、３４２・・・ガイド板取り付け部、４００・・・露光装置筐体、５００・・・基板保持ステージ制御装置、Ｍ１・・・感光面、Ｍ２・・・パターン面、Ｗ・・・基板

【要約】

本発明の露光装置は、基板Ｗを保持して往復動及び昇降が可能な基板保持ステージ１１０と、マスクパターンＭ２が基板Ｗの感光面Ｍ１に対面するようにマスク板３１０を保持する露光ステージ３２０と、基板保持ステージ１１０とともに進行し、マスク板３１０のパターン面Ｍ２を押圧する方向の力（第１方向の力）によってパターン面Ｍ２の表面に接触して回転しながら除塵して行くマスク除塵部１２０と、基板保持ステージ１１０の進行により、基板Ｗの感光面Ｍ１を押圧する方向の力（第２方向の力）によって基板Ｗの感光面Ｍ１に接触して回転しながら除塵して行く基板除塵部２１０とを備える。
本発明の露光装置によれば、 基板の感光面及びマスクの表面を除塵するための機構全体を簡単化することができるとともに、大量の基板を高速に露光可能とする。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】