特許 5666208 漏液検出装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5666208

(24)【登録日】2014年12月19日

(45)【発行日】2015年2月12日

(54)【発明の名称】漏液検出装置

(51)【国際特許分類】

   G01M 3/38 20060101AFI20150122BHJP

【ＦＩ】

   G01M3/38 L

【請求項の数】8

【全頁数】18

(21)【出願番号】特願2010-195148(P2010-195148)

(22)【出願日】2010年8月31日

(65)【公開番号】特開2011-95249(P2011-95249A)

(43)【公開日】2011年5月12日

【審査請求日】2013年7月3日

(31)【優先権主張番号】特願2009-229082(P2009-229082)

(32)【優先日】2009年9月30日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000106221

【氏名又は名称】パナソニック デバイスＳＵＮＸ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100068755

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 博宣

(74)【代理人】

【識別番号】100105957

【弁理士】

【氏名又は名称】恩田 誠

(72)【発明者】

【氏名】川島 良英

(72)【発明者】

【氏名】古川 裕明

(72)【発明者】

【氏名】木村 圭介

【審査官】 田中 秀直

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００６−２３４３８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６１−１３７０３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０５−２８２５７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１３３８６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−２９４１６４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−１５６５４１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−１８０２９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−０５３５６０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０１Ｍ ３／００−３／４０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

漏液を導入する導入部と、
前記導入部に向けて光を照射する投光手段と、
前記投光手段から光を前記導入部を介して受光する受光手段と、
前記受光手段の受光量に基づいて前記漏液を検出する検出手段とを備えた漏液検知部を有し、
前記漏液検知部の前記漏液検出結果に基づいて外部へ検出信号を出力する漏液検出装置であって、
前記漏液検出装置は、床面に対して隙間を設けて設置され、
前記漏液検知部は、
前記漏液検出装置の下面の異なる位置に設けられた第１漏液検知部と第２漏液検知部とを有し、
前記漏液検出装置の下面の中心部と周縁部とを結ぶ線上において前記周縁部よりに前記第１漏液検知部が、前記中心部よりに前記第２漏液検知部がそれぞれ配置され、
前記第２漏液検知部は、前記漏液検出装置の下面の周縁部から離れた位置に凹設された凹部に設けられ、
出力制御手段は、
前記第２漏液検知部が前記漏液を検知すると前記検出信号を出力し、
前記第１漏液検知部が前記漏液を検知すると、所定時間後に前記検出信号を出力することを特徴とする漏液検出装置。

【請求項2】

請求項１に記載の漏液検出装置において、
外部から同期信号を入力する入力手段を有し、
前記出力制御手段は、
前記第１漏液検知部が前記漏液を検知すると、前記入力手段に入力される前記同期信号に同期して前記検出信号を出力することを特徴とする漏液検出装置。

【請求項3】

請求項１又は２に記載の漏液検出装置において、
前記第２漏液検知部の前記導入部は、前記凹部から前記床面に向かって突出形成されてなり、
前記第１漏液検知部は、前記漏液検出装置の下面の周縁部に設けられ、
前記第１漏液検知部の前記導入部は、前記下面から上方に向かって凹設形成されてなることを特徴とする漏液検出装置。

【請求項4】

請求項３に記載の漏液検出装置において、
前記凹部には空気孔が連通されてなることを特徴とする漏液検出装置。

【請求項5】

請求項１〜３のいずれか１項に記載の漏液検出装置において、
前記第１漏液検知部の前記導入部の周囲の一部には、前記漏液検出装置の下面から前記床面に向かって突出する案内段部が設けられたことを特徴とする漏液検出装置。

【請求項6】

請求項５に記載の漏液検出装置において、
前記案内段部は、前記漏液検出装置の下面に向かうにつれて幅広となる形状をなすことを特徴とする漏液検出装置。

【請求項7】

請求項５又は６に記載の漏液検出装置において、
前記案内段部は、前記第１漏液検知部の前記導入部を挟むように一対設けられたことを特徴とする漏液検出装置。

【請求項8】

請求項１〜７のいずれか１項に記載の漏液検出装置において、
前記漏液検出装置の下面には、前記凹部に向かって突出するガイド部が前記凹部における前記第１漏液検知部から最も離れた位置に設けられたことを特徴とする漏液検出装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、漏液検出装置に関するものである。

【背景技術】

【0002】

従来、工場では、生産ラインの製造装置や、その製造装置に液体を供給する配管から漏液する場合がある。この製造装置や配管からの漏液は、工場施設の破損や製品不良に繋がってしまう虞がある。特に、半導体製造ラインや食品の加工ラインでは、製造装置や配管からの漏液は工場施設の破損や製品不良に繋がる可能性が高い。そこで、従来、工場の製造装置や配管には、製造装置や配管からの漏液を検出する漏液検出装置が備えられている（例えば、特許文献１参照）。

【0003】

この種の漏液検出装置は、工場施設の破損や製品不良を防ぐため、製造装置からの少量の漏液を検出すると、直ちに製造装置を停止させていた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００４−５３５６０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記のような漏液検出装置では、製造装置からの少量の漏液を検出するだけで、直ちに製造装置を停止させてしまう。しかしながら、製造装置からの漏液が少量の場合、製造装置を即停止させなくても工場施設の破損や製品不良に繋がらない場合がある。この場合、本来、製造装置を停止させる必要がないにも関わらず、製造装置を停止させるため、製品の製造時間が短くなって製造装置の生産性を低下させてしまう。また、漏液検出装置に監視される製造装置は、各製造工程の途中に停止される場合、その各製造工程の途中だった製品をやり直し又は廃棄する必要があるため、製造装置の生産性を低下させてしまう。

【0006】

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、好適なタイミングで検出信号を出力することが可能な漏液検出装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明では、漏液を導入する導入部と、前記導入部に向けて光を照射する投光手段と、前記投光手段から光を前記導入部を介して受光する受光手段と、前記受光手段の受光量に基づいて前記漏液を検出する検出手段とを備えた漏液検知部を有し、前記漏液検知部の前記漏液検出結果に基づいて外部へ検出信号を出力する漏液検出装置であって、前記漏液検出装置は、床面に対して隙間を設けて設置され、前記漏液検知部は、前記漏液検出装置の下面の異なる位置に設けられた第１漏液検知部と第２漏液検知部とを有し、前記漏液検出装置の下面の中心部と周縁部とを結ぶ線上において前記周縁部よりに前記第１漏液検知部が、前記中心部よりに前記第２漏液検知部がそれぞれ配置され、前記第２漏液検知部は、前記漏液検出装置の下面の周縁部から離れた位置に凹設された凹部に設けられ、前記出力制御手段は、前記第２漏液検知部が前記漏液を検知すると前記検出信号を出力し、前記第１漏液検知部が前記漏液を検知すると、所定時間後に前記検出信号を出力することをその要旨とする。

【0008】

同構成によれば、漏液検出装置は、第１漏液検知部が漏液を検出することで漏液の流出量が少量であることを検知することができる。そして、漏液検出装置は、第１漏液検知部が漏液を検知すると、所定時間経過後に外部へ検出信号を出力して外部の装置を停止させることができる。また、漏液検出装置は、第２漏液検知部が漏液を検出することで漏液の流出量が大量であることを検知することができる。そして、漏液検出装置は、第２漏液検知部が漏液を検知すると、直ちに外部へ検知信号を出力して外部の装置を停止させることができる。従って、外部の装置が製造装置の場合、漏液検出装置は、漏液の流出量が少量の場合、製造装置を停止するタイミングを遅らすことができ、製造装置の生産性の低下を低減することができる。

【0009】

請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の漏液検出装置において、外部から同期信号を入力する入力手段を有し、前記出力制御手段は、前記第１漏液検知部が前記漏液を検知すると、前記入力手段に入力される前記同期信号に同期して前記検出信号を出力することをその要旨とする。

【0010】

同構成によれば、漏液検出装置は、同期信号に基づいて、外部へ検出信号を送信することができる。従って、漏液検出装置は、漏液が少量の場合、外部の装置の動作に同期して停止させることができる。例えば、外部の装置が製造装置の場合、製造装置の作業の区切りまで製品の製造を継続することができ、製造装置の生産性の低下をさらに低減することができる。

【0011】

請求項３に記載の発明では、請求項１又は２に記載の漏液検出装置において、前記第２漏液検知部の前記導入部は、前記凹部から前記床面に向かって突出形成されてなり、前記第１漏液検知部は、前記漏液検出装置の下面の周縁部に設けられ、前記第１漏液検知部の前記導入部は、前記下面から上方に向かって凹設形成されてなることをその要旨とする。

【0012】

同構成によれば、漏液検出装置は、その下面と床面の隙間に流入した漏液が、下面の周縁部と床面の隙間に流入した後に、凹部と床面の隙間に流入する構成にすることができる。従って、漏液検出装置は、下面の周縁部に第１漏液検知部を少なくとも１箇所設けるだけで、全方位からの少量の漏液を検出することができる。さらに、漏液検出装置は、凹部に第２漏液検知部を設けるだけで全方位からの大量の漏液を検出することができる。

【0013】

請求項４に記載の発明では、請求項３に記載の漏液検出装置において、前記凹部には空気孔が連通されてなることをその要旨とする。
同構成によれば、漏液検出装置は、周縁部と床面に漏液が流入して凹部に溜まった空気を空気孔を介して外部に排出することができ、凹部に漏液を流入することができる。

【0014】

請求項５に記載の発明では、請求項１〜３のいずれか１項に記載の漏液検出装置において、前記第１漏液検知部の前記導入部の周囲の一部には、前記漏液検出装置の下面から前記床面に向かって突出する案内段部が設けられたことをその要旨とする。

【0015】

同構成によれば、案内段部は、床面との隙間が漏液検出装置の下面と床面との隙間よりも狭いため、案内段部と床面との隙間に漏液が引き寄せられる。そのため、案内段部と隣り合う第１漏液検知部の導入部に漏液を引き込み易くすることができ、その結果、漏液を安定して検出することが可能となる。

【0016】

請求項６に記載の発明では、請求項５に記載の漏液検出装置において、前記案内段部は、前記漏液検出装置の下面に向かうにつれて幅広となる形状をなすことをその要旨とする。

【0017】

同構成によれば、案内段部が漏液検出装置の下面に向かうにつれて幅広となる形状（末広がり状）をなすため、漏液をより引き込み易くすることができ、その結果、漏液をより安定して検出することが可能となる。

【0018】

請求項７に記載の発明では、請求項５又は６に記載の漏液検出装置において、前記案内段部は、前記第１漏液検知部の前記導入部を挟むように一対設けられたことをその要旨とする。

【0019】

同構成によれば、案内段部が第１漏液検知部の導入部を挟むように一対設けられるため、導入部に漏液を引き込み易くすることができ、その結果、漏液をより安定して検出することが可能となる。

【0020】

請求項８に記載の発明では、請求項１〜７のいずれか１項に記載の漏液検出装置において、前記漏液検出装置の下面には、前記凹部に向かって突出するガイド部が前記凹部における前記第１漏液検知部から最も離れた位置に設けられたことをその要旨とする。

【0021】

同構成によれば、床面と漏液検出装置の下面との間に浸入した漏液は、第１漏液検知部から最も離れた位置に設けられたガイド部から凹部に浸入しやすくなる。このため、第１漏液検知部での漏液検知から第２漏液検知部での漏液検知までのタイムラグを生じさせやすくすることが可能となる。

【発明の効果】

【0028】

従って、上記記載の発明によれば、製造装置の生産性の低下を低減することができる漏液検出装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0029】

【図1】漏液検出装置の概略構成図である。

【図2】漏液検出装置の側面図である。

【図3】第１実施形態の漏液検出装置の底面図である。

【図4】漏液検出装置の正面図である。

【図5】第１実施形態のセンサ本体の概略構成図である。

【図6】第１検出部における漏液検出の原理図である。

【図7】第１検出部における漏液検出の原理図である。

【図8】第２検出部における漏液検出の原理図である。

【図9】第２検出部における漏液検出の原理図である。

【図10】第２実施形態の漏液検出装置の底面図である。

【図11】第２実施形態のセンサ本体の概略構成図である。

【図12】第３実施形態の基台の底面図である。

【図13】（ａ）は、第３実施形態の基台の側面図であり、（ｂ）は、第３実施形態の基台のＡ−Ａ断面図である。

【図14】第３実施形態の漏液検出装置の正面図である。

【発明を実施するための形態】

【0030】

（第１実施形態）
以下、第１実施形態を図１〜図９に従って説明する。
図１に示すように、漏液検出装置１０は、工場内の製造装置１１を設置した床面１２にボルトＢにて取り付けられ、製造装置１１からの漏液Ｗを検出している。そして、漏液検出装置１０は、製造装置１１からの漏液Ｗを検出すると、ケーブル１３を介して停止信号Ｓｔを製造装置１１に送信して製造装置１１を停止させるようになっている。

【0031】

図２は漏液検出装置１０の側面図、図３は漏液検出装置１０の底面図、図４は漏液検出装置１０の正面図を示している。図２に示すように、漏液検出装置１０は、漏液Ｗを検出するセンサ本体１５と、センサ本体１５を床面１２に固定する基台部１６を有している。

【0032】

基台部１６は、床面１２に設置固定される固定台２１と、固定台２１の側面から延出形成され、センサ本体１５を支持する基台２０とを有している。
図３に示すように、固定台２１は、略テーパー形状であって、その先細った基端部（図３において右側）中央位置に垂直方向（図２において上下方向）にボルト挿通孔２１ａが貫通形成されている。固定台２１は、貫通形成されたボルト挿通孔２１ａにボルトＢが挿通され、その下面２１ｂが床面１２と接した状態でボルトＢにて床面１２と連結固定されている。

【0033】

図２に示すように、固定台２１は、基台２０の下面２０ａと床面１２の間に隙間Ｄ１ができるように、その先端部（図２において左側）の側面から基台２０を延出形成している。基台２０の下面２０ａと床面１２の隙間Ｄ１は、製造装置１１が漏液した場合、漏液Ｗが隙間Ｄ１に流入すると毛細管現象が生じる間隔になっている。

【0034】

図３に示すように、固定台２１の側面から延出形成された基台２０は円柱形状であって、その下面２０ａが透光性樹脂により形成されている。基台２０は、その下面２０ａの中央位置に、円形状の凹部２０ｂ（以下、円形凹部という）が凹設されている。

【0035】

このような形状により、製造装置１１が漏液した場合、基台２０の下面２０ａと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入すると、最初に、凹部２５以外の環状になっている基台２０の下面（以下、環状下面という）２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入し、次に、円形凹部２０ｂと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入するようになっている。

【0036】

詳しくは、基台２０の環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に流入した漏液Ｗは、まず、毛細管現象の推進力及び新たに漏液Ｗが供給されることによって流入方向への圧力が生じ、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に広がっていく。つまり、環状下面２０ｃを離れて円形凹部２０ｂと床面１２の隙間に漏液Ｗが流入するために必要な圧力が、漏液Ｗに環状下面２０ｃとの表面張力が働くことで、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが広がるために必要な圧力より大きくなっている。

【0037】

従って、最初に、基台２０の環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に流入した漏液Ｗは、円形凹部２０ｂと床面１２の隙間に流入せずに、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に広がるようになっている。

【0038】

次に、漏液Ｗが環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１全てに広がり、漏液Ｗがさらに供給されて流入方向への圧力が、漏液Ｗの環状下面２０ｃとの表面張力より大きくなると、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入するようになっている。

【0039】

すなわち、製造装置１１から少量の漏液Ｗがある場合、漏液検出装置１０は、その漏液Ｗが環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１まで流入する。一方、製造装置１１から大量の漏液Ｗがある場合、漏液検出装置１０は、その漏液Ｗが環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に流入し、さらに、円形凹部２０ｂ内まで流入するようになっている。

【0040】

そして、この基台２０において、環状下面２０ｃに流入する漏液Ｗを検出する部分に第１検出部２５を設けているとともに、円形凹部２０ｂに流入する漏液Ｗを検出する部分に第２検出部２６を設けている。つまり、第２検出部２６は、第１検出部２５よりも環状下面２０ｃの周縁部から離れた位置に設けられている。

【0041】

第１検出部２５は、環状下面２０ｃの反固定台２１側（図３において左側）に設けられている。第１検出部２５は、環状下面２０ｃに径方向に沿って凹設した凹部２８が設けられている。凹部２８は、その内底面を天井面２８ａとし、その天井面２８ａにおける環状下面２０ｃの周方向の両側部から側方に向かってお互いに離れる方向に傾斜する傾斜面を第１出射面２８ｂ，第１入射面２８ｃとしている。

【0042】

第１検出部２５は、その凹部２８を挟んで環状下面２０ｃに、一対の第１支持台２９が突出形成されている。図２に示すように、第１支持台２９は、床面１２と当接する当接面２９ａを有し、環状下面２０ｃが床面１２と当接するように延出形成されている。また、第１支持台２９は、その当接面２９ａから環状下面２０ｃの円形凹部２０ｂ側（図２において右側）に向かって離れる方向に傾斜する傾斜面２９ｂを有している。

【0043】

円形凹部２０ｂに設けた第２検出部２６は、図３に示すように、円形凹部２０ｂの中央位置に空気孔２６ａが貫通形成され、その空気孔２６ａを挟んで対向する一対の第２支持台３０が突出形成されている。一対の第２支持台３０の互いに相対向する側面、即ち、空気孔２６ａ側の側面が内部方向に傾斜されて第２出射面２６ｂ，第２入射面２６ｃがそれぞれ形成されている。

【0044】

これにより、基台２０は、基台部１６が床面１２に設置された状態において、第１及び第２支持台２９，３０が床面１２に当接して支持することで基台２０の上下方向（図２において上下方向）のぐらつきを防止している。

【0045】

図２に示すように、基台２０は、その外周面に空気孔３４を設けている。空気孔３４は四角形状であって、基台２０の外周面を貫通させることによって形成されている。そして、基台２０の内部には、円形凹部２０ｂの空気孔２６ａと空気孔３４を連通する空気通路３５が形成されている。

【0046】

つまり、製造装置１１が漏液した場合、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１全てに漏液Ｗが流入すると円形凹部２０ｂに空気が溜まってしまう。そこで、漏液検出装置１０は、その空気を円形凹部２０ｂの空気孔２６ａから空気通路３５を介して外周面の空気孔３４から外部に排出している。

【0047】

センサ本体１５は円柱形状であって、基台２０に連結されることで床面１２に固定されている。図５は、センサ本体１５の概略構成図である。図５に示すように、センサ本体１５は、その内部に第１漏液検知部としての第１投光手段４０ａ、第１受光手段４１ａ、第１検出手段４２ａと、第２及び第３漏液検知部としての第２投光手段４０ｂ、第２受光手段４１ｂ、第２検出手段４２ｂを内蔵するとともに、出力制御手段４３を内蔵している。

【0048】

第１投光手段４０ａ及び第１受光手段４１ａは、図２及び図３に示すように、センサ本体１５の内部において漏液検出装置１０の下面から見て環状下面２０ｃの第１検出部２５の位置に配設されている。そして、第１投光手段４０ａ及び第１受光手段４１ａは、第１検出部２５において、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に流入する漏液Ｗを検出する。

【0049】

図６は、第１検出部２５において、漏液検出装置１０が製造装置１１からの漏液Ｗを検出する原理図である。
第１投光手段４０ａは、第１出射面２８ｂに出射光を出射し、第１出射面２８ｂにて出射光を透過させるとともに、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入していない場合、所定の屈折角で屈折させて透過光として第１入射面２８ｃに出射する。

【0050】

第１入射面２８ｃは、第１出射面２８ｂから入射する透過光を透過するとともに、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入していない場合、所定の屈折角で屈折させてセンサ本体１５の内部に備えた第１受光手段４１ａに入射光として出射する。これにより、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入していない場合、第１投光手段４０ａから第１受光手段４１ａへの光路Ｌ１が形成される。

【0051】

反対に、図７に示すように、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入している場合、第１出射面２８ｂにおいて屈折角が大きくなり、光路Ｌ１から外れて透過光が第１入射面２８ｃに到達しない。

【0052】

第１受光手段４１ａは、第１入射面２８ｃから入射光を入射し、入射光の受光量に応じた第１受光信号Ｓｒ１を第１検出手段４２ａに出力する。具体的には、第１受光手段４１ａは、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入する量が少なく、入射光の受光量が大きいほど、第１受光信号Ｓｒ１の電圧値を大きくする。反対に、第１受光手段４１ａは、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入する量が多く、入射光の受光量が少ないほど、第１受光信号Ｓｒ１の電圧値を小さくする。

【0053】

第１検出手段４２ａは、第１受光手段４１ａから第１受光信号Ｓｒ１が入力される。第１検出手段４２ａは、その第１受光信号Ｓｒ１と予め設定された第１基準電圧Ｖｋ１を比較し、その比較結果に応じた第１検出信号Ｓｄ１を出力制御手段４３に出力する。

【0054】

詳しくは、第１検出手段４２ａは、第１基準電圧Ｖｋ１以上の第１受光信号Ｓｒ１を入力すると、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入していないとみなしてＬレベル（非検出モード）の第１検出信号Ｓｄ１を出力する。反対に、第１検出手段４２ａは、第１基準電圧Ｖｋ１より小さい第１受光信号Ｓｒ１を入力すると、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入しているとしてＨレベル（検出モード）の第１検出信号Ｓｄ１を出力する。

【0055】

第２投光手段４０ｂ及び第２受光手段４１ｂは、図２及び図３に示すように、センサ本体１５の内部において漏液検出装置１０の下面から見て円形凹部２０ｂの第２検出部２６の位置に配設されている。そして、第２投光手段４０ｂ及び第２受光手段４１ｂは、第２検出部２６において、円形凹部２０ｂ内に流入する漏液Ｗを検出する。

【0056】

図８及び図９は、第２検出部２６において、漏液検出装置１０が漏液Ｗを検出する原理図である。
第２投光手段４０ｂは、第２出射面２６ｂに出射光を出射し、第２出射面２６ｂにて出射光を透過させるとともに、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入していない場合、所定の屈折角で屈折させて透過光として第２入射面２６ｃに出射する。

【0057】

第２入射面２６ｃは、第２出射面２６ｂから入射する透過光を透過させるとともに、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入していない場合、所定の屈折角で屈折させてセンサ本体１５の内部に備えた第２受光手段４１ｂに入射光として出射する。これにより、図８に示すように、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入していない場合、第２投光手段４０ｂから第２受光手段４１ｂへの光路Ｌ２が形成される。

【0058】

反対に、図９に示すように、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入している場合、第２出射面２６ｂにおいて屈折角が大きくなり、光路Ｌ２から外れて透過光が第２入射面２６ｃに到達しない。

【0059】

第２受光手段４１ｂは、第２入射面２６ｃから入射光を入射し、その入射光の受光量に応じた第２受光信号Ｓｒ２を第２検出手段４２ｂに出力する。具体的には、第２受光手段４１ｂは、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入する量が少ないほど、第２受光信号Ｓｒ２の電圧値を大きくする。反対に、第２受光手段４１ｂは、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入する量が多いほど、第２受光信号Ｓｒ２の電圧値を小さくする。

【0060】

第２検出手段４２ｂは、第２受光手段４１ｂから第２受光信号Ｓｒ２が入力される。第２検出手段４２ｂは、その第２受光信号Ｓｒ２と予め設定された第２基準電圧Ｖｋ２を比較し、その比較結果に応じた第２検出信号Ｓｄ２を出力制御手段４３に出力する。

【0061】

具体的には、第２検出手段４２ｂは、第２基準電圧Ｖｋ２以上の第２受光信号Ｓｒ２を入力すると、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入していないとみなしてＬレベル（非検出モード）の第２検出信号Ｓｄ２を出力する。反対に、第２検出手段４２ｂは、第２基準電圧Ｖｋ２より小さい第２受光信号Ｓｒ２を入力すると、円形凹部２０ｂ内に漏液Ｗが流入しているとしてＨレベル（検出モード）の第２検出信号Ｓｄ２を出力する。

【0062】

出力制御手段４３は、第１及び第２検出手段４２ａ，４２ｂから第１及び第２検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ２、及び、製造装置１１から同期信号Ｓｓが入力される。ここで、同期信号Ｓｓは、製造装置１１の作業の区切りを知らせる信号であって、製造装置１１が作業中のときにＬレベルとなり、作業の区切り毎に所定時間Ｈレベルとなる。

【0063】

出力制御手段４３は、その第１及び第２検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ２に応じて、製造装置１１を停止させる停止信号Ｓｔを同期信号Ｓｓに同期して製造装置１１に出力する。
詳しくは、製造装置１１から漏液Ｗがない場合、出力制御手段４３は、Ｌレベル（非検出モード）の第１及び第２検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ２が入力され、製造装置１１を停止させないＬレベル（動作モード）の停止信号Ｓｔを製造装置１１に出力する。

【0064】

また、製造装置１１からの漏液Ｗが少量の場合、出力制御手段４３は、Ｈレベル（検出モード）の第１検出信号Ｓｄ１、及び、Ｌレベル（非検出モード）の第２検出信号Ｓｄ２が入力される。そして、出力制御手段４３は、所定時間Ｈレベルの同期信号Ｓｓが入力された後に、Ｈレベル（停止モード）の停止信号Ｓｔを製造装置１１に出力する。

【0065】

すなわち、出力制御手段４３は、Ｈレベル（検出モード）の第１検出信号Ｓｄ１、及び、Ｌレベル（非検出モード）の第２検出信号Ｓｄ２が入力されることで、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に製造装置１１からの漏液Ｗが流入し、円形凹部２０ｂ内に製造装置１１からの漏液Ｗが流入していないことを認識する。

【0066】

そして、出力制御手段４３は、円形凹部２０ｂ内に製造装置１１からの漏液Ｗが流入していないため、製造装置１１からの漏液Ｗが少量であると判断する。次に、出力制御手段４３は、製造装置１１からの漏液Ｗが少量の場合、すぐに工場施設の破損や製品不良に繋がらないため、仕掛かり中の作業が終了した後で、製造装置１１を停止させるようになっている（制御停止）。

【0067】

さらに、製造装置１１からの漏液Ｗが大量の場合、出力制御手段４３は、Ｈレベル（検出モード）の第１及び第２検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ２が入力される。そして、出力制御手段４３は、Ｈレベル（停止モード）の停止信号Ｓｔを製造装置１１に即出力する。すなわち、出力制御手段４３は、Ｈレベル（検出モード）の第１及び第２検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ２が入力されることで、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に製造装置１１からの漏液Ｗが流入し、さらに、円形凹部２０ｂ内にも製造装置１１からの漏液Ｗが流入していることを認識する。

【0068】

そして、出力制御手段４３は、円形凹部２０ｂ内にも製造装置１１からの漏液Ｗが流入しているため、製造装置１１からの漏液Ｗが大量であると判断する。次に、出力制御手段４３は、製造装置１１からの漏液Ｗが大量の場合、すぐに工場施設の破損や製品不良に繋がる虞があるため、作業の仕掛かり中でも製造装置１１を即停止させるようになっている（緊急停止）。

【0069】

以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）漏液検出装置１０は、製造装置１１からの少量の漏液Ｗを検出する第１検出部２５と、製造装置１１からの大量の漏液Ｗを検出する第２検出部２６を設けた。そして、漏液検出装置１０は、第１検出部２５にて漏液Ｗを検出すると、仕掛かり中の作業の終了後に製造装置１１を停止させ、第２検出部２６にて漏液Ｗを検出すると、作業の仕掛かり中に拘わらず直ちに製造装置１１を停止させるようにした。

【0070】

従って、製造装置１１からの少量の漏液Ｗを検出すると、漏液検出装置１０は、仕掛かり中の作業終了後に製造装置１１を停止させるため、製品及び製造時間を無駄にせずに生産性を向上させることができる。また、製造装置１１からの大量の漏液Ｗを検出すると、漏液検出装置１０は、直ちに製造装置１１を停止させるため、工場施設の破損や製品不良を未然に防止することができる。この結果、漏液検出装置１０は、自身が備えられる製造装置１１の生産性の低下を低減することができる。

【0071】

（２）漏液検出装置１０は、製造装置１１からの少量の漏液Ｗを検出すると、製造装置１１から入力される所定時間Ｈレベルの同期信号Ｓｓに同期して製造装置１１を停止させるようにした。従って、漏液検出装置１０は、製造装置１１からの少量の漏液Ｗを検出すると、製造装置１１の仕掛かり中の作業が終了次第、製造装置１１を停止することができる。この結果、漏液検出装置１０は、自身が備えられる製造装置１１の生産性の低下をさらに低減することができる。

【0072】

（３）漏液検出装置１０は、その下面中央を凹設して円形凹部２０ｂを形成した。従って、漏液検出装置１０は、その下面を凹設するだけで容易に、製造装置１１からの少量の漏液Ｗがあるときに流入する環状下面２０ｃと、製造装置１１からの大量の漏液Ｗがあるときに流入する円形凹部２０ｂを形成することができる。
（第２実施形態）
第１実施形態では、漏液検出装置１０は、製造装置１１からの少量の漏液Ｗを第１検出部２５にて検出すると、製造装置１１を仕掛かり中の作業終了後に停止させ、製造装置１１からの大量の漏液Ｗを第２検出部２６にて検出すると、製造装置１１を即停止させていた。

【0073】

第２実施形態では、漏液検出装置５０は、製造装置１１からの漏液Ｗを２つの検出部が検出する時間差に応じて、製造装置１１を停止させるタイミングを変更するようになっている。

【0074】

以下、漏液検出装置５０が、製造装置１１からの漏液Ｗを２つの検出部が検出する時間差に応じて、製造装置１１を停止させるタイミングを変更する場合について、図１０及び図１１に従って、第１実施形態との相違点を中心に説明する。尚、先の図１〜図９に示した部材と同一の部材にはそれぞれ同一の符号を付して示し、それら各要素については説明の便宜上その説明を省略する。

【0075】

漏液検出装置５０の基台２０は、第１実施形態と異なり、その下面２０ａが凹設されずに第２検出部２６が設けられていない。基台２０は、その下面２０ａに第１検出部２５と基台２０の中心点を挟んだ対称位置に第３検出部５１を設けている。第３検出部５１は、第１検出部２５と同じ構成となっているため、その詳細な説明を省略する。また、図１０に示すように、第３投光手段４０ｃ及び第３受光手段４１ｃは、センサ本体１５の内部において漏液検出装置１０の下面から見て第３検出部５１の位置に配設されている。

【0076】

これにより、図１１に示すように、第３検出手段４２ｃは、第１検出手段４２ａと同様に、第３受光手段４１ｃから第３受光信号Ｓｒ３が入力される。第３検出手段４２ｃは、その第３受光信号Ｓｒ３と予め設定された第１基準電圧Ｖｋ１を比較し、その比較結果に応じた第３検出信号Ｓｄ３を出力制御手段４３に出力する。

【0077】

具体的には、第３検出手段４２ｃは、第１基準電圧Ｖｋ１以上の第３受光信号Ｓｒ３を入力すると、第３検出部５１と床面１２の隙間に漏液Ｗが流入していないとみなしてＬレベル（非検出モード）の第３検出信号Ｓｄ３を出力する。反対に、第３検出手段４２ｃは、第１基準電圧Ｖｋ１より小さい第３受光信号Ｓｒ３を入力すると、第３検出部５１と床面１２の隙間に漏液Ｗが流入しているとしてＨレベル（検出モード）の第３検出信号Ｓｄ３を出力する。

【0078】

すなわち、第１及び第３検出手段４２ａ，４２ｃは、第１及び第３検出部２５，５１と床面１２の隙間に漏液Ｗが流入しているか否かをそれぞれ検出し、その検出結果に応じた第１及び第３検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ３を時間差測定手段５２及び出力制御手段４３にそれぞれ出力している。

【0079】

時間差測定手段５２は、第１及び第３検出手段４２ａ，４２ｃから第１及び第３検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ３が入力される。時間差測定手段５２は、その第１及び第３検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ３を入力する時間差（以下、検出時間差Ｃ１という）を測定し、その検出時間差Ｃ１に応じた遅延制御信号Ｓｃを出力制御手段４３に出力する。

【0080】

詳しくは、時間差測定手段５２は、検出時間差Ｃ１が短くて製造装置１１からの漏液Ｗの流出が早いほど、遅延制御信号Ｓｃの電圧値を小さくする。反対に、時間差測定手段５２は、検出時間差Ｃ１が長くて製造装置１１からの漏液Ｗの流出が遅いほど、遅延制御信号Ｓｃの電圧値を大きくする。

【0081】

出力制御手段４３は、第１及び第３検出手段４２ａ，４２ｃから第１及び第３検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ３、及び、時間差測定手段５２から遅延制御信号Ｓｃが入力される。出力制御手段４３は、Ｈレベル（検出モード）の第１及び第３検出信号Ｓｄ１，Ｓｄ３が入力された状態で、遅延制御信号Ｓｃに応じて、停止信号Ｓｔを遅延させて製造装置１１に出力する。

【0082】

詳しくは、出力制御手段４３は、遅延制御信号Ｓｃの電圧値が小さいほど、Ｈレベル（停止モード）の停止信号Ｓｔを短く遅延させて製造装置１１に出力する。反対に、出力制御手段４３は、遅延制御信号Ｓｃの電圧値が大きいほど、Ｈレベル（停止モード）の停止信号Ｓｔを長く遅延させて製造装置１１に出力する。

【0083】

すなわち、出力制御手段４３は、検出時間差Ｃ１が短くて製造装置１１からの漏液Ｗの流出が早い場合、直ちに工場施設の破損や製品不良に繋がる虞があるため、製造装置１１を早く停止させるようにしている。反対に、出力制御手段４３は、検出時間差Ｃ１が長くて製造装置１１からの漏液Ｗの流出が遅い場合、直ちに工場施設の破損や製品不良に繋がらないため、製造装置１１を遅く停止させるようにしている。

【0084】

以上記述したように、本実施の形態によれば、以下の効果を奏する。
（１）漏液検出装置５０は、その下面２０ａに第１及び第３検出部２５，５１を備えた。そして、漏液検出装置５０は、第１及び第３検出部２５，５１が製造装置１１からの漏液Ｗを検出する時間差（検出時間差）Ｃ１が長いほど、製造装置１１を遅く停止させ、反対に、検出時間差Ｃ１が短いほど、製造装置１１を早く停止させるようにした。

【0085】

従って、漏液検出装置５０は、製造装置１１からの漏液Ｗの流出が遅いほど、製造装置１１を遅く停止させて製造時間を長くすることができる。この結果、第１実施形態に比べて、製造装置１１からの漏液Ｗを検出した際に製造装置１１を遅く停止して製造時間を長くすることができるため、自身が備えられる製造装置１１の生産性の低下をさらに低減することができる。
（第３実施形態）
本実施形態は、基台下面の特に第１検出部の形状が上記第１実施形態とは異なる。従って、以下には上記第１実施形態と同様の構成については同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。

【0086】

図１２及び図１３（ａ）（ｂ）に本実施形態の基台６０を示す。また、図１４に基台６０を備えた漏液検出装置１０を示す。図１２〜図１４に示すように、基台６０の環状下面２０ｃに設けられた第１検出部６１（第１漏液検知部）は、上記実施形態の第１検出部２５と同位置に構成されている。即ち、第１検出部６１は、漏液検出装置の下面（環状下面２０ｃ）の周縁部２０ｄに設けられている。また、第２検出部２６（第２漏液検知部）は、第１検出部６１よりも環状下面２０ｃの周縁部２０ｄから離れた位置に設けられている。また、環状下面２０ｃの中心部と周縁部２０ｄ（図１２において周縁部２０ｄ上の点Ｐ）とを結ぶ線上において周縁部２０ｄよりに第１検出部６１が、中心部よりに第２検出部２６がそれぞれ配置されている。

【0087】

第１検出部６１の中心部には導入部６２が凹設されている。導入部６２は、その内底面を天井面２８ａとし、その天井面２８ａにおける環状下面２０ｃの周方向の両側部から側方に向かってお互いに離れる方向に傾斜する傾斜面を第１出射面２８ｂ，第１入射面２８ｃとしている。尚、導入部６２の中央には、第２検出部２６の空気孔２６ａと同様の空気抜きのための空気孔６２ａが貫通形成されている。第１検出部６１には、環状下面２０ｃに突出形成された凸部６３が基台６０の幅方向Ｙに導入部６２を挟むように一対設けられている。各凸部６３は、基台６０の前後方向Ｘに沿って環状下面２０ｃの周縁部２０ｄから円形凹部２０ｂに亘って形成されている。また、各凸部６３の床面１２との対向面６３ａは、床面１２と平行となるように形成されている（図１３ａ及び図１４参照）。

【0088】

第１検出部６１の導入部６２の前後方向Ｘ両側にはそれぞれ、床面１２に向かって突出する第１及び第２案内凸部６４，６５（案内段部）が形成されている。導入部６２と各案内凸部６４，６５とは前後方向Ｘにおいて隣り合う位置に設けられている。また、各案内凸部６４，６５は、前後方向Ｘにおいて導入部６２を挟むように設けられている。尚、環状下面２０ｃの周縁部２０ｄにおいて導入部６２の中心部から最も近い箇所Ｐと導入部６２とを結ぶ方向は、基台６０の前後方向Ｘと一致している。

【0089】

第１案内凸部６４は、導入部６２から環状下面２０ｃの周縁部２０ｄに亘って形成されている。第２案内凸部６５は、導入部６２から円形凹部２０ｂに亘って形成されている。各案内凸部６４，６５は、床面１２と対向する対向面６６と、対向面６６の幅方向Ｙ両端の傾斜面６７とを有している。つまり、各案内凸部６４，６５は、前後方向Ｘから見て環状下面２０ｃに向かうにつれて幅広となる形状（末広がり状）をなしている（図１４参照）。また、各案内凸部６４，６５の傾斜面６７は、凸部６３の対向面６３ａと繋がっている。即ち、第１検出部６１は、凸部６３と案内凸部６４，６５とにより２段の段差形状をなしている。また、各案内凸部６４，６５の導入部６２側の面も傾斜面６８となっている、これにより、導入部６２は、床面１２に向かって前後方向Ｘ及び幅方向Ｙに広がる形状をなしている。尚、床面１２と案内凸部６４，６５との間隔は、床面１２と凸部６３との間隔よりも狭くなるように構成されている。

【0090】

環状下面２０ｃには、３つの円柱状の支柱７１が突出形成されている。支柱７１は、円形凹部２０ｂの反第１検出部側に１つ設けられるとともに、円形凹部２０ｂの外縁と接する位置であって基台６０の中心に対して導入部６２の中央部から両側に約６０度の位置にそれぞれ１つずつ設けられている。各支柱７１は、図１３（ｂ）及び図１４に示すように、床面１２と当接しており、支柱７１の長さによって床面１２から環状下面２０ｃまでの間隔が決定される。尚、支柱７１の長さ（床面１２から環状下面２０ｃまでの間隔）は適宜変更可能である。また、基台６０の上面には、センサ本体１５と周方向に係止する一対の係止部７２が形成されている（図１４参照）。また、環状下面２０ｃの反第１検出部側には、円形凹部２６ｂに向かって突出するガイド部７３が形成されている。

【0091】

このような漏液検出装置１０では、床面１２と環状下面２０ｃとの間に浸入した漏液は、床面１２と凸部６３との間に移動する。その後、漏液は床面１２と案内凸部６４，６５との間に移動し、その勢いで導入部６２内に浸入し、第１検出部６１での漏液検出がなされる。その後、床面１２と環状下面２０ｃとの間に浸入した漏液がガイド部７３を伝って円形凹部２０ｂに浸入し、第２検出部２６での漏液検出がなされる。つまり、床面１２と環状下面２０ｃとの間に浸入した漏液は、第１検出部６１から最も離れた位置に設けられたガイド部７３から円形凹部２６ｂに浸入しやすくなる。このため、第１検出部６１での漏液検知から第２検出部２６での漏液検知までのタイムラグを生じさせやすくすることが可能となっている。

【0092】

以上記述したように、本実施形態によれば以下の効果を奏する。
（１）第１検出部６１の導入部６２は、環状下面２０ｃから上方に向かって凹設形成されてなり、環状下面２０ｃには、床面１２に向かって突出する案内凸部６４，６５が導入部６２と隣り合う位置に設けられる。これにより、案内凸部６４，６５は、床面１２との隙間が環状下面２０ｃと床面１２との隙間よりも狭くなるため、案内凸部６４，６５と床面１２との隙間に漏液が引き寄せられる。そのため、案内凸部６４，６５と隣り合う導入部６２に漏液を引き込み易くすることができ、その結果、漏液を安定して検出することが可能となる。

【0093】

（２）案内凸部６４，６５は、環状下面２０ｃの周縁部２０ｄにおいて第１検出部６１の導入部６２から最も近い箇所Ｐと該導入部６２とを結ぶ方向（前後方向Ｘ）において導入部６２と隣り合うように構成される。これにより、導入部６２に対して案内凸部６４，６５と隣り合う方向と直交する方向側（幅方向側）から漏液を引き込み易くすることができ、その結果、漏液をより安定して検出することが可能となる。

【0094】

（３）案内凸部６４，６５は導入部６２と隣り合う方向（前後方向Ｘ）から見て、漏液検出装置の環状下面２０ｃに向かうにつれて幅広となる形状（末広がり状）をなす。このため、前後方向Ｘから漏液を引き込み易くすることができ、その結果、漏液をより安定して検出することが可能となる。

【0095】

（４）案内凸部６４，６５は第１検出部６１の導入部６２を挟むように一対設けられるため、導入部６２に漏液を引き込み易くすることができ、その結果、漏液をより安定して検出することが可能となる。

【0096】

尚、上記実施の形態は、以下の態様で実施してもよい。
・本実施形態では、漏液検出装置１０は、円柱形状に形成されていたが、多角形状に形成してもよい。

【0097】

このようにしても、上記の実施形態と同様の効果を得ることができる。
・第１実施形態では、漏液検出装置１０は、第１検出部２５にて漏液Ｗを検出すると、仕掛かり中の作業の終了後に製造装置１１を停止させていた。これに限らず、漏液検出装置１０は、第１検出部２５にて漏液Ｗを検出して製造装置１１を停止させるタイミングは特に制限されない。例えば、漏液検出装置１０は、製造装置１１から所定時間Ｈレベルの同期信号Ｓｓが入力されるタイミングであれば、どのタイミングで製造装置１１を停止させてもよい。

【0098】

・第１実施形態では、漏液検出装置１０は、環状下面２０ｃに第１検出部２５が設けられていたが、環状下面２０ｃに漏液Ｗを検出する検出部を周方向に等間隔に設けてもよい。これにより、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に漏液Ｗが流入する箇所と検出部との距離が近くなり、漏液検出装置１０は、この漏液Ｗを検出部にて早く検出することができる。

【0099】

・第１実施形態では、漏液検出装置１０の基台２０は、その下面２０ａの中央部を凹設して円形凹部２０ｂを形成し、その円形凹部２０ｂに第２検出部２６を配設していた。これに限らず、漏液検出装置１０は、第１検出部２５と第２検出部２６の間に、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１より大きな隙間を挟めば下面２０ａの中央部の形状は特に制限されない。

【0100】

例えば、基台２０の下面２０ａは、その環状下面２０ｃの内側端部を凹設して環状の溝を形成してもよい。また、基台２０の下面２０ａは、その環状下面２０ｃの内側端部から中央位置に向かって下面２０ａと床面１２の隙間が大きくなるように傾斜させてもよい。

【0101】

このようにしても、上記の実施形態と同様の効果を得ることができる。
・第１実施形態では、漏液検出装置１０は、第１検出部２５にて漏液Ｗを検出すると、製造装置１１から少量の漏液Ｗが漏れたことを検出し、同期信号Ｓｓに同期して製造装置１１を停止させていた。これに限らず、漏液検出装置１０は、第１検出部２５にて漏液Ｗを検出すると、製造装置１１にて少量の漏液Ｗが漏れたことを知らせる警報信号を製造装置１１に出力してもよい。この場合、漏液検出装置１０は、製造装置１１からの漏液Ｗが少量のとき、製造装置１１から漏液Ｗがもれたことを製造装置１１に知らせる。また、漏液検出装置１０は、第２検出部２６にて漏液Ｗを検出すると、製造装置１１から大量の漏液Ｗが流出したことを検出して製造装置１１を停止させることになる。

【0102】

このようにしても、上記の実施形態と同様の効果を得ることができる。
第１実施形態では、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に流入した漏液Ｗを毛細管現象によって第１検出部２５まで流入させていた。これに限らず、環状下面２０ｃに第１検出部２５から周方向に環状の突部を設け、環状下面２０ｃと床面１２の隙間Ｄ１に流入した漏液Ｗを環状の突部に案内させて第１検出部２５に流入させてもよい。

【0103】

このようにしても、上記の実施形態と同様の効果を得ることができる。
・第２実施形態では、漏液検出装置５０は、第１及び第３検出部２５，５１が製造装置１１からの漏液Ｗを検出する時間差（検出時間差）Ｃ１に基づいて、製造装置１１を停止させるタイミングを変更していた。これに限らず、漏液検出装置５０は、検出時間差Ｃ１に基づいて、製造装置１１の一連の動作の所要時間単位で製造装置１１を停止させてもよい。

【0104】

漏液検出装置５０は、製造装置１１の仕掛かり中の作業が終了次第、製造装置１１を停止することができる。この結果、漏液検出装置１０は、自身が備えられる製造装置１１の生産性の低下をさらに低減することができる。

【0105】

・さらに、検出時間差Ｃ１が基準時間より長いと、漏液検出装置５０が製造装置１１を制御停止し、反対に、検出時間差Ｃ１が基準時間より短いと、漏液検出装置５０が製造装置１１を緊急停止させるようにしてもよい。

【0106】

これにより、第１実施形態と同様な効果を得ることができる。
・さらにまた、漏液検出装置５０は、製造装置１１から同期信号Ｓｓを入力し、検出時間差Ｃ１に基づいて、同期信号Ｓｓに同期して停止信号Ｓｔを出力し、製造装置１１を停止させてもよい。

【0107】

従って、漏液検出装置５０は、製造装置１１の仕掛かり中の作業が終了する毎に、製造装置１１を停止することができる。この結果、漏液検出装置５０は、自身が備えられる製造装置１１の生産性の低下をさらに低減することができる。

【0108】

・第２実施形態では、漏液検出装置５０の基台２０は、第１実施形態と異なり、その下面２０ａが凹設されずに第２検出部２６が設けられていなかった。これに限らず、漏液検出装置５０の基台２０は、第１実施形態と同様に、その下面２０ａが凹設されて第２検出部２６が設けてもよい。

【0109】

これにより、漏液検出装置５０は、第１実施形態と同様に、第２検出部２６にて漏液を検出すると、直ちに製造装置１１を停止させることができる。
・第３実施形態では、案内凸部６４，６５は２つ設けられたが、これに特に限定されるものではなく、１つのみで構成してもよい。

【0110】

・第３実施形態の第１検出部６１において、凸部６３を省略した構成としてもよい。
・第３実施形態では、案内凸部６４，６５は前後方向Ｘに隣り合う位置に設けられたが、幅方向Ｙに隣り合う位置に設けてもよい。

【0111】

・第３実施形態では、案内凸部６４は周縁部２０ｄに設けられたが、周縁部２０ｄから離れた位置に設けてもよい。

【符号の説明】

【0112】

１０，５０…漏液検出装置、１１…製造装置、２０ｂ…凹部、２６ｂ，２６ｃ，２８ｂ，２８ｃ…導入部（第１及び第２出射面、第１及び第２入射面）、４０ａ〜４０ｃ…投光手段（第１〜第３投光手段）、４１ａ〜４１ｃ…受光手段（第１〜第３受光手段）、４２ａ〜４２ｃ…検出手段（第１〜第３検出手段）、４３…出力制御手段（入力手段）、５２…時間差測定手段（時間間隔測定手段）、Ｓｓ…同期信号、Ｓｔ…停止信号（検出信号）、６１…第１検出部（第１漏液検知部）、６２…導入部、６４，６５…案内凸部（案内段部）、７３…ガイド部。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】