特許 5666501 除染処理方法とその方法に使用可能な表面処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5666501

(24)【登録日】2014年12月19日

(45)【発行日】2015年2月12日

(54)【発明の名称】除染処理方法とその方法に使用可能な表面処理装置

(51)【国際特許分類】

   G21F 9/28 20060101AFI20150122BHJP

   G21F 9/10 20060101ALI20150122BHJP

【ＦＩ】

   G21F9/28 522A

   G21F9/10 A

【請求項の数】15

【全頁数】32

(21)【出願番号】特願2012-104019(P2012-104019)

(22)【出願日】2012年4月27日

(65)【公開番号】特開2013-217890(P2013-217890A)

(43)【公開日】2013年10月24日

【審査請求日】2014年1月8日

(31)【優先権主張番号】特願2012-57952(P2012-57952)

(32)【優先日】2012年3月14日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000159021

【氏名又は名称】株式会社キクテック

(74)【代理人】

【識別番号】100076473

【弁理士】

【氏名又は名称】飯田 昭夫

(74)【代理人】

【識別番号】100112900

【弁理士】

【氏名又は名称】江間 路子

(74)【代理人】

【識別番号】100136995

【弁理士】

【氏名又は名称】上田 千織

(74)【代理人】

【識別番号】100163164

【弁理士】

【氏名又は名称】安藤 敏之

(72)【発明者】

【氏名】内藤 雅之

(72)【発明者】

【氏名】榎本 竜

【審査官】 村川 雄一

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００３−０９４３９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−０２５２９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−３１１１９２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−２６９９２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−２６５４３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−１１４９０９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０８−１５０３９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０７−０４２１３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０６−２６４４２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０５−３０２３０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０５−０９２４００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０５−０８７９８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１１−５１９７４０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭５９−１６６２００（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 実開平０５−０８７６００（ＪＰ，Ｕ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ２１Ｆ ９／２８

Ｇ２１Ｆ ９／１０

Ｂ２６Ｆ ３／００

Ｅ０１Ｈ １／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のｃｐｍ値を低減させる除染処理方法であって、
処理水の吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内として、それぞれ、０．２〜３．５リットル／minの吐出量となる複数の噴射ノズルと、
複数の前記噴射ノズルを配設させて、各前記噴射ノズルから噴射させつつ、回転面を処理面に沿わせた状態として回転可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持し、処理面近傍まで延びて前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
を備えた表面処理装置を使用するとともに、
前記噴射ノズルを、前記回転噴射体全体の処理水の給水量を２０リットル／min以下とする範囲内とする数の使用とし、かつ、前記回転噴射体の回転時の前記噴射ノズルの回転軌跡を相互にずらした配置とするように、前記回転噴射体に配設させ、
前記吸引手段を作動させて、各前記噴射ノズルと前記処理面との距離を５〜２０mmの範囲内とし、吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａとした処理水を各前記噴射ノズルから噴射しつつ、前記回転噴射体を回転させ、かつ、前記ハウジングを前記処理面に沿って移動させつつ行うことを特徴とする除染処理方法。

【請求項2】

各前記噴射ノズルからの処理水の吐出圧を１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内とすることを特徴とする請求項１に記載の除染処理方法。

【請求項3】

各前記噴射ノズルからの処理水の吐出圧を１００Ｍｐａ以上、１２５Ｍｐａ未満の範囲内とすることを特徴とする請求項１に記載の除染処理方法。

【請求項4】

前記回転噴射体全体への処理水の給水量を６〜１２リットル／minの範囲内とすることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の除染処理方法。

【請求項5】

前記処理水の少なくとも一部に、前記吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液が、使用されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の除染処理方法。

【請求項6】

放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のｃｐｍ値を低減させる除染処理方法に使用可能な表面処理装置であって、
高圧の処理水を噴射する所定数の噴射ノズルを配置させたノズルアームを、回転中心から放射状に複数延ばすように配設させて構成され、回転面を処理面に沿わせた状態として、前記ノズルアームを回転させつつ、前記処理水を前記噴射ノズルから噴射させて、前記処理面を処理可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持して、前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
該ハウジングを支持して、前記回転噴射体と前記ハウジングとを前記処理面上に沿って移動可能とする車輪と、
を備え、
複数の前記噴射ノズルが、
吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内として、それぞれ、０．２〜３．５リットル／minの吐出量として構成されるとともに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、前記回転中心から２．３〜４．８mmの範囲内とした半径寸法差の多数の同心的な円弧とし、さらに、
前記処理面との距離を５〜２０mmの範囲内とするように、
配設されていることを特徴とする表面処理装置。

【請求項7】

前記噴射ノズルの前記処理水を噴射する噴射口が、開口径を０．０７〜０．４mmの範囲内としていることを特徴とする請求項６に記載の表面処理装置。

【請求項8】

前記回転噴射体が、
全体の処理水の給水量を６〜２０リットル／minの範囲内として、
前記ノズルアームを、回転中心からの長さ寸法を略１５０mmとした４〜８本の範囲内とし、回転中心から均等な放射状に配設させるとともに、
一本の前記ノズルアームに配設する前記噴射ノズルを、５個以下として構成され、さらに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、同心的な２０〜４０個の範囲内の円弧とするように、前記各噴射ノズルを配設させていることを特徴とする請求項６若しくは請求項７に記載の表面処理装置。

【請求項9】

前記回転噴射体が、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡の半径寸法差を、均等とするように、前記各噴射ノズルを配設させていることを特徴とする請求項６乃至請求項８のいずれか１項に記載の表面処理装置。

【請求項10】

前記各噴射ノズルが、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際に、それぞれ、他の円弧と重ならない円弧の軌跡とするように、配設されていることを特徴とする請求項６乃至請求項９のいずれか１項に記載の表面処理装置。

【請求項11】

前記噴射ノズルが、吐出量を異ならせた複数種類使用されるとともに、
吐出量を大きくする前記噴射ノズルが、吐出量を小さくする前記噴射ノズルより、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記各噴射ノズルの回転軌跡において、前記回転中心から離れた外側の円弧となるように、配設されていることを特徴とする請求項６乃至請求項１０のいずれか１項に記載の表面処理装置。

【請求項12】

前記ハウジングが、
前記回転噴射体の上方を覆う天井壁部と、前記回転噴射体の周囲を全周にわたって覆う周壁部と、を備えて構成されるとともに、
前記周壁部の下端に、下端を前記処理面と接触させつつ撓み可能な円筒状のシール材を配設させて構成され、
前記シール材が、各々、可撓性を有した線材を、下端を自由端とするように束ねて、円筒状とした外周側の外側ブラシ層と、内周側の内側ブラシ層と、を備えて構成され、
前記外側ブラシ層が、前記内側ブラシ層より、線材の長さを長く、かつ、線材の曲げ剛性を低くして、構成されていることを特徴とする請求項６乃至請求項１１のいずれか１項に記載の表面処理装置。

【請求項13】

前記シール材が、前記外側ブラシ層と前記内側ブラシ層との間に、前記外側ブラシ層の内側面を覆い可能とした前記内側ブラシ層より長い円筒状とし、かつ、撓み可能としたゴムシートを、配設させて構成されていることを特徴とする請求項１２に記載の表面処理装置。

【請求項14】

放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のｃｐｍ値を低減させる除染処理方法であって、
前記吸引手段の吸引量を３０〜４０ｍ³／minの範囲内、前記回転噴射体の回転数を１８００〜２０００回／minの範囲内、前記処理水吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内、移動速度を３〜８ｍ／minの範囲内として、
請求項６乃至請求項１３に記載の前記表面処理装置を、作動させつつ処理面上を移動させて行うことを特徴とする除染処理方法。

【請求項15】

前記処理水の少なくとも一部に、前記吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液が、使用されていることを特徴とする請求項１４に記載の除染処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、インターロッキング、アスファルト、コンクリート、樹脂舗装、石畳等の処理面（路面）に対し、高圧の処理水を噴射しつつ吸引して、処理面に付着している放射性物質を除去し、処理面のｃｐｍ値を低減させる除染処理方法とその方法に使用可能な表面処理装置に関し、特に、処理面の表面の剥離や損傷を極力抑えて処理できる除染処理方法とその方法に使用可能な表面処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、路面の表面処理装置では、高圧の処理水を噴射する多数の噴射ノズルを配置させて回転可能な回転噴射体を、ハウジングによって囲むとともに、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段を、ハウジングに接続させたものがあった（例えば、特許文献１，２参照）。

【0003】

また、高圧の処理水を噴射する多数の噴射ノズルを配置させて回転可能な回転噴射体を、ハウジングで囲むように構成し、そして、処理後の処理水と処理面付着物とが混合された汚水を吸引可能な吸引手段を、移動するハウジングの後方近傍に配置する表面処理装置もあった（特許文献３参照）。この表面処理装置では、回転噴射体が、高圧の処理水を噴射する所定数の噴射ノズルを配置させたノズルアームを、回転中心から放射状に複数延ばすように配設させて構成され、回転面を処理面に沿わせた状態として、ノズルアームを回転させつつ、噴射ノズルから処理水を噴射して、処理面を処理していた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００３−９４３９４号公報

【特許文献2】特開平６−２６４４２２号公報

【特許文献3】特開平１０−１１４９０９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

しかし、従来の表面処理装置は、いずれも、処理面の表面を、高圧で噴射する処理水の圧力による衝撃によってはつる（削る）ようにして、処理面となるコンクリートの劣化部分を剥離したり、処理面となる滑走路に付着したゴムを除去したり、あるいは、処理面となるモルタル材を削っており、いずれも、処理面の表面の削りを抑えて処理しているものではなかった。勿論、目視できないような放射性物質の除染用の表面処理装置も知られていなかった。

【0006】

そのため、従来装置では、除染に好適なように、処理面の表面を削ることを抑えて処理でき、かつ、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水の後処理が容易となるように、使用する処理水の量も抑えて効果的に処理する点に、課題があった。

【0007】

特に、処理面に放射性物質が付着している場合、処理面を深く削ってしまえば、再度、路面を施工し直す必要が生じ、望ましくなく、また、汚水自体に、放射能物質を含むことが避けられず、使用する処理水の量も抑えて効果的に処理する点が重要となる。

【0008】

本発明は、上述の課題を解決するものであり、処理面の表面の削りを抑えて、効果的に処理面の除染処理を行え、かつ、処理水の使用量を抑えることができて、回収した汚水の後処理が容易となる除染処理方法とその方法に使用する表面処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

＜請求項１の説明＞
放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のｃｐｍ値を低減させる除染処理方法であって、
処理水の吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内として、それぞれ、０．２〜３．５リットル／minの吐出量となる複数の噴射ノズルと、
複数の前記噴射ノズルを配設させて、各前記噴射ノズルから噴射させつつ、回転面を処理面に沿わせた状態として回転可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持し、処理面近傍まで延びて前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
を備えた表面処理装置を使用するとともに、
前記噴射ノズルを、前記回転噴射体全体の処理水の給水量を２０リットル／min以下とする範囲内とする数の使用とし、かつ、前記回転噴射体の回転時の前記噴射ノズルの回転軌跡を相互にずらした配置とするように、前記回転噴射体に配設させ、
前記吸引手段を作動させて、各前記噴射ノズルと前記処理面との距離を５〜２０mmの範囲内とし、吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａとした処理水を各前記噴射ノズルから噴射しつつ、前記回転噴射体を回転させ、かつ、前記ハウジングを前記処理面に沿って移動させつつ行うことを特徴とする。

【0010】

本発明に係る除染処理方法では、吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内とした際の吐出量を０．２〜３．５リットル／minの範囲とする開口径の複数の噴射ノズルから、１００〜２８０Ｍｐａとした吐出圧で、処理水を処理面に噴射しつつ、回転噴射体を回転させ、かつ、回転噴射体を支持したハウジングを処理面に沿って移動させ、さらに、吸引手段を作動させて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引して、除染作業を行うこととなる。

【0011】

このような処理水の噴射は、１００〜２８０Ｍｐａの範囲内とした高圧でも、各噴射ノズルからの吐出量を少量の０．２〜３．５リットル／minの範囲内としていることから、極力、小径の針状（髪の毛状）の水柱状として、処理水を処理面に衝突させることができる。そのため、このような処理水の噴射は、処理面をはつること（削ること）を抑えて、放射能物質が付着した付着物を細かくしつつ処理面から剥離することができる。

【0012】

すなわち、本発明の除染処理方法では、鋼球を利用するショットブラスト、サンドブラスト、研磨機を使用するのではなく、処理水として、水道水等の水を利用できることから、少量の処理水の圧力による衝撃力によって、処理面における放射能物質が付着した付着物を細かくでき、かつ、細かく微粒子状となった付着物を、霧状の処理水により、濡らす、あるいは、水で包みこんで、吸引手段で吸引可能な流動体にできる。そして、放射性物質を含んだ微粒子状の流動体となったならば、素早く吸引手段で吸引するため、ハウジング外に放射能物質の付着物や汚水を漏らすことなく、すなわち、再度、処理面に放射能物質を付着させることなく、効率的に、処理面を除染できる。

【0013】

また、回転噴射体の全体の処理水の給水量が、２０リットル／min以下とし、かつ、各噴射ノズルからの吐出量が０．２〜３．５リットル／minとしていれば、吸引手段で吸引する処理後の汚水の容量を、極力、少なくでき、後処理の負担を軽減できる。

【0014】

なお、高圧下での各噴射ノズルからの吐出量は、０．２リットル／min未満では、給水量を低減できるものの、処理水の衝撃力が小さくなり、処理面からの付着物の分離が行い難くなって、処理効果を確保し難く、３．５リットル／minを越えては、全体の給水量が単に増加するだけで、処理効果の向上が図れず、処理後の汚水の容量が増えるだけとなって、好ましくなく、そのため、高圧下での各噴射ノズルからの吐出量は、０．２〜３．５リットル／min、望ましくは、０．２〜１．０リットル／minの範囲内が望ましい。さらに、回転噴射体の全体の処理水の給水量が、２０リットル／minを越えては、回収する汚水の容量が多くなって、後処理に負担がかかってしまう。

【0015】

また、噴射ノズルの処理面との距離は、５mm未満では、処理面に凹凸がある場合に噴射ノズルが損傷し易く、また、２０mmを越えれば、処理水が処理面に到達する直前で衝撃力を低下させたような霧状となって、処理効果を低減させてしまうことから、噴射ノズルの処理面との距離は、５〜２０mmの範囲内、望ましくは、５〜１０mmの範囲内とすることが望ましい。

【0016】

そしてさらに、噴射ノズルは、回転噴射体全体の給水量を２０リットル／min以下とする範囲内とする数の使用とし、かつ、回転噴射体の回転時の噴射ノズルの回転軌跡を相互にずらした配置とするように、回転噴射体に配設されている。そのため、処理面の削れが抑制されて、施工後に処理面を復元させる処理を不要にすることが可能となり、また、使用する処理水の量も抑制されて、回収された汚水の後処理が容易となる。

【0017】

＜請求項２の説明＞
本発明に係る除染処理方法では、各噴射ノズルからの処理水の吐出圧を１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内とすることが望ましい。

【0018】

このような方法では、処理面を１〜２ｍｍ程度で削る場合が生ずるが、復元するための施工が不要な範囲であって、好適に、処理面を除染することができる。逆に、処理面の表面を均一に薄く削れることから、奇麗に洗浄した状態にできて、所定の摩擦抵抗を回復でき、路面としての機能向上を図ることも可能となる。

【0019】

＜請求項３の説明＞
あるいは、本発明に係る除染処理方法では、各噴射ノズルからの処理水の吐出圧を１００Ｍｐａ以上、１２５Ｍｐａ未満の範囲内としてもよい。

【0020】

このような方法では、処理面の露出した表面に放射性物質が付着されている場合に、処理面を削ること無く除染できて、好適となる。換言すれば、このような除染処理方法では、放射性物質が内部に潜り込み難く表面に付着し易い樹脂舗装やゴム舗装とするような処理面に対して、好適となる。

【0021】

＜請求項４の説明＞
本発明に係る除染処理方法では、前記回転噴射体全体への処理水の給水量を６〜１２リットル／minの範囲内とすることが望ましい。

【0022】

このような方法では、吸引手段で吸引した処理後の汚水が少量となって、後処理が容易となり、さらに、汚水を回収して後処理する際の回収タンク、あるいは、汚水中の放射能付着物を沈殿分離させたり濾過する処理槽等をコンパクトにできて、除染現場で後処理が可能となって、除染処理を迅速に行うことが可能となる。

【0023】

＜請求項５の説明＞
さらに、本発明に係る除染処理方法では、処理水の少なくとも一部には、吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液、を使用することが望ましい。

【0024】

このような方法では、汚水を処理水として再使用でき、除染現場での新たな処理水の準備や汚染物の廃棄処理量を軽減できて、現場での除染作業を効率的に行うことができる。

【0025】

＜請求項６の説明＞
本発明に係る表面処理装置では、放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のｃｐｍ値を低減させる除染処理方法に使用可能な表面処理装置であって、
高圧の処理水を噴射する所定数の噴射ノズルを配置させたノズルアームを、回転中心から放射状に複数延ばすように配設させて構成され、回転面を処理面に沿わせた状態として、前記ノズルアームを回転させつつ、前記処理水を前記噴射ノズルから噴射させて、前記処理面を処理可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持して、前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
該ハウジングを支持して、前記回転噴射体と前記ハウジングとを前記処理面上に沿って移動可能とする車輪と、
を備え、
複数の前記噴射ノズルが、
吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内として、それぞれ、０．２〜３．５リットル／minの吐出量として構成されるとともに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、前記回転中心から２．３〜４．８mmの範囲内とした半径寸法差の多数の同心的な円弧とし、さらに、
前記処理面との距離を５〜２０mmの範囲内とするように、
配設されていることを特徴とする。

【0026】

本発明に係る表面処理装置では、噴射ノズルから噴射される処理水が、吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内での各噴射ノズルからの吐出量を０．２〜３．５リットル／minの範囲とし、かつ、処理面との距離を５〜２０mmの範囲内として、各噴射ノズルから処理水が噴射される。

【0027】

このような処理水の噴射は、既述したように、１００〜２８０Ｍｐａの範囲内とした高圧でも、各噴射ノズルからの吐出量を少量の０．２〜３．５リットル／minの範囲内としていることから、極力、小径の針状（髪の毛状）の水柱状として、処理水を処理面に衝突させることができる。そのため、このような処理水の噴射は、処理面をはつること（削ること）を抑えて、放射能物質が付着した付着物を細かくしつつ処理面から剥離することができる。

【0028】

また、既述したように、各噴射ノズルからの吐出量が０．２〜３．５リットル／minとしていれば、吸引手段で吸引する処理後の汚水の容量を、極力、少なくできる。

【0029】

なお、既述したように、高圧下での各噴射ノズルからの吐出量は、０．２リットル／min未満では、処理効果を確保し難く、３．５リットル／minを越えては、全体の給水量が単に増加するだけで、処理効果の向上が図れず、処理後の汚水の容量が増えるだけとなって、好ましくなく、そのため、高圧下での各噴射ノズルからの吐出量は、０．２〜３．５リットル／min、望ましくは、０．２〜１．０リットル／minの範囲内が望ましい。

【0030】

また、既述したように、噴射ノズルの処理面との距離は、５mm未満では、処理面に凹凸がある場合に噴射ノズルが損傷し易く、また、２０mmを越えれば、処理水が処理面に到達する直前で衝撃力を低下させたような霧状となって、処理効果を低減させてしまうことから、噴射ノズルの処理面との距離は、５〜２０mmの範囲内、望ましくは、５〜１０mmの範囲内とすることが望ましい。

【0031】

さらに、本発明に係る表面処理装置では、細い針状とした処理水を噴射する噴射ノズルが、複数のノズルアームに配設されて、回転し、その際の回転中心からの回転軌跡を２．３〜４．８mmの範囲内とした半径寸法差（ピッチと言い換えることもできる）の多数の同心的な円弧としており、処理水を各噴射ノズルから噴射させて回転噴射体を回転させつつ、車輪を利用して、移動させれば、極力、均等に密接した針状の処理水を螺旋状に噴射できて、各噴射ノズルからの吐出量を０．２〜３．５リットル／minとして少量としていても、効率的に、処理面を処理できる。

【0032】

なお、回転軌跡のピッチ（半径寸法差）を２．３mm未満とする場合には、高圧で処理水を噴射する噴射ノズルが、相互に接近しすぎ、ノズルアームの強度低下等を招いて、ノズルアームに配置し難く、４．８mmを超えては、処理面上での軌跡に隙間が空き、噴射ノズルから噴射する処理水を、処理面の全域に均等に当て難くなることから、回転軌跡のピッチは、２．３〜４．８mm、望ましくは、２．５〜３．３mmの範囲内が望ましい。

【0033】

＜請求項７の説明＞
本発明に係る表面処理装置では、既述の吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内として、０．２〜３．５リットル／minの吐出量となる噴射ノズルは、処理水を噴射する噴射口の開口径に換算すると、０．０７〜０．４mmの範囲内のものが好適となる。

【0034】

＜請求項８の説明＞
本発明に係る表面処理装置では、前記回転噴射体は、
全体の処理水の給水量を６〜２０リットル／minの範囲内として、
前記ノズルアームを、回転中心からの長さ寸法を略１５０mmとした４〜８本の範囲内とし、回転中心から均等な放射状に配設するとともに、
一本の前記ノズルアームに配設する前記噴射ノズルを、５個以下として構成し、さらに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、同心的な２０〜４０個の範囲内の円弧とするように、前記各噴射ノズルを配置することが望ましい。

【0035】

このような構成では、実用的な範囲内で好適に回転噴射体を形成できる。

【0036】

すなわち、本発明に係る表面処理装置では、吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内での各噴射ノズルの吐出量を０．２〜３．５リットル／minとしても、全体の処理水の給水量を６〜２０リットル／minの範囲内とすれば、吸引手段で吸引した処理後の汚水が少量となって、後処理が容易となる。

【0037】

なお、既述したように、回転噴射体の全体の処理水の給水量を６リットル／min未満とすれば、処理効果を確保した状態での各噴射ノズルからの吐出量を確保し難くなり、２０リットル／minを越えては、回収する汚水の容量が多くなって、後処理に負担がかかることから、全体の処理水の給水量は、６〜２０リットル／min、望ましくは、６〜１２リットル／minの範囲内が望ましい。

【0038】

そして、回転噴射体全体の処理水の給水量を６〜２０リットル／minの範囲内として、それぞれの吐出量を０．２〜３．５リットル／minの範囲内とする噴射ノズルは、最大の場合の総数は、４０個であって、噴射ノズルは、４０個以下となり、また、各噴射ノズルの回転軌跡は、噴射ノズルの使用個数に対応して、同心的な４０個以下となる。

【0039】

そしてさらに、回転噴射体のノズルアームの本数を４〜８本とし、各ノズルアームにおける噴射ノズル数を５個以下としておけば、各ノズルアームの回転中心からの長さ寸法をコンパクトな略１５０mmとしていても、噴射ノズルの回転軌跡のピッチを密接に処理面をカバーできるような２．３〜４．８mmの範囲内とする構成としても、容易に、ノズルアームにおける高圧な処理水の流路の強度や回転構造の配置スペースを確保しつつ、各噴射ノズルを配置できる。

【0040】

すなわち、まず、回転噴射体のノズルアームの本数が、５〜８本の８本とし、各ノズルアームにおける噴射ノズル数を５個以下の５個とすれば、多数の噴射ノズルの回転軌跡を同心的な最大の４０個に、容易に、各噴射ノズルを配設できる。

【0041】

そして、各ノズルアームの回転中心からの長さ寸法をコンパクトな略１５０mmとしていても、各ノズルアームにおける高圧の処理水の流路の強度や回転構造の配置スペースを考慮すれば、その配置スペースは、各ノズルアームの半径方向の略９０mm程度の幅寸法のエリアとなり、その程度のエリアであっても、最大５個の噴射ノズルは容易に配置可能となる。

【0042】

そのため、各噴射ノズル相互の回転軌跡のピッチを、密接に処理面をカバーできるように、２．３〜４．８mmの範囲内とし、多数の噴射ノズルの回転軌跡を同心的な４０個以下としていても、ノズルアームの略１５０mmの長さ寸法内での設置スペースとして確保可能な略９０mm程度の半径方向に沿った幅寸法の範囲内に、所定数の噴射ノズルを配置させつつ、所定のピッチとした多数の円弧状の回転軌跡を確保するように、回転噴射体を構成でき、さらに、回転噴射体をコンパクトに構成することができる。

【0043】

なお、多数の噴射ノズルの回転軌跡としては、同心的な円弧を２０個以上配設できる構成であれば、各ノズルアームにおける略９０mm程度の半径方向に沿った幅寸法の範囲内に、高圧の処理水を噴射する５個以下の５個とした噴射ノズルを配設し、ノズルアームの最小本数の４本とする構成としても、密接に処理面をカバーできるように、容易に、噴射ノズルの回転軌跡のピッチ（半径寸法差）を、２．３〜４．８mmの範囲内とすることができる。そして、回転軌跡が同心的な円弧を１９個以下とする構成であれば、噴射ノズルの回転軌跡のピッチが、４．８mmを越えてしまい、噴射ノズルから噴射する処理水の処理面上での軌跡の隙間が多くなって、処理効果を低下させてしまう。

【0044】

また、ノズルアームの本数は、３本以下では、各ノズルアームに５個の噴射ノズルを配設しても、ハウジングの静止状態での各噴射ノズルの回転軌跡として、２０個の円弧を確保できず、また、９本以上では、各ノズルアームが相互に接近し過ぎて、回転噴射体の回転中心付近に吸引手段の負圧を作用させ難くなって（換言すれば、各ノズルアーム自体を送風機のファンのように作用させ難くなって）、処理後の汚水を処理面上に残してしまう虞れが生じ、さらに、回転噴射体の重量増加を招いて、回転速度を低下させたり、回転噴射体の支持構造の強度に影響を与えてしまう。そのため、ノズルアームの本数は、４〜８本、望ましくは、５〜８本以内が望ましい。

【0045】

＜請求項９の説明＞
そして、本発明に係る表面処理装置では、前記回転噴射体は、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡のピッチを、均等とするように、前記各噴射ノズルを配設することが望ましい。

【0046】

このような構成では、移動させつつ回転する回転噴射体の各噴射ノズルから処理水を噴射すれば、一層、均等に処理面に対して処理水を当てることができて、効率的に処理することができる。

【0047】

＜請求項１０の説明＞
さらに、本発明に係る表面処理装置では、前記各噴射ノズルは、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際に、それぞれ、他の円弧と重ならない円弧の軌跡とするように、配設することが望ましい。

【0048】

このような構成では、処理水を噴射する各噴射ノズルが、それぞれ、相互に重ならずに、円弧（移動すれば螺旋状となる）の軌跡を描くように、回転するため、一層、均等に処理水を処理面に当てることができ、処理面の削りを抑えつつ効果的に処理することができる。

【0049】

＜請求項１１の説明＞
さらにまた、本発明に係る表面処理装置では、使用する前記噴射ノズルは、吐出量を異ならせた複数種類使用してもよく、その場合には、吐出量を大きくする前記噴射ノズルは、吐出量を小さくする前記噴射ノズルより、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記各噴射ノズルの回転軌跡において、前記回転中心から離れた外側の円弧となるように、配設することが望ましい。

【0050】

このような構成では、回転軌跡の円弧が外側となる噴射ノズルは、回転中心から離れたノズルアームの先端側に配置されることとなって、内側の噴射ノズルより、回転方向の移動速度と移動量が大きくなってしまう。そのため、回転中心から離れた外側の噴射ノズルの吐出量を、内側の噴射ノズルの吐出量より大きくすれば、それぞれの回転軌跡の円弧の単位長さ当たりの処理水の吐出量を、極力、均等化できる。

【0051】

その結果、回転中心からの噴射ノズルの配置距離の遠近の影響を無くして、一回転当たりの回転噴射体における処理面の各部位に対する処理水の圧力（容量・衝撃力）を、均等化でき、一層、処理面の削りを抑えつつ効果的に処理することができる。

【0052】

＜請求項１２の説明＞
また、本発明に係る表面処理装置では、前記ハウジングは、
前記回転噴射体の上方を覆う天井壁部と、前記回転噴射体の周囲を全周にわたって覆う周壁部と、を設けて構成するとともに、
前記周壁部の下端に、下端を前記処理面と接触させつつ撓み可能な円筒状のシール材を配設させて構成し、
前記シール材が、各々、可撓性を有した線材を、下端を自由端とするように束ねて、円筒状とした外周側の外側ブラシ層と、内周側の内側ブラシ層と、を備えて構成され、
前記外側ブラシ層は、前記内側ブラシ層より、線材の長さを長く、かつ、線材の曲げ剛性を低くして、構成することが望ましい。

【0053】

このような構成では、ハウジング内の密閉状態を確保し易く、吸引手段が、外側ブラシ層と内側ブラシ層との各々の線材間の小さな隙間を経てハウジング外の空気を吸引しつつ、処理後の処理水や処理面付着物の混ざり合った汚水を、ハウジング外に漏らしたり、処理面上に残すことを抑えて、円滑に、吸引できる。すなわち、このような構成では、曲げ剛性の高い内側ブラシ層が、ハウジング内の密閉性を確保でき、そして、ハウジングの移動に伴って、内側ブラシ層の先端が処理面から離れても、曲がり易い外側ブラシ層が、撓みつつ、処理面と内側ブラシ層との間を塞いで、ハウジング内の密閉状態を確保できる。

【0054】

勿論、シール材が、ブラシから形成されているため、処理面上に小石等の突出物があっても、円滑に撓んで、表面処理装置を処理面に沿って移動させることができる。

【0055】

＜請求項１３の説明＞
そして、シール材が、外側ブラシ層と内側ブラシ層とを設けて構成される場合、前記外側ブラシ層と前記内側ブラシ層との間には、前記外側ブラシ層の内側面を覆い可能とした前記内側ブラシ層より長い円筒状とし、かつ、撓み可能としたゴムシートを、配設させてもよい。

【0056】

このような構成では、ゴムシートが、内側ブラシ層と外側ブラシ層とを分離させておくことができることから、外側ブラシ層が内側に曲がって内側ブラシ層に進入するような曲げ変形を防止できる。そのため、内側ブラシ層の密閉性能を阻害せずに、内側ブラシ層が処理面の突出物に押されて処理面から上方に離れても、長期間にわたって、円滑に、外側ブラシ層が、密閉性能を補完するように、処理面と内側ブラシ層との間を塞いで、ハウジング内の密閉状態を確保できる。

【0057】

勿論、このような構成では、ゴムシート自体も、処理面に接触して撓みつつ、ハウジング内の密閉状態を確保できるため、シール材の密閉性向上にも寄与できる。

【0058】

＜請求項１４の説明＞
さらに、本発明の除染処理方法では、放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のｃｐｍ値を低減させる除染処理方法であって、
前記吸引手段の吸引量を３０〜４０ｍ^３／minの範囲内、前記回転噴射体の回転数を１８００〜２０００回／minの範囲内、前記処理水吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内、望ましくは、１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内、移動速度を３〜８ｍ／minの範囲内として、
請求項５乃至請求項１２に記載の前記表面処理装置を、作動させつつ処理面上を移動させて行うことを特徴とする。

【0059】

このような方法では、処理前の処理面の放射線量が数千ｃｐｍとしていても、２００ｃｐｍ以下とすることができる。

【0060】

＜請求項１５の説明＞
さらに、この場合の除染処理方法でも、処理水の少なくとも一部には、吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液、を使用することが望ましい。

【0061】

このような方法では、既述したように、汚水を処理水として再使用でき、除染現場での新たな処理水の準備や汚染物の廃棄処理量を軽減できて、現場での除染作業を効率的に行うことができる。

【発明の効果】

【0062】

したがって、本発明に係る除染処理方法とその方法に使用可能な表面処理装置では、処理面の表面の削りを抑えて、効果的に処理面の除染処理を行え、かつ、処理水の使用量を抑えることができて、回収した汚水の後処理が容易となる。

【図面の簡単な説明】

【0063】

【図1】本発明の一実施形態における除染処理方法に使用する表面処理装置の使用状態を説明する図である。

【図2】実施形態の表面処理装置の概略側面図である。

【図3】実施形態の表面処理装置の概略平面図である。

【図4】実施形態の表面処理装置の概略部分縦断面図である。

【図5】実施形態の表面処理装置の回転噴射体付近の概略部分縦断面図である。

【図6】実施形態の表面処理装置の回転噴射体付近の概略部分底面図である。

【図7】実施形態の回転噴射体の分解概略部分断面図である。

【図8】実施形態の表面処理装置のハウジングのシール材付近を拡大した概略部分縦断面図である。

【図9】実施形態の回転噴射体の噴射ノズルの回転軌跡を説明する図である。

【図10】比較例としての回転噴射体の噴射ノズルの回転軌跡を説明する図である。

【図11】実施形態の変形例としての回転噴射体の噴射ノズルの回転軌跡を説明する図である。

【図12】実施形態の他の変形例としての回転噴射体の噴射ノズルの回転軌跡を説明する図である。

【図13】回転噴射体のノズルアームの本数を変えた場合のノズルアーム間の空隙の変化を示す説明図である。

【図14】回転噴射体のノズルアームの本数を変えた場合の噴射ノズルの配設状態を表したモデル図である。

【図15】実施形態の表面処理装置の変形例のシール材を示す概略部分縦断面図である。

【図16】噴射ノズルにおける開口径、吐出量、及び、吐出圧の関係を示すグラフ図である。

【図17】実施形態の除染結果を示すグラフ図である。

【図18】実施形態の除染処理方法の変形例を説明する図である。

【発明を実施するための形態】

【0064】

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明すると、実施形態の除染処理方法に使用する表面処理装置１０は、図１に示すように、処理面１を処理（除染処理）する処理現場に、高圧の処理水ＷとエアＡとを供給する処理用流体供給車ＰＣと、処理後の処理水Ｗと処理面１に付着した付着物とが混ざり合った汚水ＤＷを吸引するためのバキューム車ＶＣと、を伴って出向き、処理面１を処理するように使用する。なお、実施形態の表面処理装置１０は、有害な放射性物質が処理面１に付着している場合に、その処理面１から、有害物質の減少率（処理前の有害物質の量に対する処理後の有害物質の減少した量の割合）を大きくして、有害物質を除去できるものであって、除染装置とも言える。

【0065】

処理用流体供給車ＰＣは、表面処理装置１０に対し、処理水供給ホースＨＷを経て、最大、約３０リットル／min程度の給水量で、２８０Ｍｐａまでの吐出圧として処理水Ｗを供給でき、また、エア供給ホースＨＡを経て、表面処理装置１０の後述するエアモータ４７を２０００回／min程度回転できる圧力と容量のエアを供給できるように構成されている。なお、実施形態の場合、処理水Ｗは、水道水等の通常の水が使用されている。さらに付言すれば、処理水Ｗとしては、汚水ＤＷを、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液ＣＷが、使用されている。

【0066】

バキューム車ＶＣは、表面処理装置１０から、吸引ホースＨＶを経て、４０ｍ^３／min程度の風量を吸引できるように構成されている。

【0067】

また、実施形態のバキューム車ＶＣには、処理後の処理水Ｗと処理面１に付着した付着物とが混ざり合った汚水ＤＷを後処理する後処理装置９０が、搭載されている。後処理装置９０は、吸引した汚水ＤＷを溜める回収タンク９１と、処理した後の上澄み液ＣＷを処理用流体供給車ＰＣに供給可能に貯留タンク９５と、処理槽９２と、を備えて構成されている。

【0068】

処理槽９２では、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とがなされる。実施形態では、沈殿処理において、沈殿処理槽９３に回収タンク９１からの汚水ＤＷを流入させ、そして、まず、汚水１リットル当たり０．５〜５vol％のゼオライトを添加して、５〜１０分程度撹拌し、ゼオライトに放射性物質を吸着させる。ついで、所定時間（１０分程度）、静置させ、その後、汚水１リットル当たり５００〜５０００mgのカルシウム系等の凝集剤を添加して、５〜１０分程度撹拌し、所定時間（１０分程度）、静置させて、沈殿物と初期上澄み液とを分離させる。

【0069】

その後、その初期上澄み液を、限外濾過装置（ＵＦ装置）を設けた濾過処理槽９４に投入して、濾過し、貯留タンク９５に流入させることとなる。なお、ＵＦ装置は、分画分子量を10,000〜500,000程度としたＵＦ膜が使用されている。

【0070】

また、濾過処理槽９４と貯留タンク９５との間のラインに、活性炭の充填槽に濾過処理槽９４からの上澄み液ＣＷを通して、さらに、濾過処理してもよい。

【0071】

貯留タンク９５に貯留された上澄み液ＣＷは、十分、放射線量が小さく、そのまま排水してもよいが、実施形態の場合には、処理水Ｗとして再利用している。そして、貯留タンク９５に貯留された上澄み液ＣＷは、適宜、処理用流体供給車ＰＣの図示しない処理水タンクに送給しておく。

【0072】

なお、沈殿処理槽９３に沈殿した沈殿物とゼオライトとは、放射線量が高いことから、濾過布等で濾過し、その際の上澄み液は回収タンク９１側に戻し、残った固定物は、少量の汚染物となり、廃棄処理するように、別容器に封入して、所定の保管場所に移送する。

【0073】

表面処理装置１０は、図２〜４に示すように、フレーム１２に対し、車輪２０、操作杆２２、回転噴射体７０を保持したハウジング５１を組み付けて構成されている。ハウジング５１の上面には、回転噴射体７０を支持して回転させる支持シャフト６５に処理水Ｗを供給し、かつ、支持シャフト６５を回転駆動させるための供給ヘッド部４０が、配設されている。

【0074】

フレーム１２は、前後方向に沿って左右に配設される左側部１３と右側部１４とを備えるとともに、左側部１３と右側部１４との前後両端付近を相互に連結する前側部１５と後側部１６とを備えて構成されている。

【0075】

左側部１３と右側部１４との前端付近には、それぞれ、前軸受部１８（１８ａ，１８ｂ）に回動自在に支持された車輪２０の前輪２０ａが配設されている。左側部１３と右側部１４との後端付近には、それぞれ、後軸受部１９（１９ａ，１９ｂ）に回動自在に支持された車輪２０の後輪２０ｂが配設されている。表面処理装置１０は、これらの車輪２０（前輪２０ａ，２０ａ、後輪２０ｂ，２０ｂ）を転動させて、処理面１上を、前後方向に沿って移動できる。

【0076】

操作杆２２は、後側部１６の左右方向の中央付近から斜め後上方向に延ばす支柱部２３と、支柱部２３の後端で左右に延びるグリップ部２４と、を備えて構成されている。表面処理装置１０の移動時には、グリップ部２４を把持して車輪２０を転動させるように押したり引いたりすれば、表面処理装置１０を処理面１に沿って前後に移動させることができる。

【0077】

操作杆２２のグリップ部２４には、表面処理装置１０の作動用の操作スイッチ２５が配設されている。操作スイッチ２５は、供給ヘッド部４０の回転駆動部４５を構成するエアモータ４７へのエアＡの供給のON・OFFの切り替えと、供給ヘッド部４０への処理水Ｗの供給のON・OFFの切り替えと、を同時に行なえるもので、エア作動弁を組み付けて構成されている。なお、このエア作動弁と、後述する処理水Ｗの切替弁３６を作動させる図示しないエアシリンダと、には、相互を連結する図示しないエア流路が接続されるとともに、エアＡの補助流路３０の各流路３０ａ，３０ｂ，３０ｃが、適宜、接続され、操作スイッチ２５の作動ON操作により、供給ヘッド部４０のエアモータ４７へエアＡが供給されるとともに、切替弁３６が、処理水Ｗを、迂回用流路３７側から供給ヘッド部４０に連なる主流路３８側へ供給するように、切り替え動作することとなる。

【0078】

なお、処理用流体供給車ＰＣから延びるエア供給ホースＨＡは、表面処理装置１０の右後部に設けられたエア用継手２７に接続される。そして、エアＡは、操作スイッチ２５が作動ON操作されていれば、エア用継手２７からエア用流路２８の主流路２９における流路２９ａ，２９ｂ，２９ｃ，２９ｄを経て、供給ヘッド部４０に連なるエア用ホース２９ｅに流れることとなる。

【0079】

図３に示す符号３１の部材はフィルタ、符号３２の部材はレギュレータ、符号３３の部材はルブリケータ、符号３４の部材は流量調整弁である。また、図２の符号４９の部位は、エアモータ４７へ流入したエアＡの排気口である。

【0080】

また、処理用流体供給車ＰＣから延びる処理水Ｗは、操作杆２２の支柱部２３の中間部位に設けられた切替弁３６の処理水用継手３５に接続される。そして、処理水Ｗは、操作スイッチ２５が作動ON操作されていれば、切替弁３６の切り替え動作により、切替弁３６の第２ニップル部３６ｂに流れ、第２ニップル部３６ｂに接続された主流路３８を経て、供給ヘッド部４０へ流れることとなり、操作スイッチ２５が作動ON操作されていなければ、切替弁３６が切り替え動作を行わないことから、切替弁３６の第１ニップル部３６ａに流れ、第１ニップル部３６ａに接続された迂回用流路３７を経て、バキューム車ＶＣに連なる吸引ホースＨＶを接続させた吸引ダクト６３内に流れることとなる。

【0081】

ハウジング５１は、略円板状の天井壁部５２と、天井壁部５２の外周縁から円筒状に下方に延びる周壁部５３と、を備えて構成され、天井壁部５２の上面をフレーム１２の左側部１３と右側部１４とに連結固定させている。そして、天井壁部５２の中央における左側部１３と右側部１４との間に、円柱状に突出するように供給ヘッド部４０が上方に突設され、また、周壁部５３の前部側に、吸引ホースＨＶを接続させる吸引ダクト６３を上方に突設させている。

【0082】

吸引ダクト６３は、バキューム車ＶＣやバキューム車ＶＣに連結される吸引ホースＨＶとともに、処理後の処理水Ｗや処理面付着物の混ざり合った汚水ＤＷを吸引する吸引手段６２を構成するものである。そして、吸引ダクト６３には、既述したように、処理水Ｗの迂回用流路３７が接続され、処理水Ｗが表面処理装置１０に供給されている状態の非処理時には、処理水Ｗは、回転噴射体７０から噴射されずに、切替弁３６と迂回用流路３７とを経て、吸引ダクト６３に排出され、そして、吸引ホースＨＶを経てバキューム車ＶＣに回収される。

【0083】

なお、吸引ダクト６３は、図３に示すように、回転噴射体７０が上方から見て反時計回り方向（図６の底面図から見れば時計回り方向）で回転することとなっており、その回転に伴う汚水ＤＷの遠心力を利用して、効率的に汚水ＤＷを吸引できるように、周壁部５３の略接線となって回転噴射体７０の回転方向に直線的に延びるような方向、具体的には、周壁部５３の右前付近から左前方向に斜めに向かう方向に、突設され、さらに、吸引ダクト６３は、図４に示すように、前方の突出した後に上方に延びて、吸引ホースＨＶを接続させるように構成されている。

【0084】

また、実施形態のバキューム車ＶＣ等を含めた吸引手段６２の吸引性能は、処理後の処理水Ｗや処理面付着物、さらには、処理面１から除去される微小な路面構成材（アスファルト片やコンクリート片等）の混ざり合った汚水ＤＷを、通常の路面の処理と相違して、処理面１に残さずに吸引できるように、処理水Ｗの使用量に対応して、設定されている。ちなみに、実施形態では、４０ｍ^３／min程度の風量を吸引できる性能としているが、１００〜２００ｍ^３／minの高性能としてもよい。但し、吸引性能が向上しても、除染性能にはあまり差が生じない。

【0085】

また、周壁部５３の下端外周には、図５，８に示すように、下端５５ａを処理面１と接触させつつ撓み可能な円筒状のシール材５５が、ねじ止めや溶接等の固定手段により、配設されている。シール材５５は、各々、可撓性を有したポリアミド等の線材５６，５８を、下端５６ｂ，５８ｂを自由端とするように、束ねて、円筒状とした外周側の外側ブラシ層５７と、内周側の内側ブラシ層５９と、を備えて構成されている。そして、外側ブラシ層５７が、線材５６を、内側ブラシ層５９の線材５８より長くし、また、線材５６の曲げ剛性を、内側ブラシ層５９の線材５８より低くして、構成されている。

【0086】

ちなみに、実施形態の場合、線材５６，５８は、同じポリアミド製の線材として、外側ブラシ層５７の線材５６が、直径を０．３mmとし、内側ブラシ層５９の線材５８が、直径を０．６mmとして、長さに５mm程度の差を設けて、上端５６ａ，５８ａ側を保持具５４に束ねられている。

【0087】

なお、外側ブラシ層５７と内側ブラシ層５９とは、６mm程度の厚さ寸法Ｔとなるように、それぞれ、線材５６，５８を束ねて形成されている。

【0088】

また、シール材５５のハウジング５１への取付状態は、内側ブラシ層５９の下端５９ａが、処理面１に接触する状態、換言すれば、車輪２０の下面と一致するように、取り付けられている。

【0089】

また、天井壁部５２の中央の供給ヘッド部４０は、図４に示すように、上端側に、処理水Ｗの主流路３８を接続させて、内部に処理水Ｗを流す流入路部４１を配設させ、流入路部４１の下方では、軸受部４３を設けて、上下方向に延びる支持シャフト６５を回転可能に支持している。また、供給ヘッド部４０は、軸受部４３の下方に、支持シャフト６５を回転させるように、エアモータ４７を設けてなる回転駆動部４５が配設されている。回転駆動部４５には、エアＡを供給するエア用ホース２９ｅが接続されている。

【0090】

支持シャフト６５は、上下方向に沿って貫通する処理水流路６６を中心に配設させ、外周側に、エアモータ４７のロータ４８を結合させている。そして、支持シャフト６５は、エアモータ４７にエアＡが供給されれば、エアモータ４７がロータ４８を回転させ、ロータ４８の回転に伴い、回転することとなる。そして、支持シャフト６５は、供給ヘッド部４０の流入路部４１からの処理水Ｗを、処理水流路６６の上端の流入口６６ａから流入させ、下端外周に設けた複数の流出口６６ｂ（図５参照）から流出させることとなる。

【0091】

なお、支持シャフト６５の下端６５ａは、図５に示すように、下狭まりのテーパ面として、締結具６８を締結させて、回転噴射体７０の保持ベース７１におけるボス部７２を締結させている。そして、支持シャフト６５は、回転噴射体７０の回転中心ＲＣを、その中心で構成することとなる。

【0092】

回転噴射体７０は、図５〜７に示すように、保持ベース７１、噴射ノズル８０、スペーサ８５、及び、ノズルカバー８７を備えて構成されている。保持ベース７１は、ステンレス等の金属製とし、支持シャフト６５の下端６５ａと締結されるボス部７２を中央に備えて、ボス部７２から複数（実施形態では８本）のノズルアーム７３を放射状に均等に突設させている。

【0093】

各ノズルアーム７３は、内部に、支持シャフト６５の流出口６６ｂからの処理水Ｗを、ボス部７２の内周面側から流入させる横流路７３ａと、横流路７３ａから分岐して下方に延びる複数の分岐流路７３ｂと、を備えて構成されている。各分岐流路７３ｂは、噴射ノズル８０に処理水Ｗを供給する流路であり、噴射ノズル８０の配置位置に対応して、形成されている。

【0094】

なお、横流路７３ａのボス部７２から離れた先端は、封止プラグ７５によって閉塞されている。

【0095】

噴射ノズル８０は、各ノズルアーム７３に螺合させて固定される筒状のオリフィス部８１と、オリフィス部８１の下端に螺合させて結合されるチップ部８２と、チップ部８２の保護を図るプロテクタ部８３と、を備えて構成されている。

【0096】

実施形態の場合、オリフィス部８１とチップ部８２とは、ステンレス等の金属として、プロテクタ部８３は、ポリエチレン等の合成樹脂から形成されている。また、プロテクタ部８３は、ノズルカバー８７の底壁部８７ｂから構成されて、各噴射ノズル８０のチップ部８２の下方を覆うように、共用されている。

【0097】

ノズルカバー８７は、既述したように、ポリエチレン等の合成樹脂製として、保持ベース７１の下方を、支持シャフト６５の締結具６８を含めて、覆う底壁部８７ｂと、底壁部８７ｂの縁から上方に延びて、保持ベース７１の外形と一致する側壁部８７ａと、を備えて構成されている。

【0098】

スペーサ８５は、ポリアセタール等の合成樹脂から形成されて、ノズルカバー８７と保持ベース７１との間に配設されて、ノズルカバー８７の底壁部８７ｂが噴射ノズル８０のプロテクタ部８３を形成するように、底壁部８７ｂをチップ部８２の下方に接近させて配設させるために、使用され、保持ベース７１の外形形状と一致する筒形状に形成されている。

【0099】

なお、スペーサ８５は、所定の複数のボルト８６（図６参照）を利用して、保持ベース７１に固定され、ノズルカバー８７は、所定の複数のボルト８８を利用して、スペーサ８５に取り付けられている。

【0100】

また、ノズルカバー８７は、処理面１の凹凸等から、噴射ノズル８０、特に、チップ部８２を保護するために配設されており、各チップ部８２の下方のプロテクタ部８３は、処理水Ｗを噴射されるまでは、平板状の底壁部８７ｂのままであるが、処理水Ｗが噴射されれば、その処理水Ｗ自体で、処理水Ｗを噴射する貫通穴８３ａが形成されることとなる（図５，８参照）。

【0101】

そして、処理面１の処理時の噴射ノズル８０と処理面１との距離ＣＬ、詳しく述べれば、プロテクタ部８３と処理面１との距離ＣＬは、５〜２０mmの範囲内となるように、設定されている。実施形態の場合の距離ＣＬは、７mmとしている。

【0102】

なお、この噴射ノズル８０と処理面１との距離ＣＬは、供給ヘッド部４０をハウジング５１の天井壁部５２に取り付ける際の間に介在されるスペーサの量を増減させれば、調整することができる。すなわち、回転噴射体７０が支持シャフト６５の下端６５ａに支持され、支持シャフト６５が軸受部４３により供給ヘッド部４０に保持されていることから、スペーサの量を調整しつつ、供給ヘッド部４０を天井壁部５２に取り付ける高さを調整すれば、噴射ノズル８０と処理面１との距離ＣＬを調整することができる。

【0103】

また、実施形態では、図６，９に示すように、合計３０個の噴射ノズル８０を、所定のノズルアーム７３に、３個乃至４個設けている。各ノズルアーム７３は、回転噴射体７０をコンパクトに構成できるように、回転中心ＲＣからの長さ寸法ＬＮを、１５０mmとし、噴射ノズル８０を配設するためのノズル配設エリア７４の幅寸法ＢＮを略９０mmとしている。ノズル配設エリア７４は、支持シャフト６５を締結具６８により締結でき、かつ、処理水Ｗを流入可能な横流路７３ａを形成できるボス部７２側の寸法と、封止プラグ７５を結合させるねじ部位をノズルアーム７３の先端に設ける寸法と、を除外して、噴射ノズル８０のオリフィス部８１を螺着して、噴射ノズル８０を配設できるエリアであり、配設できる噴射ノズル８０の中心位置（チップ部８２の噴射口８２ａの開口中心の位置）を基準として示してある。

【0104】

また、実施形態の噴射ノズル８０は、処理水Ｗの吐出圧を２２５Ｍｐａとした場合に０．５２リットル／minの吐出量となるものを使用しており、チップ部８２の先端の噴射口８２ａの開口径は、約０．１５mmとしている。

【0105】

なお、噴射ノズル８０は、水の吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内として、０．２〜３．５リットル／minの吐出量のものであればよく、噴射口８２ａの開口径で換算すれば、０．０７〜０．４mm（正確には、０．０７〜０．３７mm程度）の範囲内のものが使用可能である。

【0106】

ちなみに、図１６に、噴射ノズルにおける開口径、吐出量、及び、吐出圧の関係を示すグラフ図を示す。このグラフ図から解るように、２８０Ｍｐａの吐出圧では、開口径０．３７mm以下でないと、３．５リットル／min以下の吐出量を確保できない。

【0107】

さらに、この種の噴射ノズル８０では、ノズルアーム７３へねじ結合でオリフィス部８１を取り付ける際、１８mm程度以上の間隔を明けて配設しないと、ねじ締め工具が入らず、そして、噴射ノズル８０とノズルアーム７３との組付強度や高圧な処理水Ｗの流路の強度を併せて考慮すれば、一本のノズルアーム７３のノズル配設エリア７４では、噴射ノズル８０の配設個数は５個が限度となる。

【0108】

また、実施形態の３０個の各噴射ノズル８０の配置状態は、図９のＡ〜Ｃに示すように、ハウジング５１の移動を停止させた状態で回転噴射体７０を回転させた際、噴射ノズル８０の回転軌跡（各噴射ノズル８０の噴射口８２ａの開口中心での回転軌跡）ＴＲが、同心的な３０個の円弧を描き、円弧相互のピッチ（半径寸法差）Ｐを３．１mmとして、均等なピッチＰとなるように、設定されている。

【0109】

そして、実施形態の表面処理装置１０では、ハウジング５１の移動を６ｍ／min（１００mm／s）とし、回転噴射体７０の回転を１８００回転／min（３０回転／s）とし、１０回転した毎の３０個の円弧の回転軌跡ＴＲをずらしつつ重ねて記載すれば（換言すれば、回転軌跡ＴＲを３３．３３３…（＝１００／３）mm毎にずらして重ねて記載すれば）、図９のＤ，Ｅに示すように、大きな隙間の無い緻密な軌跡となる（なお、この記載方法は、図１０のＢ、図１１のＤ、及び、図１２のＤでも同様に、回転軌跡ＴＲを３３．３３３…（＝１００／３）mm毎にずらして重ねて記載している）。

【0110】

勿論、実際には、回転噴射体７０は、１８００〜２０００回／minの範囲内の回転数で回転し、１秒間では３０回転以上で回転することから、さらに一層、処理面１は、各噴射ノズル８０から噴射する細い針状の処理水Ｗを万遍無く当てられて、処理されることとなる。

【0111】

ちなみに、回転噴射体７０が１８００〜２０００回／min程度回転すると、回転噴射体７０の外周端側に配置される噴射ノズル８０の回転半径は、約１２７mmであり、その周長は、１２７mm×２×π＝約０．８０ｍ、回転中心側の噴射ノズル８０の回転半径は約３５mmであり、その周長は、３５mm×２×π＝約０．２２ｍ、となる。そのため、１８００〜２０００回／min程度回転すると、外周端側の噴射ノズル８０は、１４４０〜１６００ｍ／min、回転中心側の噴射ノズル８０は、３９６〜４００ｍ／minの高速度で、処理面１上を移動することとなる。

【0112】

なお、図１０には、比較例の回転噴射体７００として、噴射ノズル８０を、計２０個とし、ノズルアーム７３に３個乃至５個配設させ、回転噴射体７００を回転させた際の同様な回転軌跡ＴＲを同心的な１８個とした例を挙げている。このような比較例の回転噴射体７００の回転軌跡ＴＲは、５mmを越えるピッチＰの部分があり、大きな隙間の部位が発生していることがわかる。

【0113】

実施形態の表面処理装置１０を使用して処理面１を除染処理する場合には、現場にて、まず、処理用流体供給車ＰＣから延びるエア供給ホースＨＡと処理水供給ホースＨＷとを表面処理装置１０のエア用継手２７や切替弁３６の処理水用継手３５に接続させるとともに、バキューム車ＶＣから延びる吸引ホースＨＶを吸引ダクト６３に接続させる。そして、処理用流体供給車ＰＣとバキューム車ＶＣとを作動させ、表面処理装置１０に所定のエアＡと処理水Ｗとを供給させて、操作スイッチ２５をON操作し、回転噴射体７０を１８００〜２０００回／minの回転数で回転させつつ、例えば、２２５Ｍｐａの吐出圧の処理水Ｗを供給して、６ｍ／minの移動速度で前方移動させれば、各噴射ノズル８０から処理水Ｗが噴射されて、処理面１を処理できる。

【0114】

この時、実施形態では、各噴射ノズル８０が吐出圧を２２５Ｍｐａとした際の吐出量を０．５２リットル／minとし、かつ、処理面１との距離ＣＬを７mmとして、各噴射ノズル８０から処理水Ｗが噴射される。

【0115】

このような処理水Ｗの噴射は、１００〜２８０Ｍｐａの範囲内の２２５Ｍｐａとした高圧でも、各噴射ノズル８０からの吐出量を少量の０．５２リットル／min程度にできることから、極力、小径の針状（髪の毛状）の水柱状として、処理水Ｗを処理面１に衝突させることができる。そのため、このような処理水Ｗの噴射は、処理面１をはつること（削ること）を抑えて、放射性物質が付着した付着物を細かくしつつ処理面１から除去して回収することができる。

【0116】

すなわち、実施形態の除染処理方法では、鋼球を利用するショットブラスト、サンドブラスト、研磨機を使用するのではなく、処理水Ｗとして、水道水等の水を利用できることから、少量の処理水Ｗの圧力による衝撃力によって、放射能物質が付着した付着物を細かくでき、かつ、細かくなった微粒子状の汚物を、霧状の処理水Ｗにより、濡らす、あるいは、水で包みこんで、吸引手段６２で吸引可能な流動体（霧状の）汚水ＤＷにできる。そして、放射性物質を含んだ微粒子状の流動体の汚水ＤＷとなったならば、素早く吸引手段６２で吸引するため、ハウジング５１外に放射能物質の付着物や処理水Ｗを漏らすことなく、すなわち、再度、処理面１に放射能物質を付着させることなく、効率的に、処理面１を除染できる。

【0117】

また、回転噴射体７０の全体の処理水Ｗの給水量が、２０リットル／min以下の１５．６リットル／minとし、かつ、各噴射ノズル８０からの吐出量が０．２〜３．５リットル／minの範囲内の０．５２リットル／min程度としていれば、吸引手段６２で吸引する処理後の汚水ＤＷの容量を、極力、少なくできる。

【0118】

なお、各噴射ノズル８０からの吐出量は、０．２リットル／min未満では、給水量を低減できるものの、処理水Ｗの衝撃力が小さくなり、処理面１からの付着物の分離が行い難くなって、処理効果を確保し難く、３．５リットル／minを越えては、全体の給水量が単に増加するだけで、処理効果の向上が図れず、処理後に回収する汚水ＤＷの容積が増えるだけとなって、好ましくなく、そのため、吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内とした状態での各噴射ノズルからの吐出量は、０．２〜３．５リットル／min、望ましくは、０．２〜１．０リットル／minの範囲内が望ましい。

【0119】

さらに、回転噴射体７０の全体の処理水Ｗの給水量が、２０リットル／minを越えては、回収する汚水ＤＷの容量が多くなって、後処理に負担がかかってしまう。

【0120】

また、噴射ノズル８０の処理面１との距離は、５mm未満では、処理面１に凹凸がある場合に噴射ノズル８０が損傷し易く、また、２０mmを越えれば、処理水Ｗが処理面１に到達する直前で衝撃力を低下させたような霧状となって、処理効果を低減させてしまうことから、噴射ノズル８０の処理面１との距離ＣＬは、５〜２０mmの範囲内、望ましくは、５〜１０mmの範囲内とすることが望ましい。

【0121】

なお、実施形態の除染処理方法では、各噴射ノズル８０からの処理水Ｗの吐出圧を１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内の２２５Ｍｐａとしたが、この吐出圧の範囲では、処理面を１〜２ｍｍ程度で削る場合が生ずるが、復元するための施工が不要な範囲であって、好適に、処理面１を除染することができる。逆に、処理面１の表面を均一に薄く削れることから、奇麗に洗浄した状態にできて、所定の摩擦抵抗を回復でき、路面としての機能向上を図ることも可能となる。ちなみに、処理面の種類が、インターロッキング、アスファルト、コンクリート、樹脂舗装、石畳等と種々異なっても、実施形態の表面処理装置１０を使用して、処理水Ｗの吐出圧を１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内で噴射して除染処理を行なえば、略９割程度の種々の処理面１を、２００ｃｐｍ以下に除染することができる。

【0122】

但し、上記の範囲とずれて、吐出圧は、１００Ｍｐａ以上、１２５Ｍｐａ未満の範囲内としたり、２２５Ｍｐａを越えた２８０Ｍｐａ以下の範囲内として、処理面１を除染処理してもよい。ちなみに、１００Ｍｐａ以上、１２５Ｍｐａ未満の範囲内の場合は、処理面の露出した表面に放射性物質が付着されている場合に、好適となる。２２５〜２８０Ｍｐａの範囲内とする場合には、処理面に凹凸があって、その凹部の深い内部の部位に、放射性物質が潜り込んで付着されている場合に、好適となるが、但し、処理面の削る量が増えることから、処理後のｃｐｍ値が大きく低減しない場合に限定使用する除染処理方法とすることが望ましい。

【0123】

実施形態の除染処理方法において、吸引手段６２で吸引した処理後の汚水ＤＷをさらに少量とする場合には、回転噴射体全体への処理水の給水量を６〜１２リットル／minの範囲内としてもよい。この場合、実施形態の吐出圧を２２５Ｍｐａとした際の吐出量を０．５２リットル／minとする噴射ノズル８０を使用する場合には、図１１の回転噴射体７０Ａ，７０Ｂのように、２０個の噴射ノズル８０の使用とすれば、回転噴射体７０Ａ，７０Ｂ全体への処理水Ｗの給水量を１０．４リットル／minとすることができる。あるいは、実施形態の回転噴射体７０のように、３０個の噴射ノズル８０を使用する場合、吐出圧を２２５Ｍｐａとした際の吐出量を０．２６リットル／min程度（開口径は０，０７５mm程度）の噴射ノズル８０を使用すれば、回転噴射体７０全体への処理水の給水量を６〜１２リットル／minの範囲内の７．８リットル／minとすることができる。さらに、図１２に示す回転噴射体７０Ｃのように、４０個の噴射ノズル８０を使用する場合でも、吐出圧を２２５Ｍｐａとした際の吐出量を０．２６リットル／min程度（開口径は０，０７５mm程度）の噴射ノズル８０を使用すれば、回転噴射体７０全体への処理水の給水量を６〜１２リットル／minの範囲内の１０．４リットル／minとすることができる。

【0124】

そして、回転噴射体７０，７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ全体への処理水Ｗの給水量を６〜１２リットル／minの範囲内とする除染処理方法では、吸引手段６２で吸引した処理後の汚水ＤＷが少量となって、後処理が容易となり、さらに、汚水ＤＷを回収して後処理する際の回収タンク９１、あるいは、汚水ＤＷ中の放射能付着物を沈殿分離させたり濾過する処理槽９２等をコンパクトにできて、除染現場で後処理が可能となって、除染処理を迅速に行うことが可能となる。

【0125】

さらに、実施形態の除染処理方法では、処理水Ｗとして、吸引手段６２で吸引された汚水ＤＷを、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液ＣＷ、を使用している。そのため、実施形態では、汚水ＤＷを処理水Ｗとして再使用でき、除染現場での新たな処理水Ｗの準備や汚染物の廃棄処理量を軽減できて、現場での除染作業を効率的に行うことができる。

【0126】

なお、使用する処理水Ｗは、その全量を上澄み液ＣＷを利用してもよいし、適宜、新たな水を使用してもよい。

【0127】

なお、本発明の除染処理方法では、噴射ノズル８０を、回転噴射体７０全体の処理水Ｗの給水量を２０リットル／min以下とする範囲内とする数の使用とし、かつ、各噴射ノズル８０の処理水Ｗの噴射によって処理面１の削れが抑制される範囲内として、回転噴射体７０の回転時の噴射ノズル８０の回転軌跡を相互にずらした配置とするように、回転噴射体７０に配設させた表面処理装置であれば、実施形態の表面処理装置１０を使用しなくとも、よい。例えば、ノズルアーム７３の長さ寸法ＬＮを１５０mm以下としたものを使用してもよい。そして、その場合でも、吸引手段６２を作動させて、各噴射ノズル８０と処理面１との距離を５〜２０mmの範囲内とし、吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａ、望ましくは、１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内とした処理水Ｗを各噴射ノズル８０から噴射しつつ、回転噴射体７０を回転させ、かつ、ハウジング５１を処理面１に沿って移動させつつ行なえばよい。

【0128】

但し、実施形態の表面処理装置１０では、細い針状とした処理水Ｗを噴射する噴射ノズル８０が、複数のノズルアーム７３に配設されて、回転し、その際の回転中心ＲＣからの回転軌跡ＴＲを３．１mmとしたピッチＰの多数の同心的な円弧としており、そのため、処理水Ｗを各噴射ノズル８０から噴射させて回転噴射体７０を回転させつつ、車輪２０を利用して、移動させれば、極力、均等に密接した針状の処理水を螺旋状に噴射できて、各噴射ノズル８０からの吐出量を０．５２リットル／min程度として少量としていても、効率的に、処理面１を処理できる。

【0129】

なお、回転軌跡ＴＲのピッチＰを２．３mm未満とする場合には、高圧で処理水Ｗを噴射する噴射ノズル８０が、相互に接近しすぎて、ノズルアーム７３の強度低下等を招いて、ノズルアーム７３に配置し難く、４．８mmを超えては、処理面１上での軌跡に隙間が空き（図１０参照）、噴射ノズル８０から噴射する処理水Ｗを、処理面１の全域に均等に当て難くなることから、回転軌跡ＴＲのピッチＰは、２．３〜４．８mm、望ましくは、２．５〜３．３mmの範囲内が望ましい。

【0130】

したがって、実施形態の表面処理装置（除染装置）１０では、処理面１の表面の削りを抑えて、効果的に処理面１を除染処理でき、かつ、処理水Ｗの使用量を抑えることができて、回収した汚水ＤＷの後処理が容易となって、有害物質（放射性物質）の除染に好適となる。

【0131】

そして、実施形態の表面処理装置１０では、回転噴射体７０が、３０個の噴射ノズル８０が、それぞれ、吐出圧を高圧下とした際での０．５２リットル／minの吐出量であって、全体の処理水Ｗの給水量が１５リットル／minとして、ノズルアーム７３を、回転中心ＲＣからの長さ寸法ＬＮを略１５０mmとした８本とし、回転中心ＲＣから均等な放射状に配設している。また、一本のノズルアーム７３に配設する噴射ノズル８０が、５個以下の３乃至４個とし、さらに、ハウジング５１の移動を停止させた状態で回転噴射体７０を回転させた際の噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲを、同心的な３０個の円弧とするように、配置されている。

【0132】

このような構成では、実用的な範囲内で好適に回転噴射体７０を形成できる。

【0133】

すなわち、全体の処理水の給水量を６〜２０リットル／minの範囲内の１５リットル／minとすれば、吸引手段６２で吸引した処理後の汚染された処理水Ｗ等が少量となって、後処理が容易となる。

【0134】

なお、全体の処理水の給水量を６リットル／min未満とすれば、処理効果を確保した状態での各噴射ノズル８０からの吐出量を確保し難くなり、２０リットル／minを越えては、処理後の処理水Ｗ等の回収量が多くなって、後処理に負担がかかることから、全体の処理水の給水量は、６〜２０リットル／min、望ましくは、６〜１２リットル／minの範囲内が望ましい。

【0135】

この場合、全体の処理水の給水量を、望ましい範囲の６〜１２リットル／minの内の、例えば、１２リットル／minとする場合では、噴射ノズル８０を３０個使用する回転噴射体であれば、各々の噴射ノズル８０の吐出量は、１２／３０リットル／minの０．４リットル／minとなって、回転噴射体は、既述したように、その吐出量に対応する噴射ノズル８０を３０個使用することとなる。

【0136】

また、全体の処理水の給水量を６〜２０リットル／minの範囲内として、それぞれの高圧下での吐出量を０．２〜３．５リットル／minの範囲内とする噴射ノズル８０は、最大の場合の総数は、４０個であって、噴射ノズルは、４０個以下となり、また、各噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲは、噴射ノズル８０の使用個数に対応して、同心的な４０個以下となる（図１２の回転噴射体７０Ｃ参照）。

【0137】

そしてさらに、回転噴射体７０のノズルアームの本数を４〜８本とし、各ノズルアーム７３における噴射ノズル数を５個以下としておけば、各ノズルアーム７３の回転中心ＲＣからの長さ寸法ＬＮをコンパクトな１５０mmとしていても、噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲのピッチＰを密接に処理面１をカバーできるような２．３〜４．８mmの範囲内とする構成としても、容易に、ノズルアーム７３における高圧な処理水Ｗの流路の強度や回転構造の配置スペースを確保しつつ、各噴射ノズル８０を配置できる。

【0138】

すなわち、まず、回転噴射体７０Ｃのように、ノズルアーム７３の本数が８本とし、各ノズルアーム７３における噴射ノズル８０の数を５個とすれば、多数の噴射ノズル８０の回転軌跡を同心的な最大の４０個に、容易に、各噴射ノズル８０を配設できる。

【0139】

すなわち、各ノズルアーム７３の回転中心ＲＣからの長さ寸法ＬＮをコンパクトな略１５０mmとしていても、各ノズルアーム７３における高圧の処理水Ｗの流路の強度や回転構造の配置スペース（ノズル配設エリア７４）を考慮すれば、そのノズル配設エリア７４は、各ノズルアーム７３の半径方向の略９０mm程度の幅寸法ＢＮのエリアとなり、その程度のエリア７４であっても、最大５個の噴射ノズル８０は、回転軌跡ＴＲを均等なピッチＰとしての２．３ｍｍを確保できて、容易に配置可能となる。

【0140】

そのため、回転噴射体７０Ｃのように、各噴射ノズル８０相互の回転軌跡ＴＲのピッチＰを、密接に処理面１をカバーできるように、２．３mとし、多数の噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲを同心的な４０個としていても、ノズルアーム７３の１５０mmの長さ寸法ＬＮ内でのノズル配設エリア７４として確保可能な略９０mm程度の半径方向に沿った幅寸法ＢＮの範囲内に、４０個の噴射ノズル８０を配置させつつ、所定のピッチＰとした多数の円弧状の回転軌跡ＴＲを確保するように、回転噴射体７０Ｃを構成でき、さらに、回転噴射体７０Ｃをコンパクトに構成することができる。

【0141】

また、変形例として、図１１に示す変形例の回転噴射体７０Ａ，７０Ｂのように、多数の噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲとして、ピッチＰを２．３〜４．８mmの範囲内として、同心的な円弧を２０個形成できれば、ノズルアーム７３の本数を５本や８本としても良い。ちなみに、回転噴射体７０Ａは、ノズルアーム７３の本数を８本として、所定のノズルアーム７３のノズル配設エリア７４に、２個乃至３個の噴射ノズル８０が配設され、回転噴射体７０Ｂは、ノズルアーム７３の本数を５本として、所定のノズルアーム７３のノズル配設エリア７４に、４個の噴射ノズル８０が配設されて構成されている。そして、これらの回転噴射体７０Ａ，７０Ｂでは、ともに、各噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲのピッチＰを均等な４．８ｍｍとしており、各噴射ノズル８０から処理水Ｗを噴射しつつ、回転して、移動すれば、図１１のＤ，Ｅに示すような、緻密な軌跡となって、効率よく処理できることが解る。

【0142】

なお、多数の噴射ノズルの回転軌跡としては、同心的な円弧を２０個以上形成できれば、各ノズルアームにおける略９０mm程度の半径方向に沿った幅寸法ＢＮの範囲内に、高圧の処理水を噴射する５個以下の５個とした噴射ノズルを配設し、ノズルアームの最小本数の４本とする構成としても、密接に処理面をカバーできるように、容易に、噴射ノズルの回転軌跡のピッチを、２．３〜４．８mmの範囲内の４．８mmとすることができる。

【0143】

しかし、回転軌跡として、同心的な円弧を１９個以下とするように構成すれば、図１０に示すような回転噴射体７００となり、噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲのピッチＰが、４．８mmを越えた５．０mmを超える部位が発生して、噴射ノズル８０から噴射する処理水Ｗの処理面１上での軌跡の隙間が多くなって、処理効果を低下させてしまうことから、好ましくない。

【0144】

また、ノズルアーム７３の本数は、３本以下では、各ノズルアーム７３に５個の噴射ノズル８０を配設しても、ハウジング５１の静止状態での各噴射ノズル８０の回転軌跡として、２０個の円弧を確保できず、また、９本以上では、各ノズルアーム７３が相互に接近し過ぎて、回転噴射体の回転中心ＲＣ付近に吸引手段６２の負圧を作用させ難くなって、処理後の汚水ＤＷを処理面１上に残してしまう虞れが生ずる。そのため、ノズルアーム７３の本数は、４〜８本、望ましくは、５〜８本の範囲内が望ましい。

【0145】

ちなみに、図１３に、ノズルアーム７３の本数を増やした場合におけるノズルアーム７３間の空隙ＳＡの大きさを示した。この図から解るように、ノズルアーム７３の回転する面積（１５０mmの長さ寸法のノズルアーム７３が回転した際の円形の面積）に占める空隙ＳＡの面積（右下に延びる斜線の面積）の割合（空隙率）は、ノズルアーム７３が５本では５８％、ノズルアーム７３が６本では５１％、ノズルアーム７３が７本では４５％、ノズルアーム７３が８本では４１％、ノズルアーム７３が９本では３７％、ノズルアーム７３が１０本では３３％となった。そして、ノズルアーム７３が９本や１０本の場合では、空隙率が４０％未満となって、回転噴射体の回転中心ＲＣ付近に吸引手段の負圧を作用させ難くなっており、ノズルアーム７３の本数は、４〜８本、望ましくは、５〜８本の範囲内が望ましい。

【0146】

さらにまた、ノズルアーム７３の本数が多い場合には、回転噴射体の重量が増し、吸引ダクト６３からの吸引能力の補助にも影響する回転噴射体の回転速度が低下するとともに、支持シャフト６５にも負担がかかることから、重量増加の弊害の観点からも、ノズルアーム７３の本数は、４〜８本、望ましくは、５〜８本の範囲内が望ましい。

【0147】

また、実施形態の表面処理装置１０では、回転噴射体７０が、ハウジング５１の移動を停止させた状態で回転噴射体７０を回転させた際の噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲのピッチＰを、均等とするように、各噴射ノズル８０を配設させている。

【0148】

そのため、実施形態の表面処理装置１０では、移動させつつ回転する回転噴射体７０の各噴射ノズル８０から処理水Ｗを噴射すれば、回転軌跡ＴＲのピッチＰを小さな２．３〜４．８mmの範囲内としている作用・効果に加えて、一層、均等に処理面１に対して処理水Ｗを当てることができて、効率的に処理することができる。

【0149】

なお、上記の均等なピッチＰとする場合の作用・効果は、図１１，１２に示す回転噴射体７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃを使用する場合も同様に確保される。

【0150】

ちなみに、上記の点を考慮しなければ、回転軌跡ＴＲのピッチＰを２．３〜４．８mmの範囲内として、噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲのピッチＰを均等とせずに、各噴射ノズル８０を配設してもよい。

【0151】

さらに、実施形態の表面処理装置１０では、各噴射ノズル８０が、ハウジング５１の移動を停止させた状態で回転噴射体７０を回転させた際に、それぞれ、他の円弧と重ならない円弧の軌跡とするように、配設されている。

【0152】

そのため、実施形態の表面処理装置１０では、処理水Ｗを噴射する各噴射ノズル８０が、それぞれ、相互に重ならずに、円弧（移動すれば螺旋状となる）の軌跡を描くように、回転するため、一層、均等に処理水Ｗを処理面１に当てることができ、処理面１の削りを抑えつつ効果的に処理することができる。

【0153】

なお、上記の噴射ノズル相互の重ならない回転軌跡の作用・効果は、図１１，１２に示す回転噴射体７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃを使用する場合も同様に確保される。

【0154】

ちなみに、上記の点を考慮しなければ、一部の噴射ノズル８０相互が、回転軌跡ＴＲを重ねるように、配設されてもよい。

【0155】

さらに、ノズルアーム７３を８本とする場合、各ノズルアーム７３に４個乃至５個の噴射ノズル８０を配設し、計３４〜３８個程度の噴射ノズル８０を使用し、ピッチＰを２．５〜２．８mmの範囲内で均等とするような３４〜３８個の円弧の回転軌跡ＴＲを形成するように、噴射ノズル８０を配設させて、回転噴射体を構成してもよい。

【0156】

なお、図１４に、回転噴射体におけるノズルアームの本数を変えた場合の噴射ノズルの配設状態を展開したモデル図を示した。

【0157】

この図から解るように、ノズルアームを１０本とする場合には、図１４のＡに示すように、最大４４個の噴射ノズル８０を配置して、回転軌跡のピッチＰを２．１mmと設定できる。しかし、このようの構成では、既述の空隙率が、低く、円滑な処理が行なえない。

【0158】

これに対し、ノズルアームを、８本、６本、あるいは、５本とする場合には、図１４のＢ，Ｃ，Ｄに示すように、
３５個の噴射ノズル８０を配置して、回転軌跡のピッチＰを２．７mm、
２５個の噴射ノズル８０を配置して、回転軌跡のピッチＰを３．８mm、
２１個の噴射ノズル８０を配置して、回転軌跡のピッチＰを４．６mm、
等と設定することができる。

【0159】

さらにまた、実施形態の表面処理装置１０において、使用する噴射ノズル８０に関し、吐出量を異ならせた複数種類使用してもよい。その場合、例えば、図６，９に示すように、吐出量を大きくする噴射ノズル８０Ｌを、吐出量を小さくする噴射ノズル８０Ｓより、各噴射ノズル８０の回転軌跡ＴＲにおいて、回転中心ＲＣから離れた外側の円弧となるように、配設する。

【0160】

例えば、噴射ノズル８０Ｌは、吐出圧を２５０Ｍｐａとした場合の吐出量を０．９８リットル／min（噴射口の開口径に換算すれば０．２０mm）とし、噴射ノズル８０Ｓは、吐出圧を２５０Ｍｐａとした場合の吐出量を０．５リットル／min（噴射口の開口径に換算すれば０．１５mm）とし、噴射ノズル８０Ｌは５個使用され、噴射ノズル８０Ｓは、２５個使用されている。なお、この場合の全給水量は、１７．４リットル／minとなる。

【0161】

このような構成では、回転軌跡ＴＲの円弧が外側となる噴射ノズル８０Ｌは、回転中心ＲＣから離れたノズルアーム７３の先端側に配置されることとなって、内側の噴射ノズル８０Ｓより、回転方向の移動速度と移動量が大きくなってしまう。しかし、回転中心ＲＣから離れた外側の噴射ノズル８０Ｌの吐出量を、内側の噴射ノズルの吐出量より大きくすれば、それぞれの回転軌跡の円弧の単位長さ当たりの処理水の吐出量を、極力、均等化できる。

【0162】

その結果、上記の構成では、回転中心ＲＣからの噴射ノズル８０Ｌ，８０Ｓの配置距離の遠近の影響を無くして、一回転当たりの回転噴射体７０における処理面１の各部位に対する処理水Ｗの圧力（容量・衝撃力）を、均等化でき、一層、処理面１の削りを抑えつつ効果的に処理することができる。

【0163】

なお、図例では、二種類の吐出量の噴射ノズル８０Ｌ，８０Ｓを使用する場合を説明したが、例えば、全体の給水量を、２０リットル／minの範囲内として、３種類以上の吐出量の噴射ノズルを使用し、回転中心ＲＣ側から離れるに従って、順に、吐出量の多い噴射ノズルを配設するようにしてもよい。

【0164】

勿論、上記の点を考慮しなければ、全ての噴射ノズルの吐出量を等しくしたり、あるいは、回転中心ＲＣ側に近い噴射ノズルが、その外側の噴射ノズルより、吐出量を大きくして配設されていてもよい。

【0165】

また、実施形態の表面処理装置１０では、ハウジング５１が、回転噴射体７０の上方を覆う天井壁部５２と、回転噴射体７０の周囲を全周にわたって覆う周壁部５３と、を備えて構成されるとともに、周壁部５３の下端に、下端５５ａを処理面１と接触させつつ撓み可能な円筒状のシール材５５を配設させて構成されている。シール材５５は、各々、可撓性を有した線材５６，５８を、下端５６ｂ，５８ｂを自由端とするように束ねて、円筒状とした外周側の外側ブラシ層５７と、内周側の内側ブラシ層５９と、を設けて構成されている。そして、外側ブラシ層５７の線材５６が、内側ブラシ層５９の線材５８より、長さを長く、かつ、曲げ剛性を低くして、構成されている。

【0166】

そのため、実施形態では、ハウジング５１内の密閉状態を確保し易く、吸引手段６２が、外側ブラシ層５７と内側ブラシ層５９との各々の線材５６，５８間の小さな隙間を経てハウジング５１外の空気を吸引しつつ、処理後の汚水ＤＷを、ハウジング５１外に漏らしたり、処理面１上に残すことを抑えて、円滑に、吸引できる。すなわち、このような構成では、曲げ剛性の高い内側ブラシ層５９が、ハウジング５１内の密閉性を確保でき、そして、ハウジング５１の移動に伴って、内側ブラシ層５９の下端（先端）５９ａが処理面１から離れても、図８のＢの二点鎖線に示すように、曲がり易い外側ブラシ層５７の下端５７ｂが、撓みつつ、処理面１と内側ブラシ層５９との間を塞いで、ハウジング５１内の密閉状態を確保できる。

【0167】

勿論、シール材５５が、撓み可能な線材５６，５８を束ねたブラシから形成されているため、処理面１上に小石等の突出物があっても、円滑に撓んで、表面処理装置１０を移動させることができる。

【0168】

なお、図１５に示すシール材５５Ａのように、外側ブラシ層５７と内側ブラシ層５９との間には、外側ブラシ層５７の内側面５７ａを覆い可能とした内側ブラシ層５９より長い円筒状とし、かつ、撓み可能とした肉厚ｔを１mm程度の薄肉のゴムシート６０を、配設させてもよい。

【0169】

このような構成では、ゴムシート６０が、内側ブラシ層５９と外側ブラシ層５７とを分離させておくことができることから、外側ブラシ層５７が内側に曲がって内側ブラシ層５９に進入するような曲げ変形を防止できる。そのため、内側ブラシ層５９の密閉性能を阻害せずに、内側ブラシ層５９が処理面１の突出物に押されて処理面１から上方に離れても、長期間にわたって、円滑に、外側ブラシ層５７が、密閉性能を補完するように、処理面１と内側ブラシ層５９との間を塞いで、ハウジング５１内の密閉状態を確保できる。

【0170】

すなわち、このようなシール材５５Ａを使用する場合には、内側ブラシ層５９の密閉性能と、内側ブラシ層５９の処理面１からの離脱時における密閉性能の外側ブラシ層５７による補完作用と、を耐久性よく安定して確保することができる。

【0171】

勿論、このようなシール材５５Ａを使用する構成では、ゴムシート６０自体も、処理面１に接触して撓みつつ、ハウジング５１内の密閉状態を確保できるため、シール材５５Ａの密閉性向上にも寄与できる。

【0172】

なお、図例では、ゴムシート６０は、外側ブラシ層５７と同じ長さ寸法としたが、内側ブラシ層５９より長ければ、下端６０ａを外側ブラシ層５７の下端５７ｂより短くしてもよい。

【0173】

また、回転噴射体７０，７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃを使用した場合を含めて、実施形態の表面処理装置を使用した除染処理方法（詳しく述べれば、吸引手段６２の吸引量を３０〜４０ｍ^３／minの範囲内とし、回転噴射体の回転数を１８００〜２０００回／minの範囲内とし（換言すれば、処理面１に対する各噴射ノズル８０の回転速度を約３９０〜１６００ｍ／minとし）、処理水Ｗの吐出圧を１００〜２８０Ｍｐａの範囲内、望ましくは、１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内として、移動速度を３〜８ｍ／minの範囲内で表面処理装置を移動させて、インターロッキング、アスファルト、コンクリート、樹脂舗装、石畳等の路面を処理面１として、処理した処理方法）では、処理面１の削りを抑えて、処理面１に付着していた有害な放射性物質（特にセシウム）を、処理前の状態から８０〜９０％減少させるように、除染することができた。

【0174】

勿論、上記の場合、各噴射ノズル８０からの処理水Ｗの吐出圧を１００Ｍｐａ以上、１２５Ｍｐａ未満の範囲内としてもよい。このような除染処理方法では、処理面１の露出した表面に放射性物質が付着されている場合に、処理面１を削ること無く除染できて、好適となる。

【0175】

なお、図１７に、密粒アスファルト（As）とコンクリート（Con）との処理面に対し、種々、吐出圧を変えて除染試験した処理前と処理後とのｃｐｍ値とその減少率との関係を表したグラフ図を示す。除染試験に使用した表面処理装置は、図１１の回転噴射体７０Ｂを使用し、吐出圧を２２５Ｍｐａとした際の吐出量を０．５２リットル／minとする噴射ノズル８０を２０個使用している。

【0176】

このグラフ図から解るように、処理水Ｗの吐出圧が１００Ｍｐａ以上となれば、９０％以上の減少率を確保でき、さらに、処理水Ｗの吐出圧が１２５〜２２５Ｍｐａの範囲内であれば、処理面の材質が異なっても、安定した９４％以上の減少率を確保できることが解る。

【0177】

また、実施形態で使用した表面処理装置１０では、処理面１の表面の削ることを抑制した除染方法に使用する場合を説明したが、剥離させて除去する付着層（塗装部・印刷部・接着部・汚れ等）が処理面１に存在しているような場合、その付着層を除去する表面処理装置（除去装置）として、使用することも可能である。

【0178】

さらに、実施形態では、１つの回転噴射体７０を使用する表面処理装置を例示したが、一つの大きなハウジング内に、複数（例えば、２個や３個等）の回転噴射体７０を設けて、表面処理装置を構成してもよい。

【0179】

さらにまた、実施形態では、吸引手段６２の一部を構成するバキューム車ＶＣ自体に後処理装置９０を搭載させた場合を示したが、図１８に示すように、バキューム車ＶＣと別位置に、後処理装置９０Ａを配設させて、汚水ＤＷの後処理を行い、その処理した上澄み液ＣＷを、給水車ＳＣに貯留させていた水（真水）ＴＷと合わせ、あるいは、単体使用として、処理水Ｗに使用してもよい。

【0180】

なお、この後処理装置９０Ａは、後処理装置９０に比べて大型のものであるが、後処理装置９０と同様に、ゼオライトや凝集剤を利用した沈殿処理と、限外濾過装置を設けた濾過処理と、を行って、除染した上澄み液ＣＷを処理用流体供給車ＰＣ側に供給するように、構成されている。

【符号の説明】

【0181】

１…処理面、１０…表面処理装置、２０…車輪、５１…ハウジング、５２…天井壁部、５３…周壁部、５５，５５Ａ…シール材、５５ａ…（シール材の）下端、５６，５８…線材、５６ｂ，５８ｂ…（線材の）下端、５７…外側ブラシ層、５９…内側ブラシ層、６０…ゴムシート、６２…吸引手段、７０，７０Ａ，７０Ｂ，７０Ｃ…回転噴射体、７３…ノズルアーム、７４…（配置スペース）ノズル配設エリア、８０…噴射ノズル、９０，９０Ａ…後処理装置、ＲＣ…（回転噴射体の）回転中心、ＬＮ…（ノズルアームの）長さ寸法、ＴＲ…回転軌跡、Ｐ…（回転軌跡の）ピッチ、ＣＬ…（噴射ノズルと処理面との）距離、Ａ…エア、Ｗ…処理水。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】