特許5666527ドープ形態の共役高分子膜の製造及び処理方法

発明の名称　ドープ形態の共役高分子膜の製造及び処理方法

出願人　国立中央大学　（識別番号 511194809）

　　　　特許公開件数ランキング 13870 位（0件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 11686 位（0件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5666527

公報発行日　2015年2月12

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5666527

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