特許 5677785 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5677785

(24)【登録日】2015年1月9日

(45)【発行日】2015年2月25日

(54)【発明の名称】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   H05B 33/10 20060101AFI20150205BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20150205BHJP

   C23C 14/04 20060101ALI20150205BHJP

   C23C 14/24 20060101ALI20150205BHJP

【ＦＩ】

   H05B33/10

   H05B33/14 A

   C23C14/04 A

   C23C14/24 V

   C23C14/24 C

【請求項の数】23

【全頁数】28

(21)【出願番号】特願2010-186365(P2010-186365)

(22)【出願日】2010年8月23日

(65)【公開番号】特開2011-49167(P2011-49167A)

(43)【公開日】2011年3月10日

【審査請求日】2010年8月23日

(31)【優先権主張番号】10-2009-0079765

(32)【優先日】2009年8月27日

(33)【優先権主張国】KR

(31)【優先権主張番号】10-2010-0011480

(32)【優先日】2010年2月8日

(33)【優先権主張国】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】512187343

【氏名又は名称】三星ディスプレイ株式會社

【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】100070024

【弁理士】

【氏名又は名称】松永 宣行

(74)【代理人】

【識別番号】100159042

【弁理士】

【氏名又は名称】辻 徹二

(74)【代理人】

【識別番号】100083806

【弁理士】

【氏名又は名称】三好 秀和

(74)【代理人】

【識別番号】100095500

【弁理士】

【氏名又は名称】伊藤 正和

(72)【発明者】

【氏名】趙 昌 睦

(72)【発明者】

【氏名】金 鍾 憲

(72)【発明者】

【氏名】崔 鎔 燮

(72)【発明者】

【氏名】金 相 洙

(72)【発明者】

【氏名】姜 煕 哲

(72)【発明者】

【氏名】崔 永 默

【審査官】 横川 美穂

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００６−２１９７６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−３４９１０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−０７６２２７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−０５４５１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００８−５２０８３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−１０３２６９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００７−５０７６０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１７０２００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０３−１２３０２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−３０２８９８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２４８５８３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｂ ３３／１０

Ｃ２３Ｃ １４／０４

Ｃ２３Ｃ １４／２４

Ｈ０１Ｌ ５１／５０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部と、
真空に維持されるチャンバと、前記チャンバの内部に配され、前記基板と所定程度離隔され、前記静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリとを含む蒸着部と、
前記静電チャックから、蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部と、
前記基板が固定された静電チャックを、前記ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部と、
前記アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、前記ローディング部に送り戻す第２循環部と、を含み、
前記第１循環部は、前記蒸着部を通過するとき、前記チャンバ内部に貫通するように備わり、
前記チャンバ内部に、複数の薄膜蒸着アセンブリが備わり、
前記薄膜蒸着アセンブリは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、
前記基板が、前記薄膜蒸着アセンブリに対して、移動しつつ蒸着が行われ、
前記静電チャックが前記基板のみを固定し、前記薄膜蒸着アセンブリは、前記チャンバ内に固設され、前記基板と前記パターニング・スリットシートとが離隔したことを特徴とする薄膜蒸着装置。

【請求項2】

前記チャンバは、内部に複数の薄膜蒸着アセンブリがそれぞれ備わった第１チャンバと第２チャンバとを含み、前記第１チャンバと第２チャンバとが、互いに連繋されたことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項3】

前記第１循環部または第２循環部は、前記静電チャックを移送するキャリアを含むことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項4】

前記キャリアは、
前記チャンバを貫通するように配設され、前記第１循環部または第２循環部に沿って延びる第１支持台及び第２支持台を含む支持台と、
前記第１支持台上に配され、前記静電チャックのエッジを支持する移動台と、
前記第１支持台と移動台との間に介在され、前記移動台を前記第１支持台に沿って移動させる第１駆動部と、を含むことを特徴とする請求項３に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項5】

複数個の蒸着源ノズルは第１方向に沿って形成され、
前記複数個のパターニング・スリットは前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って形成され、
前記基板が、前記薄膜蒸着アセンブリに対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項6】

前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、前記蒸着物質の移動経路をガイドする連結部材によって結合され、一体に形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項7】

前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を、外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項６に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項8】

前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項9】

前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされていることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項10】

前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第２側端部を向くように配され、
前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第１側端部を向くように配されることを特徴とする請求項８に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項11】

前記薄膜蒸着アセンブリは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニング・スリットが配されるパターニング・スリットシートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、
前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、
前記薄膜蒸着アセンブリと前記基板は、互いに相対的に移動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項12】

前記複数枚の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項13】

前記遮断板アセンブリは、複数枚の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数枚の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項14】

前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１３に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項15】

前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されることを特徴とする請求項１４に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項16】

前記蒸着源と前記遮断板アセンブリは、互いに離隔されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項17】

前記遮断板アセンブリと前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項18】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとのアライン程度を撮影するカメラ・アセンブリを含み、前記カメラ・アセンブリは、
筒状であり、一端に開口を有するフードと、
前記フード内に装着されたカメラと、
前記カメラと開口との間に位置した光学系と、
前記光学系と開口との間に位置した保護ウインドーと、
前記保護ウインドーに形成されたヒータと、を含むことを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項19】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとのアライン程度を撮影するカメラ・アセンブリと、前記カメラ・アセンブリによる第１マークと第２マークとのアライン程度についての情報を介して、前記第１マークを前記第２マークにアラインさせるように、前記薄膜蒸着アセンブリを駆動する第２駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項20】

前記チャンバに連繋され、前記薄膜蒸着アセンブリの蒸着源が出入するように備わったソースチャンバと、
前記チャンバとソースチャンバとの間を開閉する弁と、
前記蒸着源が前記チャンバに位置するとき、前記チャンバとソースチャンバとの間を閉鎖するシャッタと、をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項21】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとのアライン程度を撮影するカメラ・アセンブリと、を含み、
前記カメラ・アセンブリは、
筒状であり、一端に開口を有するフードと、
前記フード内に装着されたカメラと、
前記カメラと開口との間に位置した光学系と、
前記光学系と開口との間に位置した保護ウインドーと、
前記保護ウインドーに形成されたヒータと、を含むことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項22】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとのアライン程度を撮影するカメラ・アセンブリと、前記カメラ・アセンブリによる第１マークと第２マークとのアライン程度についての情報を介して、前記第１マークを前記第２マークにアラインさせるように、前記薄膜蒸着アセンブリを駆動する第２駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。

【請求項23】

前記チャンバに連繋され、前記薄膜蒸着アセンブリの蒸着源が出入するように備わったソースチャンバと、
前記チャンバとソースチャンバとの間を開閉する弁と、
前記蒸着源が前記チャンバに位置するとき、前記チャンバとソースチャンバとの間を閉鎖するシャッタと、をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法に係り、詳細には、大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置、及びそれを利用した有機発光表示装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は、視野角が広く、かつコンラストにすぐれるだけではなく、応答速度が速いという長所を有しており、次世代ディスプレイ装置として注目を集めている。

【0003】

有機発光表示装置は、互いに対向した第１電極及び第２電極間に、発光層及びこれを含む中間層を具備する。このとき、前記電極及び中間層は、さまざまな方法で形成されうるが、そのうちの１つの方法が独立蒸着方式である。蒸着方法を利用して有機発光表示装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを有するファイン・メタルマスク（ＦＭＭ：fine metal mask）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。

【0004】

しかし、このようなファイン・メタルマスクを利用する方法は、５Ｇ以上のマザーガラス（mother-glass）を使用する大面積化には不適であるという限界がある。すなわち、大面積マスクを使用すれば、自重によって、マスクの反り現象が発生するが、この反り現象によるパターンの歪曲が発生しうるためである。これは、パターンに高精細を要する現在の傾向と背馳するものである。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明は、前記のような従来のファイン・メタルマスクを利用した蒸着方法の限界を克服するためのものであり、大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングの可能な薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

前記のような目的を達成するために、本発明は、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部；真空に維持されるチャンバと、前記チャンバの内部に配され、前記静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリとを含む蒸着部；前記静電チャックから、蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部；前記基板が固定された静電チャックを、前記ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部；前記アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、前記ローディング部に送り戻す第２循環部；を含み、前記第１循環部は、前記蒸着部を通過するとき、前記チャンバ内部に貫通するように備えられた薄膜蒸着装置を提供する。

【0007】

前記チャンバ内部に、複数の薄膜蒸着アセンブリが備えられうる。
前記チャンバは、内部に複数の薄膜蒸着アセンブリがそれぞれ備えられた第１チャンバと第２チャンバとを含み、前記第１チャンバと第２チャンバとが互いに連繋したものでありうる。

【0008】

前記第１循環部または第２循環部は、前記静電チャックを移送するキャリアを含むことができる。
前記キャリアは、前記チャンバを貫通するように配設され、前記第１循環部または第２循環部に沿って延びる第１支持台及び第２支持台を含む支持台と、前記第１支持台上に配され、前記静電チャックのエッジを支持する移動台と、前記第１支持台と移動台との間に介在され、前記移動台を前記第１支持台に沿って移動させる第１駆動部と、を含むことができる。

【0009】

前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向を沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、前記基板が、前記薄膜蒸着アセンブリに対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成されうる。

【0010】

前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、前記蒸着物質の移動経路をガイドする連結部材によって結合されて一体に形成されうる。
前記連結部材は、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシート間の空間を外部から密閉するように形成されうる。
前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と所定程度離隔されるように形成されうる。
前記薄膜蒸着アセンブリの前記パターニング・スリットシートは、前記基板より小さく形成されうる。

【0011】

前記複数個の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されうる。
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルは、互いに向き合う方向にチルトされうる。
前記複数個の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された２列の蒸着源ノズルを含み、前記２列の蒸着源ノズルのうち第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第２側端部を向くように配され、前記２列の蒸着源ノズルのうち第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニング・スリットシートの第１側端部を向くように配されうる。

【0012】

前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニング・スリットが配されるパターニング・スリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、前記薄膜蒸着アセンブリと前記基板は、互いに相対的に移動するものでありうる。

【0013】

前記薄膜蒸着アセンブリの前記パターニング・スリットシートは、前記基板より小さく形成されるものでありうる。
前記複数枚の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されたものでありうる。
前記複数枚の遮断板は、等間隔に配されるものでありうる。

【0014】

前記遮断板アセンブリは、複数枚の第１遮断板を具備する第１遮断板アセンブリと、複数枚の第２遮断板を具備する第２遮断板アセンブリと、を含むものでありうる。
前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直である第２方向に沿って延びるように形成されたものでありうる。

【0015】

前記複数枚の第１遮断板及び前記複数枚の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されるものでありうる。
前記互いに対応する第１遮断板及び第２遮断板は、実質的に同じ平面上に位置するように配されるものでありうる。
前記蒸着源と前記遮断板アセンブリは、互いに離隔されたものでありうる。
前記遮断板アセンブリと前記パターニング・スリットシートは、互いに離隔されたものでありうる。

【0016】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとのアライン程度（degree of alignment）を撮影するカメラ・アセンブリを含み、前記カメラ・アセンブリは、筒状であり、一端に開口を有するフードと、前記フード内に装着されたカメラと、前記カメラと開口との間に位置した光学系と、前記光学系と開口との間に位置した保護ウインドーと、前記保護ウインドーに形成されたヒータと、を含むものでありうる。

【0017】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとのアライン程度を撮影するカメラ・アセンブリと、前記カメラ・アセンブリによる第１マークと第２マークとのアライン程度についての情報を介して、前記第１マークを前記第２マークにアラインさせるように、前記薄膜蒸着アセンブリを駆動する第２駆動部と、をさらに含むものでありうる。

【0018】

前記チャンバに連繋され、前記薄膜蒸着アセンブリの蒸着源が出入するように備えられたソースチャンバと、前記チャンバとソースチャンバとの間を開閉する弁と、前記蒸着源が前記チャンバに位置するとき、前記チャンバとソースチャンバとの間を閉鎖するシャッタと、をさらに含むものでありうる。

【0019】

本発明はまた、前述の目的を達成するために、基板を静電チャックに固定させる段階と、前記基板が固定された静電チャックを、チャンバを貫通するように設置された第１循環部を利用し、真空に維持される前記チャンバ内に移送する段階と、前記チャンバ内に配された薄膜蒸着アセンブリを利用し、前記基板と前記薄膜蒸着アセンブリとの相対的移動によって、前記基板に有機膜を蒸着する段階と、前記第１循環部を利用し、前記蒸着が完了した基板を、前記チャンバから取り出す段階と、前記静電チャックから、蒸着が完了した前記基板を分離させる段階と、前記基板と分離された静電チャックを、前記チャンバの外部に設置された第２循環部を利用し、前記基板を静電チャックに固定させる段階に送り戻す段階と、を含む有機発光表示装置の製造方法を提供する。

【0020】

前記チャンバ内部に、複数の薄膜蒸着アセンブリが備えられ、各薄膜蒸着アセンブリによって、前記基板に連続的に蒸着がなされるものでありうる。
前記チャンバは、内部に複数の薄膜蒸着アセンブリがそれぞれ備えられ、互いに連繋された第１チャンバと第２チャンバとを含み、前記基板が、前記第１チャンバ及び第２チャンバにわたって移動し、連続的に蒸着がなされるものでありうる。

【0021】

前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に対して垂直である第２方向に沿って複数個のパターニング・スリットが形成されるパターニング・スリットシートと、を含み、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニング・スリットシートは、一体に形成され、前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、蒸着が進められる間、前記基板が、前記薄膜蒸着アセンブリに対して、前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着がなされうる。

【0022】

前記薄膜蒸着アセンブリは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向するように配され、前記第１方向に沿って複数個のパターニング・スリットが配されるパターニング・スリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配され、前記蒸着源ノズル部と前記パターニング・スリットシートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板を具備する遮断板アセンブリと、を含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、前記基板と離隔されるように配され、蒸着が進められる間、前記薄膜蒸着アセンブリと前記基板とが互いに相対的に移動することによって、基板に対する蒸着がなされるものでありうる。

【0023】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとのアライン程度を撮影するカメラ・アセンブリを含み、前記カメラ・アセンブリは、筒状であり、一端に開口を有するフードと、前記フード内に装着されたカメラと、前記カメラと開口との間に位置した光学系と、前記光学系と開口との間に位置した保護ウインドーと、前記保護ウインドーに形成されたヒータと、を含み、前記蒸着が進められる間、前記第１マークと第２マークとのアライン程度を感知するものでありうる。

【0024】

前記パターニング・スリットシートは、第１マークを含み、前記基板は、第２マークを含み、蒸着が進められる間、前記薄膜蒸着アセンブリは、第１マークと第２マークとがアラインされるように、前記薄膜蒸着アセンブリを駆動するものでありうる。

【0025】

前記チャンバに連繋され、前記薄膜蒸着アセンブリの蒸着源が出入するように備えられたソースチャンバと、前記チャンバとソースチャンバとの間を開閉する弁と、前記蒸着源が前記チャンバに位置するとき、前記チャンバとソースチャンバとの間を閉鎖するシャッタと、をさらに含み、前記基板に対する蒸着が終了した後、前記蒸着源を前記ソースチャンバに移送する段階と、前記弁で前記チャンバとソースチャンバとの間を閉鎖する段階と、前記蒸着源を交換する段階と、を含むものでありうる。

【発明の効果】

【0026】

本発明の薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易になるという効果を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0027】

【図1】本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成図である。

【図2】図１の変形例を図示したシステム構成図である。

【図3】静電チャックの一例を図示した概略図である。

【図4】本発明の望ましい一実施形態による第１循環部の断面を図示した断面図である。

【図5】本発明の望ましい一実施形態による第２循環部の断面を図示した断面図である。

【図6】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第１実施形態を図示した斜視図である。

【図7】図６の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図である。

【図8】図６の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。

【図9】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第２実施形態を図示した斜視図である。

【図10】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第３実施形態を図示した斜視図である。

【図11】本発明の薄膜蒸着アセンブリの第４実施形態を図示した斜視図である。

【図12】図１１の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図である。

【図13】図１１の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。

【図14A】本発明の望ましい一実施形態によるソースチャンバを図示した断面図である。

【図14B】本発明の望ましい一実施形態によるソースチャンバを図示した断面図である。

【図15】本発明の望ましい一実施形態によるカメラ・アセンブリを図示した断面図である。

【図16】本発明の望ましい他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリを図示した斜視図である。

【図17】本発明による薄膜蒸着アセンブリによって製造されうる有機発光表示装置の断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0028】

以下、添付された図面を参照しつつ、本発明による望ましい実施形態について詳細に説明すれば、次の通りである。
図１は、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成図であり、図２は、図１の変形例を図示したものである。図３は、静電チャック６００の一例を図示した概略図である。

【0029】

図１を参照すれば、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置は、ローディング部７１０、蒸着部７３０、アンローディング部７２０、第１循環部６１０及び第２循環部６２０を含む。
ローディング部７１０は、第１ラック７１２と、導入ロボット７１４と、導入室７１６と、第１反転室７１８とを含むことができる。

【0030】

第１ラック７１２には、蒸着がなされる前の基板５００が多数積載されており、導入ロボット７１４は、前記第１ラック７１２から基板５００を取り、第２循環部６２０から移送されてきた静電チャック６００に基板５００を載せた後、基板５００が付着された静電チャック６００を導入室７１６に移す。

【0031】

導入室７１６に隣接しては、第１反転室７１８が備わり、第１反転室７１８に位置した第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させ、静電チャック６００を蒸着部７３０の第１循環部６１０に装着する。

【0032】

静電チャック６００は、図３から分かるように、セラミックで形成された本体６０１の内部に、電源が印加される電極６０２が埋め込まれたものであり、この電極６０２に、高電圧が印加されることによって、本体６０１の表面に基板５００を付着させる。
図１を参照すれば、導入ロボット７１４は、静電チャック６００の上面に基板５００を載せ、この状態で静電チャック６００は、導入室７１６に移送され、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させることによって、蒸着部７３０では、基板５００が下を向くように位置する。

【0033】

アンローディング部７２０の構成は、前述のローディング部７１０の構成と反対に構成される。すなわち、蒸着部７３０を経た基板５００及び静電チャック６００を、第２反転室７２８で第２反転ロボット７２９が反転させ、搬出室７２６に移送し、搬出ロボット７２４が搬出室７２６から基板５００及び静電チャック６００を取り出した後、基板５００を静電チャック６００から分離し、第２ラック７２２に積載する。基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０を介して、ローディング部７１０に回送される。

【0034】

しかし、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、基板５００が静電チャック６００に最初固定されるときから、静電チャック６００の下面に基板５００を固定させ、そのまま蒸着部７３０に移送させることもできる。その場合、例えば、第１反転室７１８及び第１反転ロボット７１９と、第２反転室７２８及び第２反転ロボット７２９は、不要になる。

【0035】

蒸着部７３０は、少なくとも１つの蒸着用チャンバを具備する。図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は、第１チャンバ７３１を具備し、この第１チャンバ７３１内に、複数の薄膜蒸着アセンブリ１００，２００，３００，４００が配される。図１に図示された本発明の望ましい一実施形態によれば、前記第１チャンバ７３１内に、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００、第３薄膜蒸着アセンブリ３００及び第４薄膜蒸着アセンブリ４００の４つの薄膜蒸着アセンブリが設置されているが、その数は、蒸着物質及び蒸着条件によって可変可能である。前記第１チャンバ７３１は、蒸着が進められる間、真空に維持される。

【0036】

また、図２による本発明の他の一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は、互いに連繋された第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２を含み、第１チャンバ７３１には、第１薄膜蒸着アセンブリ１００，第２薄膜蒸着アセンブリ２００が、第２チャンバ７３２には、第３薄膜蒸着アセンブリ３００、第４薄膜蒸着アセンブリが配されうる。このとき、チャンバの数が追加されうることは、言うまでもない。

【0037】

一方、図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記基板５００が固定された静電チャック６００は、第１循環部６１０によって、少なくとも蒸着部７３０に、望ましくは、前記ローディング部７１０、蒸着部７３０及びアンローディング部７２０に順次移動し、前記アンローディング部７２０で、基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０によって、前記ローディング部７１０に送り戻される。

【0038】

前記第１循環部６１０は、前記蒸着部７３０を通過するとき、前記第１チャンバ７３１を貫通するように備えられ、前記第２循環部６２０は、静電チャックが移送されるように備わる。
図４は、本発明の望ましい一実施形態による第１循環部６１０の断面を図示したものである。

【0039】

第１循環部６１０は、基板５００を固定している静電チャック６００を移動させる第１キャリア６１１を含む。
前記第１キャリア６１１は、第１支持台６１３と、第２支持台６１４と、移動台６１５と、第１駆動部６１６とを含む。

【0040】

前記第１支持台６１３及び第２支持台６１４は、前記蒸着部７３０のチャンバ、例えば、図１の実施形態では第１チャンバ７３１、図２の実施形態では第１チャンバ７３１と第２チャンバ７３２とを貫通するように設置される。
前記第１支持台６１３は、第１チャンバ７３１内で、上部を向いて配され、第２支持台６１４は、第１チャンバ７３１で、第１支持台６１３の下部に配される。図４に図示された実施形態によれば、前記第１支持台６１３と第２支持台６１４とが互いに垂直に折り曲げられた構造で備えられているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、第１支持台６１３が上部に、第２支持台６１４が下部にある構造であるならば、いかなるものでも差し支えない。

【0041】

移動台６１５は、第１支持台６１３に沿って移動するように備えられたものであり、少なくとも一端が前記第１支持台６１３によって支持され、他端が静電チャック６００のエッジを支持するように備わる。前記静電チャック６００は、前記移動台６１５に固定的に支持され、移動台６１５によって第１支持台６１３に沿って移動することができる。移動台の静電チャック６００を支持する部分は、薄膜蒸着アセンブリ１００を向くように折り曲げられ、基板５００を薄膜蒸着アセンブリ１００に近く位置させることができる。

【0042】

移動台６１５と第１支持台６１３との間には、第１駆動部６１６が含まれる。この第１駆動部６１６は、第１支持台６１３に沿って転がるローラ６１７を含むことができる。前記第１駆動部６１６は、移動台６１５を、第１支持台６１３に沿って移動させるものであり、それ自体で駆動力を提供するものでもあり、別途の駆動源からの駆動力を移動台６１５に伝達するものでもよい。前記第１駆動部６１６は、ローラ６１７以外にも、移動台６１５を移動させるものであるならば、いかなる駆動装置でも適用可能である。

【0043】

図５は、本発明の望ましい一実施形態による第２循環部６２０の断面を図示したものである。
第２循環部６１０は、基板５００が分離された静電チャック６００を移動させる第２キャリア６２１を含む。
前記第２キャリア６２１も、第３支持台６２３と、移動台６１５と、第１駆動部６１６とを含む。

【0044】

前記第３支持台６２３は、第１キャリア６１１の第１支持台６１３と同一に延びる。この第３支持台６２３には、第１駆動部６１６を備えた移動台６１５が支持され、この移動台６１５に、基板５００と分離された静電チャック６００が装着される。移動台６１５及び第１駆動部６１６の構造は、前述の通りである。

【0045】

次に、前記第１チャンバ７３１内に配される薄膜蒸着アセンブリ１００について説明する。
図６は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第１実施形態を概略的に図示した斜視図であり、図７は、図６の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図であり、図８は、図６の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。
図６ないし図８を参照すれば、本発明の第１実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を含む。

【0046】

詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５が、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を通過し、基板５００に所望のパターンで蒸着されるようにするなら、基本的に第１チャンバ７３１内部は、ＦＭＭ（fine metal mask）蒸着法と同じ高真空状態を維持しなければならない。また、パターニング・スリットシート１５０の温度が蒸着源１１０の温度より十分に低くなければならない（約１００゜以下）。なぜならば、パターニング・スリットシート１５０の温度が十分に低くてこそ、温度によるパターニング・スリットシート１５０の熱膨張問題を最小化できるからである。このような第１チャンバ７３１内には、被蒸着体である基板５００が配される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラス（mother-glass）のような大面積基板が適用されうる。

【0047】

ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリ１００に対して相対的に移動しつつ、蒸着が進められることを１つの特徴とする。
詳細には、既存のＦＭＭ蒸着法では、ＦＭＭサイズが基板サイズと同一に形成されなければならない。従って、基板サイズが増大するほど、ＦＭＭも大型化されなければならず、これによって、ＦＭＭ製作が容易ではなく、ＦＭＭを引っ張って精密なパターンにアライン（align）するのも容易ではないという問題点が存在した。

【0048】

かような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、薄膜蒸着アセンブリ１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着がなされることを１つの特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着アセンブリ１００と向き合うように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ、連続的に蒸着を行うのである。すなわち、基板５００が、図６の矢印Ａ方向に移動しつつ、スキャニング（scanning）方式で蒸着が行われるのである。

【0049】

本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うために、パターニング・スリットシート１５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板５００の長さよりはるかに短く形成できるのである。このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができるために、本発明のパターニング・スリットシート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニング・スリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り作業及び溶接作業、移動作業及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニング・スリットシート１５０が、ＦＭＭ蒸着法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほど、さらに有利になる。

【0050】

一方、チャンバ内で、前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５が気化されることによって、基板５００に蒸着がなされる。

【0051】

詳細には、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、ルツボ１１２を加熱させ、ルツボ１１２内部に充填された蒸着物質１１５をルツボ１１２の一側、詳細には、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるための冷却ブロック１１１を含む。冷却ブロック１１１は、ルツボ１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバ内部に発散することを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、ルツボ１１１を加熱させるヒータ（図示せず）が含まれている。

【0052】

蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０で基板５００を向く側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル１２１は、等間隔に形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、かような蒸着源ノズル部１２０を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かうことになるのである。このように、蒸着源ノズル部１２０上でＹ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される場合、パターニング・スリットシート１５０のそれぞれのパターニング・スリット１５１を通過する蒸着物質によって形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル１２１ １つのサイズだけに影響を受けるので（すなわち、Ｘ軸方向では、蒸着源ノズル１２１が一つだけ存在することに他ならない）、陰影（shadow）が発生しなくなる。また、多数個の蒸着源ノズル１２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス（flux）差が発生してもその差が相殺され、蒸着均一度が一定に維持されるという効果を得ることができる。

【0053】

一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。フレーム１５５は、ほぼ窓ワクのような形態に形成され、その内側に、パターニング・スリットシート１５０が結合される。そして、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニング・スリット１５１らが形成される。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かうのである。このとき、前記パターニング・スリットシート１５０は、従来のＦＭＭ、特に、ストライプ・タイプ（stripe type）のマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを介して製作されうる。このとき、蒸着源ノズル１２１の総個数より、パターニング・スリット１５１の総個数がさらに多く形成されうる。

【0054】

一方、前述の蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニング・スリットシート１５０は、互いに一定程度離隔されるように形成され、蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）とパターニング・スリットシート１５０は、第１連結部材１３５によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０が、第１連結部材１３５によって連結され、互いに一体に形成されうるのである。ここで、第１連結部材１３５は、蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質を分散させないように、蒸着物質の移動経路をガイドすることができる。図面には、第１連結部材１３５が、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０の左右方向にのみ形成され、蒸着物質のＸ軸方向だけをガイドすると図示されているが、これは、図示の便宜のためのものであり、本発明の思想は、これに制限されるものではなく、第１連結部材１３５がボックス状の密閉型に形成され、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動を同時にガイドすることもできるのである。

【0055】

前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着アセンブリ１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニング・スリットシート１５０は、基板５００から一定程度離隔されるように形成される。

【0056】

詳細には、従来のＦＭＭ蒸着法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、そのように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良問題が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。従って、ディスプレイ装置が大型化されるにつれて、マスクのサイズも大きくならなければならないなが、かような大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。

【0057】

かような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００では、パターニング・スリットシート１５０が、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔されるように配されるようにする。

【0058】

かような本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ、蒸着を行うことにより、マスク製作が容易になるという効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また工程で、基板とマスクとを密着させる時間が不要となるために、製造速度が向上するという効果を得ることができる。

【0059】

図９は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第２実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第２実施形態による薄膜蒸着アセンブリは、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０を含む。ここで、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、ルツボ１１２を加熱させ、ルツボ１１２内部に充填された蒸着物質１１５を蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるための冷却ブロック１１１とを含む。一方、蒸着源１１０の一側には、蒸着源ノズル部１２０が配され、蒸着源ノズル部１２０には、Ｙ軸方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられ、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。そして、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニング・スリットシート１５０は、第１連結部材１３５によって結合される。

【0060】

本実施形態では、蒸着源ノズル部１２０に形成された複数個の蒸着源ノズル１２１が所定角度チルトされて配されるという点で、前述の薄膜蒸着アセンブリの第１実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル１２１は、２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂからなり、前記２列の蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、互いに交互に配される。このとき、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂは、ＸＺ平面上で、所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。

【0061】

本実施形態では、蒸着源ノズル１２１ａ，１２１ｂが所定角度チルトされて配される。ここで、第１列の蒸着源ノズル１２１ａは、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂを向くようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル１２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル１２１ａを向くようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル１２１ａは、パターニング・スリットシート１５０の右側端部を向くように配され、右側列に配された蒸着源ノズル１２１ｂは、パターニング・スリットシート１５０の左側端部を向くように配されうる。

【0062】

かような構成によって、基板の中央部分と末端部分とでの成膜厚差が減少することになり、全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が上昇するという効果を得ることができる。

【0063】

図１０は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第３実施形態を示す図面である。図面を参照すれば、本発明の第３実施形態による薄膜蒸着装置は、図６ないし図８で説明した薄膜蒸着アセンブリが複数個備えられることを１つの特徴とする。言い換えれば、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、赤色発光層（Ｒ）材料、緑色発光層（Ｇ）材料、青色発光層（Ｂ）材料が一度に放射されるマルチ蒸着源（multi source）を具備できる。

【0064】

詳細には、本実施形態は、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００を含む。かような第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００それぞれの構成は、図６ないし図８で説明した薄膜蒸着アセンブリと同一であるので、ここでは、その詳細な説明は省略する。

【0065】

ここで、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００の蒸着源には、互いに異なる蒸着物質が備わりうる。例えば、第１薄膜蒸着アセンブリ１００には、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質が備えられ、第２薄膜蒸着アセンブリ２００には、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質が備えられ、第３薄膜蒸着アセンブリ３００には、青色発光層（Ｂ）の材料になる蒸着物質が備えられうる。

【0066】

すなわち、従来の有機発光ディスプレイ装置の製造方法では、各色相別に別途のチャンバとマスクとを具備することが一般的であったが、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置を利用すれば、１つのマルチソースで、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）及び青色発光層（Ｂ）を一度に蒸着できるのである。従って、有機発光ディスプレイ装置の生産時間が画期的に短縮されると同時に、備えられなければならないチャンバ数が減少することによって、設備コストもまた、顕著に節減されるという効果を得ることができる。

【0067】

この場合、図面には詳細に図示されてはいないが、第１薄膜蒸着アセンブリ１００、第２薄膜蒸着アセンブリ２００及び第３薄膜蒸着アセンブリ３００のパターニング・スリットシートは、互いに一定程度オフセット（offset）されて配されることによって、その蒸着領域を重畳させないようにすることができる。言い換えれば、第１薄膜蒸着アセンブリ１００が赤色発光層（Ｒ）の蒸着を担当し、第２薄膜蒸着アセンブリ２００が緑色発光層（Ｇ）の蒸着を担当し、第３薄膜蒸着アセンブリ３００が青色発光層（Ｂ）の蒸着を担当する場合、第１薄膜蒸着アセンブリ１００のパターニング・スリット１５１と、第２薄膜蒸着アセンブリ２００のパターニング・スリット２５１と、第３薄膜蒸着アセンブリ３００のパターニング・スリット３５１とを、互いに同一線上に位置させないように配することによって、基板上の互いに異なる領域に、それぞれ赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層（Ｂ）を形成させることができる。

【0068】

ここで、赤色発光層（Ｒ）の材料になる蒸着物質と、緑色発光層（Ｇ）の材料になる蒸着物質と、青色発光層（Ｂ）の材料になる蒸着物質は、互いに気化される温度が異なりうるので、前記第１薄膜蒸着アセンブリ１００の蒸着源１１０の温度と、前記第２薄膜蒸着アセンブリ２００の蒸着源の温度と、前記第３薄膜蒸着アセンブリ３００の蒸着源の温度とが互いに異なるように設定することも可能であるのである。

【0069】

一方、図面には、薄膜蒸着アセンブリが３個備えられると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着装置は、薄膜蒸着アセンブリを多数個具備でき、前記多数個の薄膜蒸着アセンブリそれぞれに互いに異なる物質を具備できる。例えば、薄膜蒸着アセンブリを５個具備し、それぞれの薄膜蒸着アセンブリに、赤色発光層（Ｒ）、緑色発光層（Ｇ）、青色発光層（Ｂ）及び赤色発光層の補助層（Ｒ’）並びに緑色発光層の補助層（Ｇ’）を具備できる。

【0070】

このように、複数個の薄膜蒸着アセンブリを具備し、多数層の薄膜層を一度に形成できるようにすることによって、製造収率及び蒸着効率が向上するという効果を得ることができる。また、製造工程が簡単になり、製造コストが低減するという効果も得ることができる。

【0071】

図１１は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第４実施形態を概略的に図示した斜視図であり、図１２は、図１１の薄膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図であり、図１３は、図１１の薄膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。

【0072】

図１１ないし図１３を参照すれば、本発明の第４実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、遮断板アセンブリ１３０及びパターニング・スリット１５１を含む。

【0073】

ここで、図１１ないし図１３には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１１ないし図１３のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。

【0074】

かようなチャンバ内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００によって移送される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、多数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリ１００に対して相対的に移動するが、望ましくは、薄膜蒸着アセンブリ１００に対して、基板５００をＡ方向に移動させることができる。

【0075】

前述の第１実施形態のように、本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００では、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリ１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うために、パターニング・スリットシート１５０のＸ軸方向への幅、及び基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成すれば、パターニング・スリットシート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さよりはるかに短く形成されても差し支えない。もちろん、パターニング・スリットシート１５０のＸ軸方向への幅が、基板５００のＸ軸方向への幅より短く形成されても、基板５００と薄膜蒸着アセンブリ１００との相対的移動によるスキャニング方式によって、十分に基板５００全体に対して蒸着が可能である。

【0076】

このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニング・スリットシート１５０を設けることができるために、本発明のパターニング・スリットシート１５０は、その製造が容易である。すなわち、パターニング・スリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引っ張り作業及び溶接作業、移動作業及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニング・スリットシート１５０が、ＦＭＭ蒸着法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほど、さらに有利になる。

【0077】

一方、第１チャンバ内で、前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
前記蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が充填されるルツボ１１２と、このルツボ１１２を覆い包む冷却ブロック１１１とが備わる。冷却ブロック１１１は、ルツボ１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバ内部への発散を最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には、ルツボ１１１を加熱させるヒータ（図示せず）が含まれている。

【0078】

蒸着源１１０の一側、詳細には、蒸着源１１０で基板５００を向く側には、蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数個の蒸着源ノズル１２１は、等間隔に形成されうる。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、かような蒸着源ノズル部１２０の蒸着源ノズル１２１を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かうことになる。

【0079】

蒸着源ノズル部１２０の一側には、遮断板アセンブリ１３０が備えられる。前記遮断板アセンブリ１３０は、複数枚の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備えられる遮断板フレーム１３２とを含む。前記複数枚の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行して配されうる。ここで、前記複数枚の遮断板１３１は、等間隔に形成されうる。また、それぞれの遮断板１３１は、図面で見たとき、ＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、長方形に備わりうる。このように配された複数枚の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニング・スリット１５０との間の空間を複数個の蒸着空間Ｓに区画する。すなわち、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、前記遮断板１３１によって、図１３から分かるように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に、蒸着空間Ｓが分離される。

【0080】

ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１間に配されうる。これは言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１間に、１つの蒸着源ノズル１２１が配されるというのである。望ましくは、蒸着源ノズル１２１は、互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置しうる。しかし、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、互いに隣接している遮断板１３１間に、複数の蒸着源ノズル１２１が配されてもよい。ただし、その場合にも、複数の蒸着源ノズル１２１が互いに隣接している遮断板１３１間の真ん中に位置するようにすることが望ましい。

【0081】

このように、遮断板１３１が蒸着源ノズル部１２０とパターニング・スリットシート１５０との間の空間を、複数個の蒸着空間Ｓに区画することによって、１つの蒸着源ノズル１２１から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニング・スリット１５１を通過して基板５００に蒸着されるのである。すなわち、前記遮断板１３１は、各蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質を分散させずに直進性を維持させるように、蒸着物質のＸ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。

【0082】

このように、遮断板１３１を具備して蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮めることができ、従って、薄膜蒸着アセンブリ１００と基板５００とを一定程度離隔させることが可能になる。これについては、後述することとする。

【0083】

一方、前記複数枚の遮断板１３１の外側には、遮断板フレーム１３２がさらに備わりうる。遮断板フレーム１３２は、複数枚の遮断板１３１の側面にそれぞれ備わり、複数枚の遮断板１３１の位置を固定すると同時に、蒸着源ノズル１２１を介して排出される蒸着物質をＹ軸方向に分散させないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。

【0084】

前記蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０は、一定程度離隔されたことが望ましい。これにより、蒸着源１１０から発散する熱が遮断板アセンブリ１３０に伝導することを防止できる。しかし、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０との間に、適切な断熱手段が備わる場合、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリ１３０とが結合されて接触してもよい。

【0085】

一方、前記遮断板アセンブリ１３０は、薄膜蒸着アセンブリ１００から着脱自在に形成されうる。本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００では、遮断板アセンブリ１３０を利用して蒸着空間を外部空間と分離したので、基板５００に蒸着されていない蒸着物質は、ほとんど遮断板アセンブリ１３０内に蒸着される。従って、遮断板アセンブリ１３０を薄膜蒸着アセンブリ１００から着脱自在に形成し、長時間の蒸着後に、遮断板アセンブリ１３０に蒸着物質が多くたまれば、遮断板アセンブリ１３０を薄膜蒸着アセンブリ１００から分離し、別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。かような構成を介して、蒸着物質リサイクル率を上げることによって、蒸着効率が向上し、製造コストが節減されるという効果を得ることができる。

【0086】

一方、蒸着源１１０と基板５００との間には、パターニング・スリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備わる。前記フレーム１５５は、ほぼ窓ワクのような形態に形成され、その内側に、パターニング・スリットシート１５０が結合される。そして、パターニング・スリットシート１５０には、Ｘ軸方向に沿って複数個のパターニング・スリット１５１が形成される。各パターニング・スリット１５１は、Ｙ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化されて蒸着源ノズル１２１を通過した蒸着物質１１５は、パターニング・スリット１５１を通過し、被蒸着体である基板５００側に向かう。

【0087】

前記パターニング・スリットシート１５０は、金属薄板で形成され、引っ張られた状態でフレーム１５５に固定される。前記パターニング・スリット１５１は、ストライプタイプで、パターニング・スリットシート１５０にエッチングを介して形成される。

【0088】

ここで、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、蒸着源ノズル１２１の総個数より、パターニング・スリット１５１の総個数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２枚の遮断板１３１間に配された蒸着源ノズル１２１の個数より、パターニング・スリット１５１の個数がさらに多く形成される。前記パターニング・スリット１５１の個数は、基板５００に形成される蒸着パターンの個数に対応するようにすることが望ましい。

【0089】

一方、前述の遮断板アセンブリ１３０とパターニング・スリットシート１５０は、互いに一定程度離隔されるように形成され、遮断板アセンブリ１３０とパターニング・スリットシート１５０は、別途の第２連結部材１３３によって互いに連結されうる。詳細には、高温状態の蒸着源１１０によって、遮断板アセンブリ１３０の温度は、最大１００℃以上上昇するために、上昇した遮断板アセンブリ１３０の温度が、パターニング・スリットシート１５０に伝導しないように、遮断板アセンブリ１３０とパターニング・スリットシート１５０とを一定程度離隔させる。

【0090】

前述のように、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように、薄膜蒸着アセンブリ１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニング・スリットシート１５０は、基板５００から一定程度離隔されるように形成される。そして、パターニング・スリットシート１５０と基板５００とを離隔させる場合に発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニング・スリットシート１５０との間に遮断板１３１を具備し、蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮小させることができる。

【0091】

従来のＦＭＭ蒸着法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、そのように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触によって、基板にすでに形成されていたパターンが引っ掻かれるような不良問題が発生する問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させられないために、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。従って、ディスプレイ装置が大型化されることによって、マスクのサイズも大きくならなければならないなが、かような大型マスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。

【0092】

かような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００では、パターニング・スリットシート１５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔されるように配する。これは、遮断板１３１を具備し、基板５００に生成される陰影が小さくなるようになることによって実現可能になる。

【0093】

かような本発明によって、パターニング・スリットシートを基板より小さく形成した後、このパターニング・スリットシートを基板に対して相対移動させることによって、従来のＦＭＭ法のように大きいマスクを製作しなければならない必要がなくなったのである。また、基板とパターニング・スリットシートとの間が離隔されているために、相互接触による不良を防止するという効果を得ることができる。また、工程で、基板とパターニング・スリットシートとを密着させる時間が不要であるために、製造速度が速まるという効果を得ることができる。

【0094】

前記薄膜蒸着アセンブリ１００で蒸着源１１０は、図１４Ａ及び図１４Ｂから分かるように、蒸着がなされる第１チャンバ７３１に連結されたソースチャンバ１１３に収容されうる。

【0095】

すなわち、蒸着がなされる第１チャンバ７３１には、別途のソースチャンバ１１３が連結され、このソースチャンバ１１３と第１チャンバ７３１との間は、高真空弁１１８を介して開閉されるようにする。
蒸着が終わり、蒸着源１１０に蒸着物質を再充填するためには、第１チャンバ７３１内を大気圧にベント（vent）しなければならない。ところで、このように、第１チャンバ７３１を大気圧にした後、再び蒸着のために真空とする場合には、時間が多くかかり、タクト（takt）時間が長くなる。

【0096】

このために、本発明の望ましい一実施形態では、前記ソースチャンバ１１３内に、蒸着源１１０を支持するステージ１１４を配し、このステージ１１４をベローズ（bellows）１１６と連結させる。このベローズ１１６の駆動によって、前記ステージ１１４が駆動し、これによって、蒸着源１１０がソースチャンバ１１３と第１チャンバ７３１との間を移動できるようになる。

【0097】

蒸着源１１０の周囲には、シャッタ１１７を配し、図１４Ａから分かるように、蒸着源１１０が第１チャンバ７３１の内部で上がったときには、ソースチャンバ１１３との連結開口を遮断し、蒸着物質によってソースチャンバ１１３内部を汚染させないようにする。蒸着が終わった後には、図１４Ｂから分かるように、シャッタ１１７を開放した状態で、ソースチャンバ１１３の内部で蒸着源１１０を下げ、高真空弁１１８で、ソースチャンバ１１３を第１チャンバ７３１に対して気密に閉鎖する。この状態で、ソースチャンバ１１３を大気圧に変更し、ソースチャンバ１１３に備わった別途のドア（図示せず）を開け、蒸着源１１０をソースチャンバ１１３外に取り出し、蒸着物質を再充填する。かような構造によって、第１チャンバ７３１全体が排気されずとも、簡単に蒸着源１１０に蒸着物質を充填させられる。

【0098】

一方、前記のような薄膜蒸着アセンブリ１００は、図４から分かるように、第２支持台６１４に装着されうる。このとき、第２支持台６１４には、第２駆動部６１８が位置し、この第２駆動部６１８は、薄膜蒸着アセンブリ１００のフレーム１５５に連結され、基板５００と薄膜蒸着アセンブリ１００とのアラインのために、薄膜蒸着アセンブリ１００の位置を微細調整させる。かようなアラインのための微細調整は、蒸着がなされる間、リアルタイムで可能である。

【0099】

かような基板５００と薄膜蒸着アセンブリ１００とのアラインのために、前記薄膜蒸着アセンブリ１００には、図１１及び図１３から分かるように、アライン用カメラ・アセンブリ１７０を具備できる。このカメラ・アセンブリ１７０は、フレーム１５５に形成された第１マーク１５９と、基板５００に形成された第２マーク５０１とをリアルタイムでアラインさせる。

【0100】

前記カメラ・アセンブリ１７０は、図１５から分かるように、蒸着が進行中である真空チャンバ内で、円滑な視野確保を行えるように備えられる。すなわち、図１５から分かるように、円筒形フード１７１内に、カメラ１７２が配され、このカメラ１７２とフード１７１の開口１７６間には、レンズを含む光学系１７３が配される。そして、光学系１７３と開口１７６との間には、ヒーティング・パターン１７５が形成された保護ウインドー１７４が配される。ヒーティング・パターン１７５によって蒸着が進められる間、保護ウインドー１７４表面に有機物を成膜させないようにする。これによって、蒸着が進められる間にも、真空チャンバ内で保護ウインドー１７４を介して、カメラ１７２がアラインを知ることができる。

【0101】

図１６は、本発明の薄膜蒸着アセンブリの第５実施形態を概略的に図示した斜視図である。

【0102】

図１６に図示された実施形態に係わる薄膜蒸着アセンブリ１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、第１遮断板アセンブリ１３０、第２遮断板アセンブリ１４０、パターニング・スリットシート１５０を含む。
ここで、図１６には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１６のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保することである。

【0103】

かようなチャンバ（図示せず）内には、被蒸着体である基板５００が配される。そして、チャンバ（図示せず）内で基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
蒸着源１１０及びパターニング・スリットシート１５０の詳細な構成は、前述の図１１による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。そして、前記第一遮断板アセンブリ１３０は、図１１による実施形態の遮断板アセンブリと同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。

【0104】

本実施形態では、第１遮断板アセンブリ１３０の一側に、第２遮断板アセンブリ１４０が備わるのである。前記第２遮断板アセンブリ１４０は、複数枚の第２遮断板１４１と、第２遮断板１４１の外側に備わる第２遮断板フレーム１４２とを含む。
前記複数枚の第２遮断板１４１は、Ｘ軸方向に沿って、互いに平行に備わりうる。そして、前記複数枚の第２遮断板１４１は、等間隔に形成されうる。また、それぞれの第２遮断板１４１は、図面で見たとき、ＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直になるように形成される。

【0105】

このように、配された複数枚の第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニング・スリットシート１５０との間の空間を区画する役割を行う。すなわち、前記第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に、蒸着空間が分離されることを１つの特徴とする。

【0106】

ここで、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１と一対一で対応するように配されうる。言い換えれば、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１とアラインされ、互いに平行に配されうる。すなわち、互いに対応する第１遮断板１３１と第２遮断板１４１は、互いに同じ平面上に位置するのである。図面には、第１遮断板１３１の幅と、第２遮断板１４１のＸ軸方向の幅とが同じであると図示されているが、本発明の思想は、これに制限されるものではない。すなわち、パターニング・スリット１５１との精密なアラインが要求される第２遮断板１４１は、相対的に薄く形成される一方、精密なアラインが要求されない第１遮断板１３１は、相対的に厚く形成され、その製造を容易にすることも可能である。

【0107】

以上で説明したような薄膜蒸着アセンブリ１００は、図１から分かるように、第１チャンバ７３１内に複数個が連続して配されうる。この場合、各薄膜蒸着アセンブリ１００，２００，３００，４００は、互いに異なる蒸着物質を蒸着するようにすることができ、このとき、各薄膜蒸着アセンブリ１００，２００，３００，４００のパターニング・スリットのパターンが互いに異なるパターンになるようにし、例えば、赤色、緑色、青色の画素を一括蒸着するような成膜工程を進めることが可能である。

【0108】

図１７は、本発明の蒸着装置を利用して製造されたアクティブ・マトリックス型有機発光表示装置の断面を図示したものである。
図１７を参照すれば、前記アクティブマトリス型の有機発光表示装置は、基板３０上に形成される。前記基板３０は、透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材または金属材によって形成されうる。前記基板３０上には、全体的にバッファ層のような絶縁膜３１が形成されている。

【0109】

前記絶縁膜３１上には、図１７から分かるような薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０とが形成される。
前記絶縁膜３１の上面には、所定パターンに配列された半導体活性層４１が形成されている。前記半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め込まれている。前記活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体で備わりうる。

【0110】

前記ゲート絶縁膜３２の上面には、前記活性層４１と対応するところに、ＴＦＴ４０のゲート電極４２が形成される。そして、前記ゲート電極４２を覆うように、層間絶縁膜３３が形成される。前記層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングのようなエッチング工程によって、前記ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングしてコンタクトホールを形成させ、前記活性層４１の一部を露出させる。

【0111】

その次に、前記層間絶縁膜３３上に、ソース／ドレイン電極４３が形成されるが、コンタクトホールを介して露出された活性層４１に接触するように形成される。前記ソース／ドレイン電極４３を覆うように、保護膜３４が形成され、エッチング工程を介して、前記ドレイン電極４３の一部を露出させる。前記保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために別途の絶縁膜をさらに形成することもできる。

【0112】

一方、前記有機発光素子６０は、電流の流れによって、赤色、緑色、青色の光を発光させて所定の画像情報を表示するためのものであって、前記保護膜３４上に、第１電極６１を形成する。前記第１電極６１は、ＴＦＴ ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。
そして、前記第１電極６１を覆うように、画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に、所定の開口６４を形成した後、この開口６４で限定された領域内に、有機発光膜６３を形成する。有機発光膜６３上には、第２電極６２を形成する。

【0113】

前記画素定義膜３５は、各画素を区画するものであり、有機物で形成され、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護層３４の表面を平坦化する。
前記第１電極６１と第２電極６２は、互いに絶縁されており、有機発光膜６３に互いに異なる極性の電圧を加え、発光を行わせる。

【0114】

前記有機発光膜６３は、低分子または高分子の有機物が使われうるが、低分子有機物を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：hole injection layer）、ホール輸送層（ＨＴＬ：hole transport layer）、発光層（ＥＭＬ：emission layer）、電子輸送層（ＥＴＬ：electron transport layer）、電子注入層（ＥＩＬ：electron injection layer）などが、単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などを始めとして多様に適用可能である。それら低分子有機物は、図１ないし図１６から分かるように、蒸着装置及び蒸着源ユニットを利用し、真空蒸着の方法で形成されうる。

【0115】

かような有機発光膜を形成した後には、第２電極６２を、やはり同じ蒸着工程で形成できる。
一方、前記第１電極６１は、アノード電極の機能を行い、前記第２電極６２は、カソード電極の機能を行えるが、それら第１電極６１と第２電極６２との極性は、反対になってもよいことは、言うまでもない。そして、第１電極６１は、各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第２電極６２は、あらゆる画素を覆うように形成されうる。

【0116】

前記第１電極６１は、透明電極または反射型電極で備わりうるが、透明電極として使われるときには、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、ＺｎＯ、またはＩｎ_２Ｏ_３で備わり、反射型電極として使われるときには、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びそれらの化合物で反射層を形成した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ_２Ｏ_３で透明電極層を形成できる。このような第１電極６１は、スパッタリング法などによって成膜された後、フォトリソグラフィ法などによってパターニングされる。

【0117】

一方、前記第２電極６２も、透明電極または反射型電極で備わりうるが、透明電極として使われるときには、この第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数が小さい金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物が有機発光膜６３の方向を向くように蒸着した後、その上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ_２Ｏ_３などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われるときには、前記のＬｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ及びそれらの化合物を全面蒸着して形成する。このとき、蒸着は、前述の有機発光膜６３の場合と同様の方法で行うことができる。

【0118】

キャパシタ５０は、互いに対向した下部電極５１及び上部電極５２を含む。
本発明は、以上以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無機膜などの蒸着にも使用でき、その他、多様な素材の成膜工程に適用可能である。
本発明は、図面に図示された実施形態を参考にして説明したが、それらは、例示的なものに過ぎず、本技術分野の当業者であるならば、それらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解することができるであろう。従って、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決まるものである。

【符号の説明】

【0119】

３０ 基板
３１ 絶縁膜
３２ ゲート絶縁膜
３３ 層間絶縁膜
３４ 保護膜
３５ 画素定の膜
４０ ＴＦＴ
４１ 活性層
４２ ゲート電極
４３ ソース／ドレイン電極（ドレイン電極）
５０ キャパシタ
５１ 下部電極
５２ 上部電極
６０ 有機発光素子
６１ 第１電極
６２ 第２電極
６３ 有機発光膜
１００ 薄膜蒸着アセンブリ（第１薄膜蒸着アセンブリ）
１１０ 蒸着源
１１１ 冷却ブロック
１１２ ルツボ
１１３ ソースチャンバ
１１５ 蒸着物質
１１６ ベローズ
１１７ シャッタ
１１８ 高振動弁
１２０ 蒸着源ノズル部
１２１ 蒸着源ノズル
１２１ａ 第１列の蒸着源ノズル
１２１ｂ 第２列の蒸着源ノズル
１３０ 遮断板アセンブリ（第１遮断板アセンブリ）
１３１ 遮断板（第１遮断板）
１３２ 遮断板フレーム（第１遮断板フレーム）
１３３ 第２連結部材
１３５ 第１連結部材
１４０ 第２遮断板アセンブリ
１４１ 第２遮断板
１４２ 第２遮断板フレーム
１５０ パターニング・スリットシート
１５１ パターニング・スリット（第１薄膜蒸着アセンブリのパターニング・スリット）
１５５ フレーム
１５９ 第１マーク
１７０ カメラ・アセンブリ
１７１ 円筒型フード
１７２ カメラ
１７３ 光学系
１７４ 保護ウインドー
１７５ ヒーティング・パターン
１７６ 開口
２００ 第２薄膜蒸着アセンブリ
２５１ 第２薄膜蒸着アセンブリのパターニング・スリット
３００ 第３薄膜蒸着アセンブリ
３５１ 第３薄膜蒸着アセンブリのパターニング・スリット
４００ 第４薄膜蒸着アセンブリ
５００ 基板
５０１ 第２マーク
６００ 静電チャック
６０１ 本体
６０２ 電極
６１０ 第１循環部
６１１ 第１キャリア
６１３ 第１支持台
６１４ 第２支持台
６１５ 移動台
６１６ 第１駆動部
６１７ ローラ
６１８ 第２駆動部
６２０ 第２循環部
６２１ 第２キャリア
６２３ 第３支持台
７１０ ローディング部
７１２ 第１ラック
７１４ 導入ロボット
７１６ 導入室
７１８ 第１反転室
７１９ 第１反転ロボット
７２０ アンローディング部
７２２ 第２ラック
７２４ 搬出ロボット
７２６ 搬出室
７２８ 第２反転室
７２９ 第２反転ロボット
７３０ 蒸着部
７３１ 第１チャンバ
７３２ 第２チャンバ
Ｓ 蒸着空間

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14A】

【図14B】

【図15】

【図16】

【図17】